高分子处理剂制造技术

技术编号:16384414 阅读:60 留言:0更新日期:2017-10-16 00:07
本发明专利技术提供一种包含具有亲水性聚合物链段和疏水性聚合物链段的嵌段共聚物的高分子处理剂。该高分子处理剂不仅适用于头发的护理,还能够适用于包含睫毛和眉毛的体毛的护理,即使是极微量的使用,也能够在不使用硅酮成分的情况下提高毛发的物理强度。对于受损发能够特别显著地发挥该强度提高作用。

Polymer treatment agent

The present invention provides a polymeric agent comprising a block copolymer having hydrophilic polymer segments and hydrophobic polymer segments. Nursing care of the polymer processing agent is not only suitable for hair care, but also can be applied to include eyelash and eyebrow hair, even use a trace, but also can improve the physical strength of the hair in the case without the use of silicone components. For the damaged hair, it can play a significant role in improving the intensity.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】高分子处理剂
本专利技术涉及一种聚合物微团材料的嵌段共聚物作为新用途的毛发用的高分子处理剂。对于被用于药物送达用的高分子微团的材料的嵌段共聚物,提供一种超越关于其技术适用性的现有概念的新用途。
技术介绍
具有来自聚乙二醇的亲水性聚合物链段和来自聚氨基酸的疏水性聚合物链段的嵌段共聚物在水性溶剂(例如血液)中,由于聚合物之间的疏水性相互作用,形成内壳部分具有疏水性区域的聚合物微团结构。关于使用了该嵌段共聚物的聚合物微团技术,已研究了以下技术:利用由于疏水性相互作用产生的微团形成机理,将难水溶性的抗癌剂以能够缓释的状态保持在微团内,由此能够进行利用难水溶性药物的可溶化的静注投与,同时能够增加在血液中的药物滞留性(专利文献1)。另外,这样的聚合物微团技术也适用于作为难水溶性药物的、也是美白成分的一种的桧木醇(hinokitiol),被应用于通过使药物在皮肤角质层内长期滞留、可以增大美白作用的有效利用性的经皮化妆品组合物(专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本专利第2777530号公报专利文献2:国际公开第2008/026776号
技术实现思路
专利技术所要解决的课题本专利技术的主要目的之一在于:对于被用于作为药物送达用的高分子微团的材料的嵌段共聚物,提供一种超越关于其技术适用性的现有概念的新用途。用于解决课题的方法聚合物微团技术是无论在医药品用途还是在化妆品等非医药品用途中,为了通过提高滞留性将内包成分持续地提供给对象物(活体组织)的技术。在聚合物微团的
中,在投与聚合物微团后立即会被积极地去除的环境下的使用(例如,对皮肤涂布聚合物微团溶液后立即进行清洗)被认为是会显著损坏其技术价值的情况。如此,在聚合物微团
中,具有以下的现有概念:应当避免在刚使用后聚合物微团有可能会被物理地去除的“非稳定的环境”下的使用,为了发挥其技术价值,其使用应限制在原理上稳定的环境下。本专利技术人发现,对于被用于作为高分子微团的材料的嵌段共聚物,特意将该嵌段共聚物或高分子微团作为在可能会被物理地去除的“非稳定的环境”下使用的毛发用的处理剂的成分而利用时,能够大幅提高毛发的物理强度,并且即使经过非稳定的环境的一例的清洗操作后也能够维持该强度提高作用,以致完成本专利技术。本专利技术提供包含具有亲水性聚合物链段和疏水性聚合物链段的嵌段共聚物的毛发用的高分子处理剂。专利技术效果根据本专利技术,提供一种即使是极微量的使用,进而即使不使用硅酮成分,也能够提高毛发的物理强度的毛发用的高分子处理剂。具体实施方式毛发用的高分子处理剂包含具有亲水性聚合物链段和疏水性聚合物链段的嵌段共聚物。嵌段共聚物中,亲水性聚合物链段可以为来自聚乙二醇的链段,疏水性聚合物链段可以为来自聚氨基酸的链段。关于亲水性聚合物链段与疏水性聚合物链段,其主链的末端彼此可以通过共价键结合。亲水性聚合物链段的重复单元数能够设定为例如20个以上,另外例如45个以上,能够设定为例如1000个以下,另外例如700个以下,另外例如450个以下。亲水性聚合物链段的分子质量能够设定为例如1,000Da以上,另外例如2,000Da以上,另外例如5,000Da以上,能够设定为例如40,000Da以下,另外例如30,000Da以下,另外例如20,000Da以下。疏水性聚合物链段的重复单元数能够设定为例如10个以上,另外例如20个以上,能够设定为例如200个以下,另外例如100个以下,另外例如60个以下。疏水性聚合物链段的分子质量能够设定为例如1,000Da以上,另外例如2,000Da以上,能够设定为例如30,000Da以下,另外例如16,000Da以下,另外例如10,000Da以下。嵌段共聚物中的疏水性聚合物链段可以处于例如在其重复单元中具有烷基侧链氨基酸或芳烷基侧链氨基酸的残基的状态。作为该烷基侧链氨基酸,能够例示丙氨酸、缬氨酸、亮氨酸和异亮氨酸。作为该芳烷基侧链氨基酸,能够例示苯基丙氨酸。具有2个以上的烷基侧链氨基酸和/或芳烷基侧链氨基酸的残基的情况下,这些可以是相同的氨基酸残基,也可以是2种以上的不同的烷基侧链氨基酸和/或芳烷基侧链氨基酸的残基混合存在。相对于疏水性聚合物链段的全部重复单元的烷基侧链氨基酸或芳烷基侧链氨基酸的残基比率没有限定,可以为例如20%以上,另外例如35%以上,另外例如40%以上,另外例如50%以上,另外例如80%以上,另外例如95%以上,另外例如99%以上,另外例如100%。相对于亲水性聚合物链段的分子质量100%的疏水性聚合物链段的分子质量能够设定为例如10%以上,另外例如20%以上,能够设定为例如400%以下,另外例如300%以下。作为嵌段共聚物的结构式的一例,可以列举以下通式(I)和(II)。通式(I)和(II)中,R1和R3分别独立地为氢原子、C1-6烷氧基、芳基氧基、芳基C1-3氧基、氰基、羧基、氨基、C1-6烷氧基羰基、C2-7酰胺基、三-C1-6烷基硅氧基、硅氧基、硅烷基氨基,R2为氢原子、饱和或不饱和的C1~C29脂肪族羰基或芳基羰基,R4为羟基、饱和或不饱和的C1~C30脂肪族氧基或芳基-低级烷基氧基。通式(I)和(II)中,R5和R6分别独立地表示氨基酸的侧链。其中,n个重复单元之中的50%以上、另外例如80%以上、另外例如95%以上、另外例如99%以上、另外例如100%为碳原子数1~8的烷基侧链或芳烷基侧链。R5和R6之中的不是碳原子数1~8的烷基侧链或芳烷基侧链的氨基酸侧链可以是具有OH基或COOH基的亲水性基团。通式(I)和(II)中,m为例如20以上、另外例如45以上的整数,为例如700以下、另外例如450以下的整数。n为例如10以上,另外例如20以上的整数,为例如200以下、另外例如100以下、另外例如60以下的整数。通式(I)和(II)中,L1为选自-NH-、-Z-NH-、-Z-和-Z-S-Z-NH-(其中,Z独立地为C1~C6亚烷基)的连接基团,L2为选自-Z-、-CO-Z-CO-、-Z-CO-Z-CO-、-NH-CO-Z-CO-和-Z-NH-CO-Z-CO-(其中,Z独立地为C1~C6亚烷基)的连接基团。作为嵌段共聚物的结构式的其他例子,可以列举以下通式(III)和(IV)。通式(III)和(IV)中,R1、R2、R3、R4、m、L1和L2的定义与通式(I)和(II)中的定义相同。通式(III)和(IV)中,R7为-O-或-NH-,R8为氢原子、苯基、苄基、-(CH2)4-苯基、未取代的或者被氨基或羰基取代的C4~C16烷基、或、固醇衍生物的残基,R9为亚甲基。通式(III)和(IV)中,n1为10~200的范围的整数,n2为0~200的范围的整数(其中,n2为1以上的情况下,(COCHNH)的单元与(COR9CHNH)的单元无规地存在,n2为2以上的情况下,R8在1个嵌段共聚物内的各个氨基酸单元中各自独立地选择,无规地存在,但R8为氢原子的情况是R8全部的75%以下),y为1或2。作为嵌段共聚物的结构式的其他例子,可以列举以下通式(V)和(VI)。通式(V)和(VI)中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、L1和L2的定义与通式(I)和(II)中的定义相同,R7、R8、R9和y的定义与通式(III)和(IV)中的定义相同。通式(V)本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种毛发用的高分子处理剂,其特征在于:包含具有亲水性聚合物链段和疏水性聚合物链段的嵌段共聚物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.27 JP 2015-0392691.一种毛发用的高分子处理剂,其特征在于:包含具有亲水性聚合物链段和疏水性聚合物链段的嵌段共聚物。2.如权利要求1所述的高分子处理剂,其特征在于:还包含溶剂。3.如权利要求2所述的高分子处理剂,其特征在于:所述溶剂为水性介质或非水性介质。4.如权利要求2或3所述的高分子处理剂,其特征在于:所述嵌段共聚物的分子的至少一部分在所述溶剂中处于相互分离的状态。5.如权利要求2或3所述的高分子处理剂,其特征在于:所述嵌段共聚物的分子的至少一部分在所述溶剂中处于形成了高分子微团的状态。6.如权利要求5所述的高分子处理剂,其特征在于:所述溶剂为水性介质,所述嵌段共聚物的分子处于以亲水性聚合物链段朝向外侧、疏水性聚合物链段朝向内侧的状态呈放射状排列、形成了高分子微团的状态。7.如权利要求1~6中任一项所述的高分子处理剂,其特征在于:其为受损发再生剂。8.如权利要求1~7中任一项所述的高分子处理剂,其特征在于:以超过0质量%且1质量%以下的范围含有所述嵌段共聚物。9.如权利要求8所述的高分子处理剂,其特征在于:以超过0...

【专利技术属性】
技术研发人员:石井健太小久保美穗中冨一郎加藤泰己加藤佐季子
申请(专利权)人:那野伽利阿株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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