液处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种液处理装置，精度良好地放置基板、同时减少基板的下表面上的液体残留。实施方式的液处理装置具备倾斜部、多个支承构件、处理液供给部以及旋转机构。倾斜部配置于基板的下方，具有从基板的外侧朝向基板的内侧下倾且沿着基板的周向延伸的倾斜面。多个支承构件相对于倾斜面突出地设置，从下方支承基板。处理液供给部向支承到多个支承构件的基板的上表面供给处理液。旋转机构使倾斜部旋转。另外，多个支承构件具有从基板的外侧朝向基板的内侧延伸的细长形状。

Liquid treatment equipment

The present invention provides a liquid treatment device with a good accuracy for placing a substrate and reducing liquid residue on the lower surface of the substrate. The liquid processing apparatus has an inclination portion, a plurality of support members, a processing fluid supply section, and a rotating mechanism. Below the inclined part arranged on the substrate, the substrate is from outside to the inner substrate and declination of the substrate along circumferential inclined extension. A plurality of support members are provided with respect to the inclined plane, and the substrate is supported from below. The processing fluid supply section supplies a processing solution to an upper surface of a substrate supporting a plurality of support members. The rotating mechanism rotates the tilting part. In addition, the plurality of support members have elongated shapes extending from the outer side of the substrate toward the inner side of the substrate.

【技术实现步骤摘要】
液处理装置
本申请的实施方式涉及液处理装置。
技术介绍
以往，作为对半导体晶圆、玻璃基板等基板进行液处理的液处理装置，公知有单张式的液处理装置。单张式的液处理装置具备：基板保持部，其保持例如基板的外周部而使基板旋转；供给部，其向保持于基板保持部的基板的上表面供给处理液。在这样的液处理装置中，期望的是减少已供给到基板的上表面的处理液向下表面的蔓延。因此，近年来，提出了一种液处理装置，在该液处理装置中，使基板支承于沿着基板的周向延伸的倾斜面而使基板的下表面与倾斜面在基板的大致整周上接触，从而抑制处理液从基板的上表面向下表面蔓延。然而，在基板翘曲了的情况下，在基板与倾斜面之间产生微小的间隙，处理液有可能从该间隙向基板的下表面侧蔓延。因此，在上述的液处理装置中，存在在处理后的基板的下表面周缘部产生液体残留的情况。另一方面，在专利文献1中公开了一种液处理装置，其中，在倾斜面设置有多个球面状的支承构件，使用该支承构件来支承基板。具体而言，球面状的支承构件以支承基板的下表面上的、距外周缘的距离为1mm～2mm的靠中心侧的位置的方式配置。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2010-93190号本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液处理装置，其特征在于，该液处理装置具备：倾斜部，其配置于基板的下方，具有从所述基板的外侧朝向所述基板的内侧下倾且沿着所述基板的周向延伸的倾斜面；多个支承构件，其相对于所述倾斜面突出地设置，从下方支承所述基板；处理液供给部，其向支承到所述多个支承构件的所述基板的上表面供给处理液；以及旋转机构，其使所述倾斜部旋转，所述多个支承构件具有从所述基板的外侧朝向所述基板的内侧延伸的细长形状。

【技术特征摘要】
2016.03.28 JP 2016-0632101.一种液处理装置，其特征在于，该液处理装置具备：倾斜部，其配置于基板的下方，具有从所述基板的外侧朝向所述基板的内侧下倾且沿着所述基板的周向延伸的倾斜面；多个支承构件，其相对于所述倾斜面突出地设置，从下方支承所述基板；处理液供给部，其向支承到所述多个支承构件的所述基板的上表面供给处理液；以及旋转机构，其使所述倾斜部旋转，所述多个支承构件具有从所述基板的外侧朝向所述基板的内侧延伸的细长形状。2.根据权利要求1所述的液处理装置，其特征在于，该液处理装置具备从侧方把持所述基板的多个把持部，所述倾斜部具备将所述倾斜面的外周缘中的与所述多个把持部相对应的各部分去除而成的多个第1缺口部，在所述第1缺口部的两侧设置有所述多个支承构件中的两个。3.根据权利要求1或2所述的液处理装置，其特征在于，该液处理装置具备使所述基板向上方抬起而使所述基板自所述多个支承构件分离开的多个升降销，所述倾斜部具备将所述倾斜面的外周缘中的与所述多个升降销相对应的各部分去除而成的多个第2缺口部，在所述第2缺口部的两侧设置有所述多个支承构件中的两个。4.根据权利要求3所述的液处理装置，其特征在于，所述倾斜部具备垫高部，该垫高部与所述第2缺口部和设置于所述第2缺口部的两侧的两个所述支承构件连接，对位于比所述第2缺口部靠径向内侧的位置的部分进行垫高。5.根据权利要求1～4中任一项所述的液处理装置，其特征在于，所述多个支承构件沿着所述基板的径向延伸。6.根据权利要求1～4中任一项所述的液处理装置，其特征在于，所述多个支承构件具有使长度方向上的两端部中的位于所述基板的径向外侧的端部比...

【专利技术属性】
技术研发人员：毛利信彦，上塘真吾，枪光正和，广濑虎瑠，浦智仁，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP