一种TFT‑LCD显示屏用高透过率导电玻璃制造技术

本发明专利技术公开了一种TFT‑LCD显示屏用高透过率导电玻璃，包括玻璃基板、依次设置于玻璃基板上表面的二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，所述氧化铟锡镀膜层表面通过磁控溅射的方法设置有APC金属导电膜层，所述APC金属导电膜层上表面设置有OC绝缘保护膜层。本发明专利技术的生产方法通过二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层将玻璃的反射率有效控制在1％以下，透光率控制在90％左右，使得生产的产品表面细腻均匀，平整度高，同事本发明专利技术的TFT‑LCD显示屏用高透过率导电玻璃投入低、技术难度不高，可满足大批量的生产要求。

A TFT LCD display with high transmittance conductive glass

The invention discloses a TFT LCD display with high transmittance conductive glass comprises a glass substrate, are arranged on a glass substrate on the surface of the silica coated layer and the indium tin oxide coating layer, wherein the indium tin oxide film surface by magnetron sputtering method is provided with APC metal conductive layer, wherein the metal APC conductive layers are formed on the surface of OC insulation protection film. The production method of the invention through the silica coated layer and the indium tin oxide coating layer will effectively control the reflectivity of the glass below 1%, the transmittance of about 90% in the control, the production of the product surface fine and uniform, high flatness, the invention of the TFT colleagues LCD display with high transmittance conductive glass of low investment, technical difficulty is not high, which can meet the requirement of mass production.

【技术实现步骤摘要】
一种TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃
本专利技术涉及TFT-LCD显示屏
，具体涉及一种TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃。
技术介绍
现有触摸屏保护玻璃(厚度在1.5mm以下)基片的生产，主要是用浮法或溢流下拉法生产出的原片，通过数控玻璃雕刻机或其它方法对原片进行开片，即根据基片所需的尺寸对原片进行切割，切割下来的玻璃片即为基片；而原片的生产一般是：玻璃原料在熔窑中熔化成玻璃液，玻璃液在金属液面上自摊平，展开，再经机械拉引挡边和接边机的控制，形成所需要的玻璃带，然后，经过渡辊合，进入退火及冷却，经冷却的玻璃带通过切割等工序成为原片成品。用该种方法生产现有触摸屏保护玻璃基片所存的不足是：1、原片生产投入大，每条生产线需要数亿元的投资，有较大的投资风险；2、技术难度高，尤其当原片的厚度小于1mm后，其制作难度大幅提升，现在最薄的为0.5mm，但在世界范围内也仅有一二家企业能生产；3、会产生较多的边角材料且破损率高，浪费较大，因为从一块大的原片切割成数块或数拾块基片会产生不少边角料，而且原片面积大，厚度非常薄，机械强度差，极易在切割中破损。
技术实现思路
本专利技术旨在提供了一种TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃。本专利技术提供如下技术方案：一种TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃，包括玻璃基板、依次设置于玻璃基板上表面的二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，所述氧化铟锡镀膜层表面通过磁控溅射的方法设置有APC金属导电膜层，所述APC金属导电膜层上表面设置有OC绝缘保护膜层。所述二氧化硅镀膜层的厚度为82-86nm，氧化铟锡镀膜层的厚度为22-25nm。一种TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃的生产工艺，包括将TFT-LCD基板玻璃固定在夹具上，夹具安装在聚四氟乙烯制成的循环链轮的链环中间，链轮带动酸槽内TFT-LCD基板玻璃依次进行预处理、喷酸、清洗、干燥、切割各工序。所述预处理工序采用20℃-30℃的循环水加少量氢氟酸对TFT-LCD基板玻璃进行超声波清洗。所述切割工序采用线切割机，切割线的直径为0.12～0.20mm，线速度为8～15m/s，切割进刀速度0.5-0.75mm/min。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：本专利技术的生产方法通过二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层将玻璃的反射率有效控制在1％以下，透光率控制在90％左右，使得生产的产品表面细腻均匀，平整度高，同事本专利技术的TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃投入低、技术难度不高，可满足大批量的生产要求。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。实施例一种TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃，包括玻璃基板、依次设置于玻璃基板上表面的二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，所述氧化铟锡镀膜层表面通过磁控溅射的方法设置有APC金属导电膜层，所述APC金属导电膜层上表面设置有OC绝缘保护膜层。所述二氧化硅镀膜层的厚度为82-86nm，氧化铟锡镀膜层的厚度为22-25nm。一种TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃的生产工艺，包括将TFT-LCD基板玻璃固定在夹具上，夹具安装在聚四氟乙烯制成的循环链轮的链环中间，链轮带动酸槽内TFT-LCD基板玻璃依次进行预处理、喷酸、清洗、干燥、切割各工序。所述预处理工序采用20℃-30℃的循环水加少量氢氟酸对TFT-LCD基板玻璃进行超声波清洗。所述切割工序采用线切割机，切割线的直径为0.12～0.20mm，线速度为8～15m/s，切割进刀速度0.5-0.75mm/min。对于本领域技术人员而言，显然本专利技术不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本专利技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本专利技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本专利技术的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本专利技术内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种TFT‑LCD显示屏用高透过率导电玻璃，包括玻璃基板、依次设置于玻璃基板上表面的二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，其特征在于，所述氧化铟锡镀膜层表面通过磁控溅射的方法设置有APC金属导电膜层，所述APC金属导电膜层上表面设置有OC绝缘保护膜层。

【技术特征摘要】
1.一种TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃，包括玻璃基板、依次设置于玻璃基板上表面的二氧化硅镀膜层和氧化铟锡镀膜层，其特征在于，所述氧化铟锡镀膜层表面通过磁控溅射的方法设置有APC金属导电膜层，所述APC金属导电膜层上表面设置有OC绝缘保护膜层。2.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃，其特征在于：所述二氧化硅镀膜层的厚度为82-86nm，氧化铟锡镀膜层的厚度为22-25nm。3.根据权利要求1所述的一种TFT-LCD显示屏用高透过率导电玻璃的生产工艺，其特征在于：包括将TFT-LCD基板玻璃固定在夹...

【专利技术属性】
技术研发人员：白航空，
申请(专利权)人：合肥市惠科精密模具有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34