本发明专利技术提供在树脂中的分散性良好，能够赋予树脂优异的难燃性，此外能够使从树脂中挥发的低分子硅氧烷量降低至小于１０ｐｐｍ的难燃粉体以及使用了该粉体的难燃树脂组合物。难燃树脂组合物，相对于１００质量份的热塑性树脂，配合有１０～２００质量份的下述难燃粉体。难燃粉体，其特征在于：其是利用平均组成式（１）所示的有机聚硅氧烷在加压条件下对无机难燃粉体进行混炼、表面处理而成的难燃粉体，上述有机聚硅氧烷含有２０００ｐｐｍ以下采用丙酮萃取而定量的硅原子数２～１０的低分子硅氧烷。（式（１）中，Ｒ↑［１］为选自碳原子数１～１０的一价烃基和羟基中的相同或不同的取代基。ｎ为满足有机聚硅氧烷的重均分子量１０００００～３５０００００的数）。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉;M"降低了低分子硅氧烷量的有机聚硅氧烷行了表面处理而得 到的难燃,、以及降低了低分子硅氧烷挥发量的难燃树脂组合物。
技术介绍
^^脂中酉e^了无4绅燃粉沐与有机^lu院时，发挥它们的协同^， 有时赋予树脂滑动性、难燃性、成型时的流动性等多种捧性，因此，在树用 途中，将i^摊燃糾与有机^l^同时^^。近年来作为i^绅燃旨，提出了^u aiU^美等金属iL^緣IH^的各 种技术，特别是##属氬氧化物的粉沐与有机^^烷同时使用并添加到, 经树脂等中时，报告了其难燃性大大提高(参照专利文献i ~ 8 )。但是，有机^lL^以^脂中均匀g,在通常的共混下产生#不均匀的情况多。因此，本专利技术人为了解决该问题进行了^^研究，其结果确认当相对于 ;^绅燃#^ RaSi0(4，所示的有机^^悉量，^f吏该有才几^lu^的比例 为0.1 ~小于15质量％下，利用加压型混炼4^t有机^IU^iL^燃跳通脂中添加:^a的难iiH^，能^f吏有机m^^均匀地^iM脂中，而JM^脂的难姊性大幅度提高，基于该发现，提出树脂中的^t性、难燃 性以及辦性优异的有机^|1^^^#^及其制妙法。但是，在有机聚硅氧烷制品中，由于残留有作为其原料的低沸点的低M #烷，例如在洁净室中将有机^l^制品用于制造电子器件时，由挥发的 低衬> ^|^成的绝桑絲附着在器件的1^1_11，扭e会引起电接点不良等危 害。因此需要除了在树脂中的分散性良好，能够赋与树脂优异难之外，还 能够絲减少从数脂中挥发的低分子硅氧烷量的有机硅类难燃材料。另外，为防止低衬> ^|^引起的电接点不良等危害，已有报告指出可以使^Mv^终成型树脂加工品中挥发的^^;^烷的量为10ppm以下(参照非专利文献l)。专利文献1特^>昭59-30178号/>净艮专利文献2特公昭58-55181号公报专利文献3特公平01-13730号公报专利文献4特/>^ 01-20652号公报专利文献5特^H^ 06-76524号公报专利文献6特公平05-64656号公报专利文献7特开昭62-81435号公报专利文献8特开昭62-236838号公报专利文献9特开2004-51990号/>才艮非专利文献1电子情才^1信学*尤悉C Vol. J86"^No. 3 p. 219-228 2003年3月
技术实现思路
专利技术^"解决的i^H本专利技术所要解决的i級，在于解决上述问^A，提^^M^t脂中挥发的低 M^l^量减少到小于10卯m的难燃树脂组^/。 用于解决;,的方法
本专利技术人为了解决上述^H进行了专心研究，其结果确i^:相对于100质 量份的热塑'^^"脂原料，将94质量糊^^摊燃^^6质量份的、^^"珪 氣院(鞋原子数为2 ~ 10)量为400ppm的有机^^加热混炼制得的难, 脂组合物，测定(在75。C、 IO分钟、氦气流中的加热条件下，,一-.卜，， ^^目色譜质量分析装置(P&T"GC/MS))的低衬^I^量为12. 5ppm， M目对 于100质量份的热塑4^t脂，将100质量份对94质量^jiL^燃IH^表面用 6质量份的、^^⑩院(珪原子数为2 ~ 10)量为400ppm的有机^lu^ 加压处理得到的难燃粉体加热混炼而制得的难殿才脂组合物，测定的 低^f"^^量为0. 3ppm。这意味着将斷氐了低^"^fe量的有机^tt^与其^^^H^简单 加热混炼得到的组合物，要^^^面挥发的#^%!^|^量控制到10ppm以下是困难的，但将^f氐了低^^ili^量的有机^l^口压混炼到难燃粉体中 而形成##，与热塑'I4M脂加热混炼得到的树脂组^，能够大幅度1%^#发进一步进行研究的结果，发船目对于IOO质量份的热塑性树脂，将其与10 ~ 200质量份的用^^^ i^量在2000ppffl以下的有机^l^ib^L^燃粉树脂组賴，能斷;M^脂挥k的寸^^l^量斷^小于Yoppm, 二而完^！ 了本专利技术。即，本专利技术的难Wt脂组絲，相对于100质量賴热塑'f:i^脂，西5^有 10 ~ 200质量份的下ii^燃粉參,通过该配方,可以得到标悄旨中良好的分散性， 同时可以赋予树脂组絲优异的难燃性，进一步^J^《一^'.卜，7，^目色 镨质量分析装置(P&T"GC/MS)测定在75°C、 10分钟、氦气流中加热该阻, 脂组^^而产生的^ ^f、子数为2~10的j^^ il^量时，能够使该^^硅 H^量小于10ppm。难燃粉体，其特征在于^平均组成式(1)所示的有机^lu^加压 条件下将^^摊燃1^￡#>、昆炼、表面处理而形成的难燃粉体，上述有机, ^i^含有2000ppm以下的采用丙酮萃取而定量的^^^子数为2 ~ 10的^^f"硅 緣。<formula>formula see original document page 5</formula> (式i)(式(l)中，Ri为选自^^子数l 10的"^h^^羟基中的相同或不同 的^M^。 n为满;L有4几^IU院的重均^^量100000 ~ 3500000的数)。 专利技术M本专利技术的难燃##^#脂中的分散性良好，另外能够赋予树脂优异的难燃 性，除jtb^卜能^f吏M^脂挥发的^^^^l^量减至小于10ppm。因此，在洁净室等中，能够制itiM^^^^引起的接点不良等危害的成型材料。本专利技术的上^^:，如上所述可通it^用上述有机^l^fit^燃粉 ^ii行表面处理而得到，将该it^燃糾酉給到热塑'^M脂中得到的难燃性R—SIR，o _o ，树脂组合物，能够使从树脂中挥发的低分子硅氧烷降低至小于10ppm。 具体实施例方式以下，进一步详细说明本专利技术。如前所述，本专利技术的难燃胁，是利用败的有机^IU^tib^燃粉 ^i^f亍表面处理而得到的。作为本专利技术中使用的无才摊燃粉体，可以列举氢氧化铝、氢氧化镁、三氧 化锑、五氧化锑、锑酸钠、四氧化锑、硼酸锌、锆^^物、钼化合物、碳酸钾、 二氧舰、有才;lW脂粉末、硅舰粉末、滑石、丙烯酸有才7l^末、氧條、 寿山石、石英、硅藻土、黄4itr、红铁矿、石墨、膨润土、高岭土、活性炭、 炎紫、、氧化锌、氧化铁、大^5、淀粉、械、棉绒、革粉、^#、 t木、 硅酸盐水泥、Si(X^^末、氮化硼、合成云母、玻璃珠、云母、绢云母、各种塑 硼酸锌、锡酸锌、^N^阻燃剂、膨li'f^5墨、 ^聚，、 ^ 、光氧4m等，但并不限于这些。其中特别^i^金属氢氧化物，其 中舰氬氧德和錄條。另夕卜，上述的i^绵燃旨，可以;^t理的，或者^#月旨肪酸、不 踏脂肪酸、碳酸酯4繊刑、硅烷4繊:剂、热塑'^#脂等表面处理剂处理过的。本专利技术中使用的iL^燃^^的询承平均粒陉，在使得到的难燃^^a 性良好方面她0. 01 ~ 10 jam,特别tt 0. 01 ~ 5 m血，最她0.1 ~ 3 jam。该体 积平均丰到圣可以^M!利用i一A夕一"r^f廿4if—II (乂y夕T》 3—A 夕一社制，商品名)的电阻法测定。本专利技术中使用的有机^lL烷，为下述平均组成式(1)所示的有机f^坑。<formula>formula see original docum本文档来自技高网...
【技术保护点】
难燃树脂组合物，相对于１００质量份的热塑性树脂，配合有１０～２００质量份的下述难燃粉体，该难燃粉体的特征在于：其是利用平均组成式（１）所示的有机聚硅氧烷在加压条件下对无机难燃粉体进行混炼、表面处理而成的难燃粉体，上述有机聚硅氧烷含有２０００ｐｐｍ以下的采用丙酮萃取而定量的硅原子数２～１０的低分子硅氧烷， ＊＊＊ （式１） 式（１）中，Ｒ↑［１］为选自碳原子数１～１０的一价烃基和羟基中的相同或不同的取代基，ｎ为满足有机聚硅氧烷的重均分子量为１０００００～３５０００００的数。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：井原俊明，齐藤贤司，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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