The present invention provides a method of pixel structure of ink-jet printing technology and production based on the pixel structure of the invention and the making method using metal oxide semiconductor material as the material of the anode layer, the conductor of the anode conductor layer is divided into zones and semiconductor region. The semiconductor region has the same function as the dielectric layer in the prior art. The manufacturing method of the invention avoids the formation of the dielectric layer, so the manufacturing process is simple, and the organic functional layer formed by the inkjet is uniform, and the quality of the product is effectively improved.
【技术实现步骤摘要】
基于喷墨打印技术的像素结构及其制作方法
本专利技术涉及OLED(OrganicLight-EmittingDiode,有机发光二极管)制造领域,具体涉及基于喷墨打印技术的像素结构及其制作方法。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiodes,OLED)显示器,又称有机电致光发光显示器,具有自发光、驱动电压低、发光效率高、响应时间短、清晰度与对比度高、宽视角、使用温度范围宽,可实现柔性显示与大面积全色显示等诸多优点,被业界公认为是最有发展潜力的显示装置。现有技术中的OLED显示面板一般包括依次形成于基板上的阳极、有机功能层和阴极,其中有机功能层一般包括设于阳极上的空穴注入层、设于空穴注入层上的空穴传输层、设于空穴传输层上的发光层、设于发光层上的电子传输层、设于电子传输层上的电子注入层。OLED显示面板的发光原理为半导体材料和有机发光材料在电场驱动下,通过载流子注入和复合导致发光。具体的,在一定电压驱动下,电子和空穴分别从阴极和阳极注入到电子传输层和空穴传输层,电子和空穴分别经过电子传输层和空穴传输层迁移到发光层,并在发光层中相遇,形成激子并使发光分子激发,后者经过辐射弛豫而发出可见光。OLED显示面板中有机功能层以及阴极金属层薄膜最为传统的制作方式是真空蒸镀。随着工艺的发展,一种相对于真空蒸镀方式更具优势的喷墨打印(Ink-JetPrinting)逐渐被各大生产厂家所采用。在OLED的制造工艺上,喷墨打印(Ink-JetPrinting)相比于蒸镀在材料利用率以及成本上有较大的优势。但是随著显示面板的分辨率日益提高,如图1所 ...
【技术保护点】
基于喷墨打印技术的像素结构的制作方法,包括以下步骤:步骤S1:采用金属氧化物半导体材料在基板上成膜形成阳极层,阳极层图形化;步骤S2:在阳极上形成光阻层并图形化,图形化的光阻层对阳极层进行局部覆盖;步骤S3:对步骤S2中的未被光阻层覆盖的部分阳极层进行导体化,然后去除光阻层;步骤S4:在阳极层上形成像素定义层,在像素定义层上形成多个间隔设置的通孔,通孔处阳极层暴露,暴露部分的阳极层为限定出的像素区域;步骤S5:在步骤S4中所述的像素区域内,喷墨打印形成有机功能层;其中,被导体化的部分阳极层为导体区,未被导体化的局部阳极层为半导体区,每个所述像素区域中部位置为半导体区。
【技术特征摘要】
1.基于喷墨打印技术的像素结构的制作方法,包括以下步骤:步骤S1:采用金属氧化物半导体材料在基板上成膜形成阳极层,阳极层图形化;步骤S2:在阳极上形成光阻层并图形化,图形化的光阻层对阳极层进行局部覆盖;步骤S3:对步骤S2中的未被光阻层覆盖的部分阳极层进行导体化,然后去除光阻层;步骤S4:在阳极层上形成像素定义层,在像素定义层上形成多个间隔设置的通孔,通孔处阳极层暴露,暴露部分的阳极层为限定出的像素区域;步骤S5:在步骤S4中所述的像素区域内,喷墨打印形成有机功能层;其中,被导体化的部分阳极层为导体区,未被导体化的局部阳极层为半导体区,每个所述像素区域中部位置为半导体区。2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,步骤S1中的金属氧化物半导体材料为铟镓锌氧化物、铟锡锌氧化物、铟镓锡锌氧化物或铟铝氧化物。3.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,步骤S2中的光阻层由光...
【专利技术属性】
技术研发人员:方俊雄,吴元均,吕伯彦,
申请(专利权)人:深圳市华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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