The utility model discloses a cleaning device of glass substrate, which comprises a box body, a cover plate, two spray structure and upper cover, upper cover is detachably arranged on the top of the box opening; edge forming upper cover is toward the Drainage Department inner sag, just above the Drainage Department located at the bottom of the cavity for cleaning, guide the condensation solution in the Drainage Department on the inner wall of the cavity in the cleaning down. When cleaning the substrate, even in the inner wall of the Drainage Department of condensation or injection solution, the solution time along the inner wall surface drainage of flow to the bottom, and then down to the cleaning chamber, thereby reducing the residual amount of the solution on the side wall of the cover, to protect the sealing glue between the groove and the side cover to improve the service life of the sealing, to ensure the sealing performance, the cover plate and the side groove of the opening at the top; at the same time, the solution back again into the cleaning surface of the glass substrate in the cavity to form a solution cleaning, recycling, reducing waste solution.
【技术实现步骤摘要】
一种玻璃基片的清洗设备
本技术涉及基片清洗的
,具体涉及一种玻璃基片的清洗设备。
技术介绍
在光电器件制造过程中,需要对玻璃基片进行清洗处理,现有玻璃基片清洗设备的结构大多如图1所示,该清洗设备包括箱体1,箱体1具有顶部开口和内腔,内腔中平行成型有两块隔板13,两块隔板13将内腔分割为位于两侧的侧槽11和位于两个侧槽之间的清洗腔体12;水平穿设在箱体上且相对设置的两个喷淋管41,以及位于两个喷淋管41之间的传动轴5;侧槽11的顶部开口位于两个喷淋管41之间,并在侧槽11的顶部开口上通过密封胶固定有盖板2;以及在箱体1的顶部开口上设置的圆锥形的上盖3,也即上盖3的纵向截面形状为“人”字型。在需要对玻璃基片7清洗时,玻璃基片7放置在传动轴5上,在传动轴5的带动下不断地向前移动,相对的两个喷淋管41上的喷嘴不断地向基片7的两侧表面喷清洗溶液,来对玻璃基片7的两侧表面进行清洗。但是,此结构的清洗设备,位于下方的喷淋管在向上高压喷射清洗溶液时,必然有部分的溶液喷射到现有技术“人”字形的上盖的内壁面上;同时,箱体内会有大量的水汽在上盖内壁面上凝结,在重力作用下,凝结和残留在上盖内壁面的溶液沿着上盖的内壁面和箱体的内壁面不断地滴落在侧槽的盖板上,大量溶液滴落在盖板上时,使得密封胶长期浸泡在溶液中,会影响盖板与侧槽之间的密封性能,降低其使用寿命。
技术实现思路
因此,本技术要解决的技术问题在于克服现有技术中玻璃基片的清洗设备中侧槽上的密封胶容易被损坏,盖板与侧槽之间的密封性能差的问题。为此,本技术提供一种玻璃基片的清洗设备,包括箱体,具有内腔和顶部开口,沿其长度方向,所述内 ...
【技术保护点】
一种玻璃基片的清洗设备,包括箱体(1),具有内腔和顶部开口,沿其长度方向,所述内腔中成型有平行设置的两块隔板(13),两个所述隔板(13)分别与所述箱体(1)的内壁面之间形成侧槽(11),两所述侧槽(11)之间形成清洗腔体(12);盖板(2),一一对应且通过密封胶固定在所述侧槽(11)的顶部开口上;喷淋结构,为至少两个,水平相对设置在所述清洗腔体(12)内,所述盖板(2)位于两个所述喷淋结构之间;上盖(3),可拆卸地设置在所述箱体(1)的顶部开口上;其特征在于:所述上盖(3)的边缘成型有朝向所述内腔凹陷的引流部(31),所述引流部(31)的底部位于所述清洗腔体(12)的正上方,用于引导凝结在所述引流部(31)内壁面上的溶液回落在所述清洗腔体(12)内。
【技术特征摘要】
1.一种玻璃基片的清洗设备,包括箱体(1),具有内腔和顶部开口,沿其长度方向,所述内腔中成型有平行设置的两块隔板(13),两个所述隔板(13)分别与所述箱体(1)的内壁面之间形成侧槽(11),两所述侧槽(11)之间形成清洗腔体(12);盖板(2),一一对应且通过密封胶固定在所述侧槽(11)的顶部开口上;喷淋结构,为至少两个,水平相对设置在所述清洗腔体(12)内,所述盖板(2)位于两个所述喷淋结构之间;上盖(3),可拆卸地设置在所述箱体(1)的顶部开口上;其特征在于:所述上盖(3)的边缘成型有朝向所述内腔凹陷的引流部(31),所述引流部(31)的底部位于所述清洗腔体(12)的正上方,用于引导凝结在所述引流部(31)内壁面上的溶液回落在所述清洗腔体(12)内。2.根据权利要求1所述的玻璃基片的清洗设备,其特征在于:所述引流部(31)的纵向截面形状为V形,所述V形的开口朝向外界,其底部朝向所述内腔。3.根据权利要求2所述的玻璃基片的清洗设备,其特征在于:所述V形的夹角(a)角度为130-165°。4.根据权利要求2或3所述的玻璃基片的清洗设备,其特征在于:所述上盖(3)的边缘还具有朝向所述内腔延伸的环形部(32),所述引流部(31)位于所述环形部(32)的内腔,以使所述上盖(3)的纵向截面形状为M...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭丰,洪耀,张民井,曹瑞丰,毛成飞,高裕弟,孙剑,
申请(专利权)人:枣庄维信诺电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:山东,37
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