The present application describes a MEMS transducer having a flexible membrane and seeks to mitigate and / or re distribute stress within the film. A membrane having a first / active region and second / inactive region is described.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】MEMS设备和方法本专利技术涉及微机电系统(MEMS)设备和方法,具体地,涉及与换能器有关的MEMS设备和方法,所述换能器例如是电容式麦克风。多种MEMS设备正变得越来越受欢迎。MEMS换能器,尤其是MEMS电容式麦克风,越来越多地用在便携式电子设备(诸如移动电话和便携式计算设备)中。使用MEMS制造方法形成的麦克风设备通常包括一个或多个膜,其中用于读出/驱动的电极被沉积在所述膜和/或基底上。在MEMS压力传感器和麦克风的情况下,通常通过测量所述电极之间的电容来实现读出。在输出换能器的情况下,通过静电力来移动所述膜,所述静电力是通过使跨所述电极施加的电位差变化生成的。图1a和图1b分别示出了已知的电容式MEMS麦克风设备100的示意图和立体视图。电容式麦克风设备100包括一个膜层101,该膜层101形成一个柔性膜,该柔性膜响应于由声波所生成的压力差而自由移动。第一电极103机械地联接至该柔性膜,且它们一起形成电容式麦克风设备的第一电容板。第二电极102机械地联接至大体刚性的结构层或背板(back-plate)104,它们一起形成电容式麦克风设备的第二电容板。在图1a示出的实施例中,第二电极102被嵌入在背板结构104中。该电容式麦克风被形成在基底105上,该基底105例如是硅晶片,该硅晶片可以具有在其上形成的上部氧化物层106和下部氧化物层107。该基底中以及任何覆盖层中的腔108(在下文中称为基底腔)被设置在膜下方,且可以使用“背部蚀刻(back-etch)”穿过基底105来形成。基底腔108连接至定位在膜正下方的第一腔109。这些腔108和109可以共同 ...
【技术保护点】
一种MEMS换能器,包括一个膜和至少一个安装结构,所述至少一个安装结构用于相对于一个基底支撑所述膜以提供一个柔性膜,且所述MEMS换能器还包括一个或多个应力扩散结构,所述一个或多个应力扩散结构设置在所述膜中,以便使所述安装结构的区域中的应力扩散。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.01.26 US 62/107,8981.一种MEMS换能器,包括一个膜和至少一个安装结构,所述至少一个安装结构用于相对于一个基底支撑所述膜以提供一个柔性膜,且所述MEMS换能器还包括一个或多个应力扩散结构,所述一个或多个应力扩散结构设置在所述膜中,以便使所述安装结构的区域中的应力扩散。2.根据权利要求1所述的MEMS换能器,其中所述应力扩散结构包括一个延伸穿过所述膜的缝。3.根据权利要求2所述的MEMS换能器,其中所述缝的形态是弯曲的或弓形的。4.根据权利要求2或3所述的MEMS换能器,其中所述缝是C形的或U形的。5.根据任一项前述权利要求所述的MEMS换能器,所述膜包括一个中心区域和多个应力分布臂,所述多个应力分布臂从所述中心区域横向延伸。6.根据权利要求5所述的MEMS换能器,其中每个应力分布臂包括所述至少一个安装结构中的至少一个。7.根据任一项前述权利要求所述的MEMS换能器,其中多个所述安装结构被设置在所述膜的周界处或附近。8.根据权利要求5至7中任一项所述的MEMS换能器,其中所述应力分布臂相对于所述膜的所述中心区域布置为使得所述膜内的应力以受控的方式变化。9.根据权利要求5至8中任一项所述的MEMS换能器,其中所述应力分布臂围绕所述膜的所述中心区域被均匀地间隔开。10.根据权利要求5至9中任一项所述的MEMS换能器,其中所述中心区域和所述多个应力分布臂形成所述膜的第一区域,且其中所述膜还包括第二区域。11.根据权利要求10所述的MEMS换能器,其中所述换能器包括一个电极,所述电极被联接到所述膜的所述第一区域。12.根据权利要求10或11所述的MEMS换能器,还包括设置在所述膜的所述第二区域中的至少一个通气部结构。13.根据任一项前述权利要求所述的MEMS换能器,其中所述膜的形状是大体上正方形的或矩形的。14.根据任一项前述权利要求所述的MEMS换能器,其中所述膜包括:一个活性膜区域,活性区域包括多个臂,用于支撑所述活性膜区域;和多个非活性膜区域,所述多个非活性膜区域未被直接连接到所述活性膜区域。15.根据权利要求14所述的MEMS换能器,其中所述臂能够围绕所述活性膜的周界基本上均匀地散布。16.根据权利要求14或15所述的MEMS换能器,其中所述活性膜区域的所述臂包括一个或多个安装件。17.根据权利要求16所述的MEMS换能器,其中每个臂的所述安装件与所述活性膜的中心基本上等距。18.根据权利要求16所述的MEMS换能器,其中具有由所述安装件限定的周界的形状的基本上所有区域都包括膜材料。19.根据权利要求14至18中任一项所述的MEMS换能器,其中所述活性膜处于内在应力下。20.根据权利要求14至19中任一项所述的MEMS换能器,其中至少一个可变通气部结构被形成在一个非活性膜区域中。21.根据权利要求20所述的MEMS换能器,其中所述至少一个可变通气部被定位成使得所述通气部的、响应于压力差而打开的一部分覆盖一个基底腔的开口。22.根据权利要求14至21中任一项所述的MEMS换能器,其中所述换能器包括形成在膜层中的至少一个可变通气部结构,其中所述活性膜区域不包括任何可变通气部结构。23.根据权利要求14至22中任一项所述的MEMS换能器,其中用于低频压力均衡...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·L·卡吉尔,C·R·詹金斯,E·J·博伊德,R·I·拉明,
申请(专利权)人:思睿逻辑国际半导体有限公司,
类型:发明
国别省市:英国,GB
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