一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统技术方案

本发明专利技术实施例公开了一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统，包括：用于远程监控和数据记录查询的第一监控设备组、用于数据处理及参数配置的第二监控设备组、以太网交换机、用于控制工艺操作的第一控制设备组和用于执行工艺操作的第二控制设备组；所述第一监控设备组和所述第二监控设备组分别通过以太网交换机，与所述第一控制设备组连接，所述第一控制设备组与所述第二控制设备组连接；第二控制设备组包括用于样品传输的装载室和用于工艺操作的反应室。采用本发明专利技术，可满足实时监控工艺操作工程，执行大数据处理。

Control system for plasma enhanced chemical vapor deposition

The embodiment of the invention includes control system, discloses a plasma enhanced chemical vapor deposition for the first group, monitoring equipment, remote monitoring and data recording and querying for second monitoring equipment group, Ethernet switches, data processing and parameter configuration for the first control group and the operation process control equipment for second control equipment group the operation of the process; the first monitoring group and the second group were monitoring equipment through Ethernet switch, connected with the first control equipment group, the first control group and the second control equipment group connection; second group control device comprises a reaction chamber for loading chamber sample transfer and process for operation. The invention can satisfy the real-time monitoring process operation engineering and perform large data processing.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及工控机控制
，尤其涉及一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统。
技术介绍
等离子体增强化学气相沉积法（PlamaEnhancedChemicalVaporDeposition,PECVD）是真空处理技术中最常用的方法之一，随着超大规模集成电路中微电子加工工艺技术和高质量薄膜技术的发展，PECVD的工艺参数多且复杂，急需一种对设备和工艺参数进行严格控制的控制系统。现有技术中，多采用触摸屏与标准可编程控制器的控制模式，实现对设备的监控和操作，然而对无法满足对多重参数实时监控和大数据处理的要求，同时也无法满足对设备高级安全控制的要求。
技术实现思路
本专利技术实施例所要解决的技术问题在于，提供一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统，可满足实时监控工艺过程，执行大数据处理，并提高设备控制的安全级别。为了解决上述技术问题，本专利技术实施例提供了一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统，包括：用于远程监控和数据记录查询的第一监控设备组、用于数据处本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统，其特征在于，包括用于远程监控和数据记录查询的第一监控设备组、用于数据处理及参数配置的第二监控设备组、以太网交换机、用于控制工艺操作的第一控制设备组和用于执行工艺操作的第二控制设备组；所述第一监控设备组和所述第二监控设备组分别通过以太网交换机，与所述第一控制设备组连接，所述第一控制设备组与所述第二控制设备组连接；其中，所述第一控制设备组包括可编程控制器组、分布式输入输出端口组和智能设备组；第二控制设备组包括用于样品传输的装载室和用于工艺操作的反应室。

【技术特征摘要】
1.一种等离子体增强化学气相沉积的控制系统，其特征在于，包括用于远
程监控和数据记录查询的第一监控设备组、用于数据处理及参数配置的第二监
控设备组、以太网交换机、用于控制工艺操作的第一控制设备组和用于执行工
艺操作的第二控制设备组；
所述第一监控设备组和所述第二监控设备组分别通过以太网交换机，与所
述第一控制设备组连接，所述第一控制设备组与所述第二控制设备组连接；
其中，所述第一控制设备组包括可编程控制器组、分布式输入输出端口组
和智能设备组；第二控制设备组包括用于样品传输的装载室和用于工艺操作的
反应室。
2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第一监控设备组包括用于
远程监控及程序修改的第一计算机和用于远程数据记录查询的第二计算机。
3.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述第二监控设备组包括用于
本地数据处理、程序控制及参数配置的第三计算机，和用于记录工艺数据及历
史查询的第四计算机。
4.如权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括：
所述第一监控设备组通过以太网或无线Wifi方式，与所述第二监控设备组
连接。
5.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述分布式输入输出端口组包
括标准输入输出端口和具有安全性能的安全输入输出端口。
6.如权利要求5所述的系统，其特征在于，所述可编程控制器组包括：
用于所述智能设备组、所述标准输入输出端口和所述安全输入输出端口的
数据采集及输出信号控制的主站可编程控制器；
用于标准输入输出端口和所述智能设备组的数据采集控制的从站可编程控

\t制器；
用于所述安全输入输出端口的信号采集与输出信号控制的安全可编程控制
器。
7.如权利要求6所述的系统，其特征在于，还包括：
所述标准输入输出端口通过过程现场总线标准P...

【专利技术属性】
技术研发人员：何祝兵，王春柱，苏奇聪，
申请(专利权)人：南方科技大学，
类型：发明
国别省市：广东;44