用于气相沉积含锆膜的含锆膜形成组合物制造技术

披露了含锆膜形成组合物，这些组合物包含具有下式之一的含锗和锆的前体：

Zirconium containing film forming composition for vapor deposition zirconium containing film

Disclosed is a zirconium film forming composition comprising a precursor containing germanium and zirconium having one of the lower forms:

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于气相沉积含锆膜的含锆膜形成组合物相关申请的交叉引用本申请要求于2014年12月23日提交的美国申请序列号14/580,352的权益，出于所有的目的将所述申请通过引用以其全文结合在此。
披露了含锆膜形成组合物，这些组合物包括含硅和锆的前体。还披露了合成所披露的组合物以及使用其通过气相沉积工艺在基板上沉积含锆膜的方法。背景随着半导体装置诸如动态随机存取存储器(DRAM)的按比例缩小，需要具有高介电常数的新材料。确实，为了在具有较小表面积的电容器中存储足够的电荷，需要具有较高电容率的电容器。在高-k电介质中，基于第4族的材料，例如HfO2或ZrO2，是非常有前途的，因为它们的介电常数高于SiO2或Al2O3。然而，它们的介电常数根据其晶型而变化(固体薄膜(ThinSolidFilms)，486(2005)125-128)。厚的ZrO2层倾向于具有不稳定的晶相并具有较高的泄漏电流(应用物理评论(AppliedPhysicsReviews)(2012)版本，14-9-2012)。为了防止这些缺陷，已经在两层ZrO2之间引入了Al2O3薄层，形成了所谓的ZAZ电容器，稳定晶相并降低泄漏电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种含锆膜形成组合物，包含具有下式之一的含硅和锗的前体：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.23 US 14/580,3521.一种含锆膜形成组合物，包含具有下式之一的含硅和锗的前体：其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9和R10各自独立地选自H；C1-C5直链、支链或环状烷基；或C1-C5直链、支链或环状氟烷基。2.如权利要求1所述的含锆膜形成组合物，该前体具有式I：3.如权利要求2所述的含锆膜形成组合物，其中该前体选自下组，该组由以下各项组成：(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二甲基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NMe2)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(甲基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHMe)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二乙基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NEt2)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHEt)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基甲基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NEtMe)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丙基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NnPr2)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(正丙基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHnPr)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丙基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NiPr2)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(异丙基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHiPr)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丁基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NnBu2)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(正丁基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHnBu)3)(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丁基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NiBu2)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(异丁基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHiBu)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NsBu2)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHsBu)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NtBu2)3)；(三甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(TMS-Cp)(NHtBu)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二甲基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NMe2)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(甲基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHMe)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二乙基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NEt2)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHEt)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基甲基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NEtMe)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丙基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NnPr2)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(正丙基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHnPr)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丙基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NiPr2)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(异丙基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHiPr)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丁基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NnBu2)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(正丁基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHnBu)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丁基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NiBu2)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(异丁基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHiBu)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NsBu2)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHsBu)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NtBu2)3)；(二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(DMS-Cp)(NHtBu)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二甲基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NMe2)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(甲基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHMe)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二乙基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NEt2)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHEt)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基甲基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NEtMe)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丙基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NnPr2)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(正丙基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHnPr)3)(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丙基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NiPr2)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(异丙基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHiPr)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丁基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NnBu2)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(正丁基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHnBu)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丁基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NiBu2)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(异丁基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHiBu)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NsBu2)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHsBu)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NtBu2)3)；(三氟甲硅烷基)环戊二烯基三(叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(F3Si-Cp)(NHtBu)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二甲基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NMe2)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(甲基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHMe)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二乙基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NEt2)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHEt)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基甲基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NEtMe)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丙基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NnPr2)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(正丙基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHnPr)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丙基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NiPr2)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(异丙基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHiPr)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丁基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NnBu2)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(正丁基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHnBu)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丁基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NiBu2)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(异丁基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHiBu)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NsBu2)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHsBu)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NtBu2)3)；(二氟甲硅烷基)环戊二烯基三(叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(F2HSi-Cp)(NHtBu)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二甲基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NMe2)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(甲基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHMe)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二乙基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NEt2)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHEt)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基甲基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NEtMe)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丙基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NnPr2)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(正丙基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHnPr)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丙基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NiPr2)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(异丙基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHiPr)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丁基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NnBu2)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(正丁基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHnBu)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丁基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NiBu2)3)(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(异丁基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHiBu)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NsBu2)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHsBu)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(二叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NtBu2)3)；(一氟甲硅烷基)环戊二烯基三(叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(FH2Si-Cp)(NHtBu)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二甲基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NMe2)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(甲基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHMe)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二乙基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NEt2)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHEt)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基甲基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NEtMe)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丙基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NnPr2)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(正丙基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHnPr)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丙基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NiPr2)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(异丙基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHiPr)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丁基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NnBu2)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(正丁基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHnBu)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丁基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NiBu2)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(异丁基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHiBu)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NsBu2)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(仲丁基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHsBu)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(二叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NtBu2)3)；(氟二甲基甲硅烷基)环戊二烯基三(叔丁基氨基)锆(IV)(Zr(FMe2Si-Cp)(NHtBu)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(二甲基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NMe2)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(甲基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHMe)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(二乙基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NEt2)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHEt)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基甲基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NEtMe)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丙基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NnPr2)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(正丙基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHnPr)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丙基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NiPr2)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(异丙基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHiPr)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(二正丁基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NnBu2)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(正丁基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHnBu)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(二异丁基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NiBu2)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(异丁基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHiBu)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(二仲丁基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NsBu2)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(仲丁基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHsBu)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(二叔丁基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NtBu2)3)；(三(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(叔丁基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)3Si-Cp)(NHtBu)3)；(二(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(二甲基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NMe2)3)；(二(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(甲基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NHMe)3)；(二(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(二乙基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NEt2)3)；(二(三氟甲基)甲硅烷基)环戊二烯基三(乙基氨基)锆(IV)(Zr((CF3)2HSi-Cp)(NHEt)3)；(二(三氟甲基...

【专利技术属性】
技术研发人员：克莱蒙特·兰斯洛特马特拉斯，尤利安·利夫里希，石井华，克里斯汀·杜斯拉特，
申请(专利权)人：乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司，
类型：发明
国别省市：法国,FR