磁场调整方法技术

根据磁场测量值，假定虚拟配置并包围测量位置的电流面，通过电流电位再现能再现测量磁场的电流分布(或者磁矩分布)。使用这些，在现实中使用的离散配置匀场托盘和理想虚拟连续配置的匀场托盘进行采用截断奇异值分解法的匀场计算，以进行均匀度的匀场接近理想匀场的匀场条件执行匀场。

Magnetic field adjustment method

The current distribution (or magnetic moment distribution) of the measuring magnetic field can be reproduced by the current potential reproduction, assuming that the virtual configuration and the current surface surrounding the measurement position are measured by the magnetic field measurement value. The use of these discrete configuration used in the real field in a uniform and continuous configuration of the ideal virtual tray tray shimming by the truncated singular calculated shimming decomposition method, for the uniformity of the shim shim shim is close to the ideal condition to perform shimming.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】磁场调整方法
本专利技术提供如用于医疗诊断的核磁共振断层成像装置(MRI)等那样，通过配置线圈、铁等磁性体等来产生磁场的磁铁装置中，将磁场调整为所期待磁场强度分布的方法。
技术介绍
在利用核磁共振的诊断中，由于磁场强度与诊断部位相对应，因此对于磁铁系统产生的磁场强度所要求的精度，磁场强度的百万分之一程度的变动也会被视为问题。MRI装置中的磁场大致存在下述(1)～(3)三种。(1)时间上恒定且空间上也固定的磁场。通常为0.1至数特斯拉以上的强度。在进行摄像的空间(通常为直径30-40cm的球或椭圆体空间)内为数ppm程度的变动范围。(2)以1秒程度以下的时间常数变化，在空间上倾斜的磁场。(3)由与核磁共振相对应的频率(数MHz以上)的高频的电磁波产生的磁场。本专利技术主要涉及(1)中的静磁场。该磁场要求强度在时间上固定，另外尤其是磁共振摄影装置的情况下，在进行人体的断层摄影的区域中在空间上也要求极其高精度的强度均匀性。此处所说的高精度是指，例如40cm直径的摄像空间FOV(FieldofView)中为±1.5ppm那样百万分之一量级的残差磁场的精度。像这样要求极其高精度的均匀性的磁场分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁场调整方法，在具有磁铁装置和匀场托盘的磁铁系统中，通过在所述匀场托盘中配置匀场磁性体来修正由所述磁铁装置生成的磁场分布，其中，所述磁铁装置在预定空间内形成均匀的磁场强度分布，所述匀场托盘对所述磁场强度分布进行修正，其特征在于，该磁场调整方法具有以下步骤：第一步骤，测定预先确定的闭合曲面上的磁场强度分布；第二步骤，根据在所述第一步骤中获取到的磁场强度分布，获取与目标磁场强度分布的差分即误差磁场分布；第三步骤，在量上连续的数值条件下，计算形成使所述误差磁场分布减小的修正磁场分布的匀场磁性体的配置条件；第四步骤，在空间以及量上离散的数值条件下，计算形成使所述误差磁场分布减小的修正磁场分布的匀场...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.02.20 JP 2015-0312551.一种磁场调整方法，在具有磁铁装置和匀场托盘的磁铁系统中，通过在所述匀场托盘中配置匀场磁性体来修正由所述磁铁装置生成的磁场分布，其中，所述磁铁装置在预定空间内形成均匀的磁场强度分布，所述匀场托盘对所述磁场强度分布进行修正，其特征在于，该磁场调整方法具有以下步骤：第一步骤，测定预先确定的闭合曲面上的磁场强度分布；第二步骤，根据在所述第一步骤中获取到的磁场强度分布，获取与目标磁场强度分布的差分即误差磁场分布；第三步骤，在量上连续的数值条件下，计算形成使所述误差磁场分布减小的修正磁场分布的匀场磁性体的配置条件；第四步骤，在空间以及量上离散的数值条件下，计算形成使所述误差磁场分布减小的修正磁场分布的匀场磁性体的配置条件；第五步骤，将基于在所述第三步骤中获取的配置条件配置的匀场磁性体所形成的修正磁场与所述测定的磁场强度分布相加，来求出第一修正后磁场强度分布；第六步骤，将基于在所述第四步骤中获取的配置条件配置的匀场磁性体所形成的修正磁场与所述测定的磁场强度分布相加，来求出第二修正后磁场强度分布；以及第七步骤，求出所述第二修正后磁场强度分布相对于所述第一修正后磁场强度分布的差分，在所述差分为预先确定的预定阈值以上的情况下，变更所述预定空间或者所述目标磁场强度分布，并从所述第二步骤开始再次计算，在所述差分收敛于预先确定的预定阈值内的情况下，按照在所述第四步骤中获取的配置条件，将所述匀场磁性体配置在所述匀场托盘中。2.根据权利要求1所述的磁场调整方法，其特征在于，所述第二步骤为：推定包含在所述闭合曲面中的磁场评价面上的磁场强度分布，获取所述推定的磁场强度分布与所述目标磁场强度分布的差分作为所述误差磁场强度分布。3.根据权利要求1或2所述的磁场调整方法，其特征在于，所述第三步骤以及所述第四步骤中的匀场磁性体的配置条件的计算为：在由所述修正磁场、应配置的匀场磁性体的量或者应配置的磁矩、从所述应配置的匀场磁性体的量或者应配置的磁矩向所述修正磁场的响应矩阵构成的线性方程式系统中，使用采用了截断奇异值分解法的正则化法，求出能近似地产生所需要的误差磁场分布的修正磁场的磁性体分布或磁矩分布。4.根据权利要求1或2所述的磁场调整方法，其特征在于，所述第三步骤以及所述第四步骤为：求出表示应配置的磁性体量或者磁矩与由所述应配置的磁性体量或者磁矩形成的磁场分布之间的一对一关系的固有模式，从所述固有模式的强度最大的固有模式中选择预定个数的固有模式并相加，来求出匀场磁性体的配置分布。5.根据权利要求4所述的磁场调整方法，其特征在于，所述固有模式通过奇异值分解法算出，并且按照通过奇异值分解法获取的奇异值的从大到小的顺序被整理，关于多个所述固有模式的各个固有模式，通过固有磁场分布与所述误差磁场分布的内积来获取固有模式强度。6.根据权利要求1或2所述的磁场调整方法，其特征在于，在所述第七步骤中将所述匀场磁性体设置在所述匀场托盘之后，重新实施所述第一步骤至所述第七步骤。7.根据权利要求4所述的磁场调整方法，其特征在于，求出所述第一修正后磁场强度分布以及所述第二修正后磁场强度分布，作为所述相...

【专利技术属性】
技术研发人员：阿部充志，榊原健二，藤川拓也，花田光，
申请(专利权)人：株式会社日立制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP