【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于复合材料
，具体涉及。
技术介绍
蒙脱土在高分子中的充分剥离是实现高性能复合材料的关键技术。目前聚合物/蒙脱土复合材料的制备方法通常为以下两种一种是原位插层聚合方法，所谓原位插层法是指聚合物前驱体小分子首先插层到有机化插层处理的蒙脱土层间，在蒙脱土层间使小分子聚合，利用聚合时放出的大量热量，使蒙脱土膨胀而剥离，从而得到复合材料。另一种是熔融插层方法，所谓熔融插层法是指将熔融聚合物在高温高剪切力作用下与经过有机化插层处理的蒙脱土混炼，大分子链插入蒙脱土层间，但该方法一般只能得到插层型复合材料，较难获得完全剥离的蒙脱土复合材料。原位插层聚合技术可以获得高性能剥离型蒙脱土复合材料，但对有机插层剂及蒙脱土有较高的技术要求，原位插层聚合法的工业化投资大，周期长，不易推广应用。熔融插层法可以在一般塑料混炼设备中进行，加工方便，然而需前期先对蒙脱土进行有机化插层处理，而且有机化插层剂的热稳定差、易变色的缺陷也明显影响了复合材料，不容易得到完全剥离的蒙脱土复合材料，制约了该方法的应用。
技术实现思路
本专利技术目的是提供一种加工简单、生产成本低、应用范围广的聚酰...
【技术保护点】
一种聚酰胺／纳米蒙脱土母料的制备方法，其特征在于所述聚酰胺／纳米蒙脱土母料的组成如下：蒙脱土：１％～３０％聚酰胺：７０％～９９％所述的制备方法是用去离子水为插层剂，所述的去离子水与蒙脱土的质量比为９～１５∶１，并按以 下步骤制备：先将的蒙脱土和去离子水混合，充分分散制得蒙脱土泥浆，将泥浆逐步加入到组方量完全熔融的聚酰胺中，于２１０～３００℃温度下混炼１０～６０分钟，再经挤出造粒即得到所述的聚酰胺／纳米蒙脱土母料。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：钱欣，张宏，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：86[中国|杭州]
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