水下防污涂料组合物以及水下构造制造技术

提供了一种水下防污涂料组合物。该涂料组合物含有与熔点至多为３５℃的水不溶性离子液体混合的非硅树脂。

【技术实现步骤摘要】
水下防污^f^且^以^^下构造 牀领域本专利技术涉及使用离子液体作为其防污剂的含有非^"脂的水下防污^fi且该组*是^^性的并且具有"^:防污作用。更特别的，本专利技术涉及含 有非^t脂的7jc下防污;^M且合物，期Mf的适用于涂^t&舶、港口设备、浮 标、管道、桥梁、离岸支架、离岸石油钻塔、发电厂管线、水产用网、鱼塘网、 沟渠以及排水沟(其在下文中称为"7jc下构造")，从而防止其表面上的沾污和 水生有才;i^的生长，以^JU该水下防污:^M且^^涂覆的水下构造。背景狄水下构造上的污染和水生有才脉生长的问题可以通itiMl含有有毒防污剂该防污涂^^且合物能够^^上防止污染和水生有才g生长，#其生产和涂覆 中所^^^^且*中有毒防污剂的^^^1出了环嫂^问题，并且，在水中 有毒防污剂^^中，的洗出导致了长期的水污g险。同时，其中加入离子液体的室温可固^^m^^已被日本专利申请延^//Hf第2006-83211号7^f(专利文献l)。该组^具有防止污染和水生有机 体生长的作用，该组^M^殳有有毒的防污剂。然而，该含有>^^的糾的 强度不足，该涂料在物理撞击下容易碎裂，并JL7JC生有枳M没有J^的同样 地方污染并开始生长。
技术实现思路
考虑到上述情况，已经完成了本专利技术，本专利技术的目的是提供涂覆水下构造 的水下防污;^i且^b,期^的适用于防止水下构ii4面的污染和7jc生生物 的生长，其显示出了良好的持久性作用和^ii的涂层强度，并iU^决了环^^安 全问题。另一目的是提供用该水下防污:^WL^涂覆的7JC下构造。本专利技术的专利技术人为实ILh述目的进行了透彻的研究，发m过使用非， 脂作为粘^'J涂层强度可得到^ii，并可通ii^多种离子液体中选择具有至多 35'C熔点的水不溶性离子液体，使防止污染和7jc生有才脉生长的作用的持续时间延长。本专利技术e^tb^现的^ij上得以实现。因此，本专利技术提供了下述的水下防净;^^且#和水下构造。水下防污^H且杨，含有与至多35TC熔点的7Jor;溶性离子液体^給的非樹脂。根据所述的水下防污涂^fi且合物，其中非珪树脂选自氯乙烯共聚物 树脂、氯^#1^树脂、氯^#烃树脂、丙烯酸类树脂和苯乙烯-丁二烯共聚物树脂。才娥或所述的水下防污^^且杨，其中7jof;溶性离子液^"有一130。C到30匸的熔点。才娘到 ^""项所述的水下防污'^M且^^，其中7jc^溶f生离子液体是由通式(i)表示的含有季铵阳离子和阴离子r的物质，R、 f . y- (i)其中W独立表示l^子或含有1到20个^^^子的有才A^团，其中由W表示的两个有机基团可以共同表示环水结构。根據所述的水下防污涂^^且合物，其中式(1)中的Ri为各自含有1 到20个^f、子的单价链团或^Jj^&团，或者两个Ri-"^示含有2到 10个^^子的烯絲团或者由-(CH2) a-0- (CH2) b-表示的二价有才膝团，其中 a和b分另'J^^示1 ，J 5的M,附带^H^是a+b是4至'j 10的^t。才^t或所述的水下防污j^^且合物，其中由式(1) R、fT;良示的季铵阳离子AI旨肪族氮阳离子。根椐到任一项所述的7jc下防污涂^^且合物，其中式(l)中的阴 离子r是AlCl" C1(V、 BF" FeCl" (C线)2N"、 C跳—或PF"才娥到^-项所述的水下防污^^且#，其中式(l)中的阴 离子r是(CF3S02) 2K、 cf3so3-、 pf卩或才娥到项所述的水下防污^^且^，其中7pf;溶l"生离子液体以i到20。/。重量的量掺';^j'J水下防污j^^且合物中。 到 ^-"项所迷的7jc下防:^;^a^b涂覆的7K下构造。专利技术^本专利技术的水下防污^M且絲显示出^r^性、組的涂层强度、以及絲抗污作用持续时间。当通it^覆这种^H且賴制备水下构造时，防止了表面上的污染和水生有机体的生长，并iL^面显示出长时间段的这种作用。同时避 免了环^^;^问题。本专利技术的水下防污^H且杨含有与熔点至多高至35匸的7jof;溶性离子液 体齡的非執脂。本专利技术中使用的非>^#脂在基体表面形成涂层，并且可以^^]在制名^^有 氧化亚铜或有^^的传统水下防污;!^^且*时常用的树脂。可例举的用于涂 ^^且合物配方的这种树脂包括氯乙烯共聚物树脂如氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物 树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-乙烯#*聚物树脂、氯乙烯-乙烯异丁JJ^共聚物树脂、以4乙烯-丙酸乙烯酯共聚物树脂，氯^^^树脂，氯"^^烃树脂，丙烯 酸类树脂如(甲基)丙烯酸酯共聚物树脂和甲^^ (曱基)丙烯酸甲城酯， 以M乙烯-丁二彿共聚物树脂。本专利技术使用的离子液体是关键的组分，其^ M^专利技术中对于防止污^着重 要的作用。离子液体是在室温下为液体的熔盐，H^皮称为室温熔盐。熔点通常至多为35。C，伏i^-130r到30X:，更^it-100^C到30。C，以^^o^i^-50X: 到20。C。该离子液体没有蒸气压(即不挥发性)，并iLi^示出高的耐热性、不 燃性和化学稳定性。当熔点高于上面限定的范围时，^^^中的^ft性会不 足，并且接下来，防污作用不fW线分发挥。jtl^卜，的离子液体应当是7jc^溶f生离子液体以延长防污作用的持续时间。本专利技术伏选使用的离子液体是包含由通式(1)表示的季铵阳离子和阴离子r的物质，R、r y- (i)其中W独立表示氬原子或含有i到20个^f、子的有才;u&团，其中由R表示的两 个有机基团可以共同表示环水结构。悠:Ji^4团，以;5i^特别的，^i^团如甲基、乙基、丙基、丁基、錄、己 基、环己基、和絲，芳脉团如苯基、曱苯基、二甲苯基、和萘基，芳絲基团如苯甲絲苯乙基，；^Jitt^团如乙絲乙基。如果需要，由W表示 的两个有机基团可以共同表示^^构，在这种情况下，两个W共同表示二价 有才膝团。该二价有才遞团的骨架可以只含有^^子(即^i^含有2到10,更子。一^^子是- (CH2)a-0- (CH2)b-其中a和b分别是l到5的m，附 带餅是a + b为4到10的微。由式(1) R、N+表示的季铵阳离子的例子包括脂肪族氮阳离子、脂环族氮阳 离子、和芳族氮阳离子(p比咬镇、歧嚷镇、p比唤镇、咪哇镇、吡唑镇、鳴喳镇 和三唑镇)。阴离子系Y—没有特别的限制，例子包括AICI,、 C1(V、 BF4—、 FeCl4-、 (CF3S02) 2N"、 CF3S03>PF"最她的阴离子包括CF3S02) 2N"、 CF3S(V、 PF卩和其可以给予离子液体7j^溶的',。由通式(1)表示具有至多35"C熔点(mp)的离子液体的例子包括下面的系列。<formula>formula see original document page 7</formula>Me表示曱基。上述离子'液^^优选以1 -20%重量，和更怖tl -10%重量掺^^水下防污:^^且歸中。过量的掺混离子液縣经济上是不利的，同时掺混不足可能导 致防污，J^贡的不;Lo剂、颜桥溶剂。-、，0 、 '' '、、例举可使用的增塑剂包括邻苯二甲酸酯增塑剂如邻苯二甲酸二辛酯，邻苯 二甲酸二甲酯，和邻笨二甲酸^^Sf己基酯；脂肪族二元酸本文档来自技高网...

【技术保护点】
水下防污涂料组合物，含有与熔点至多高达３５℃的水不溶性离子液体混合的非硅树脂。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：池野正行，坂本隆文，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]