分子筛的制备方法技术
Process for the preparation of molecular sieves
The invention provides greater than 30m
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】分子筛的制备方法相关申请的交叉引用本申请要求2015年2月4日提交的美国序列号62/111,730的权益和优先权，及2015年3月23日提交的欧洲申请号15160258.8的优先权，其公开内容以其全文并入本文。专利
本专利技术涉及具有小晶体尺寸的丝光沸石分子筛以及制备所述丝光沸石分子筛的方法。背景分子筛材料，天然的和合成的二者，在过去已经被证明可用作吸附剂并具有用于各种类型的烃转化反应的催化性质。某些分子筛，例如沸石，AlPO和中孔材料，是具有通过X射线衍射(XRD)测定的确定晶体结构的有序多孔结晶性材料。在结晶性分子筛材料中，存在可以通过多个通道或孔相互连接的大量空腔。这些空腔和孔在特定分子筛材料内尺寸均匀。因为这些孔的尺寸是接受某些尺寸的吸附分子同时排斥较大尺寸的那些，因此这些材料被称为“分子筛”，并且被用于各种工业过程中。沸石孔可以在微-(<2nm)，中-(2-50nm)或大-(>50nm至200nm)尺寸范围内。这样的分子筛，天然的和合成的二者，包括各种结晶性硅酸盐。这些硅酸盐可以被描述为SiO4四面体(其在顶点处具有四个氧原子，硅原子在中...
【技术保护点】
丝光沸石，所述丝光沸石在其孔内包含选自TEA、MTEA及其混合物的结构导向剂(SDA)，具有大于30m
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.03.23 EP 15160258.8;2015.02.04 US 62/111,7301.丝光沸石，所述丝光沸石在其孔内包含选自TEA、MTEA及其混合物的结构导向剂(SDA)，具有大于30m2/g的中孔表面积，并且包含由初级晶粒构成的聚集体，其中所述初级晶粒具有通过TEM测量的小于80nm的平均初级晶体尺寸。2.根据权利要求1所述的丝光沸石，其中通过X射线衍射测量，所述初级晶粒在每个a、b和c晶体向量中的平均初级晶体尺寸小于80nm。3.根据权利要求1或权利要求2所述的丝光沸石，其中通过TEM测量，至少90数量％的初级晶粒具有小于80nm的初级晶体尺寸。4.根据前述权利要求中任一项所述的丝光沸石，其中通过TEM测量，所述初级晶粒的长径比小于2，其中所述长径比定义为晶粒的最长尺寸除以晶粒的宽度，其中所述晶粒的宽度定义为在与该最长尺寸正交的方向上在该最长尺寸的中间的晶粒尺寸。5.根据前述权利要求中任一项所述的丝光沸石，其具有大于40m2/g的中孔表面积。6.根据前述权利要求中任一项所述的丝光沸石，其中中孔表面积与总表面积的比大于0.05。7.通过使权利要求1至6中任一项所述的丝光沸石经受煅烧步骤制备的煅烧丝光沸石，所述煅烧丝光沸石具有大于30m2/g的中孔表面积，并且包含由初级晶粒构成的聚集体，其中所述初级晶粒具有通过TEM测量的小于80nm的平均初级晶体尺寸。8.根据权利要求7所述的煅烧丝光沸石，其中Si：Al2摩尔比为大于或等于...
【专利技术属性】
技术研发人员：W·F·莱，N·S·罗尔曼，曹光，
申请(专利权)人：埃克森美孚化学专利公司，
类型：发明
国别省市：美国,US
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