具有高度对称四重式气体注入的等离子体反应器制造技术

一种等离子体反应器的环形盖板具有上层及下层气体分配通道，该等气体分配通道沿着相等长度路径从气体供应接线分配气体至顶部气体喷嘴的各自的气体分配通道。

【技术实现步骤摘要】
具有高度对称四重式气体注入的等离子体反应器本申请是申请日为2014年2月3日、申请号为201480003017.0，题为“具有高度对称四重式气体注入的等离子体反应器”的申请的分案申请。
本揭示案是关于用于处理工件(诸如半导体晶圆)的等离子体反应器的气体注入系统。
技术介绍
控制等离子体反应器的腔室中的处理气体分配影响等离子体处理期间工件的蚀刻速率分配或沉积速率分配的工艺控制。安装在腔室顶部上的可调谐的气体注入喷嘴可具有针对不同区域(诸如中心区域及侧面区域)的不同的注入狭缝。分离的气体输入可供应不同的注入狭缝，及单独的流动速率控制可经提供用于每一气体输入。每一气体输入可经由不同气流路径供应相对应的注入狭缝的不同部分。期望的是，出于均匀性目的，来自特定气体输入的不同气流路径具有相等长度。然而，针对所有输入及喷嘴，使得气体输入至喷嘴的路径长度相等似乎是不可能的，导致气体分配的非均匀性。
技术实现思路
用于等离子体反应室的气体传输系统中的环形盖板具有内部及外部气体注入通道的气体喷嘴。环形盖板界定中心开口及环形盖板包含：(a)第一组及第二组气体出口，耦合至内部及外部气体注入通道的各者，第一组及第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于等离子体反应器的环形盖板，所述环形盖板包含：第一组及第二组气体出口，所述第一组及第二组气体出口的每一者中的所述气体出口间隔第一弧长；气体传输块，所述气体传输块包含第一及第二气体供应通道；第一组及第二组气体分配通道，在各自的上位准及下位准中，所述第一组及第二组气体分配通道中的每一者包含：弧形气体传输通道，所述弧形气体传输通道具有连接至一对相对应的所述气体出口的一对端部；以及弧形气体供应通道，所述弧形气体供应通道包含连接至所述第一及第二气体供应通道的相对应的一者的输入端，及耦合至所述弧形气体传输通道的中间区的输出端；其中所述第一组及第二组气体出口的所述气体出口关于所述环形盖板的圆周分布，及...

【技术特征摘要】
2013.03.15 US 61/789,4851.一种用于等离子体反应器的环形盖板，所述环形盖板包含：第一组及第二组气体出口，所述第一组及第二组气体出口的每一者中的所述气体出口间隔第一弧长；气体传输块，所述气体传输块包含第一及第二气体供应通道；第一组及第二组气体分配通道，在各自的上位准及下位准中，所述第一组及第二组气体分配通道中...

【专利技术属性】
技术研发人员：Y·罗森佐恩，K·坦蒂翁，I·优素福，V·克尼亚齐克，S·巴纳，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US