基板清洗设备制造技术

本发明专利技术提供一种基板清洗设备。该基板清洗设备包括中空的承载杆、设于承载杆外表面上的毛刷、与承载杆一端连接的驱动装置、及与承载杆另一端旋转连接的进液管，所述承载杆上设有多个出水口，通过进液管向承载杆内部通入清洗液体，承载杆内部的清洗液体从多个出水口喷出至承载杆外部，从而均匀地润湿毛刷且对毛刷进行有效的清洗，去除毛刷内部残存的颗粒，避免在清洗基板时将毛刷内部的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题，提高产品良率及产品品质。

Substrate cleaning equipment

The present invention provides a substrate cleaning device. The substrate cleaning apparatus includes a hollow rod, a bearing rod bearing rod is connected with the driving device, and the other end connected to the bearing rod rotating brush, a liquid inlet pipe on the outer surface of the bearing and the bearing rod is provided with a plurality of outlet, through the liquid inlet pipe cleaning liquid to pass into the bearing rod internal. The bearing cleaning liquid inside the rod from a plurality of outlet is ejected to the bearing rod outside, thereby uniformly wetting and effectively brush brush brush cleaning, removal of internal residual particles in the substrate will avoid cleaning brush inside the particles to the substrate and the substrate particles scratch, improve product yield and the quality of products.

【技术实现步骤摘要】
基板清洗设备
本专利技术涉及显示制程领域，尤其涉及一种基板清洗设备。
技术介绍
随着显示技术的发展，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。通常液晶显示面板由彩膜基板(ColorFilter，CF)、薄膜晶体管基板(ThinFilmTransistor，TFT)、夹于彩膜基板与薄膜晶体管基板之间的液晶(LC，LiquidCrystal)及密封胶框(Sealant)组成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。在液晶显示面板制造过程中，湿制程机台应用十分广泛，涉及蚀刻、涂布显影、清洗等众多工艺，在清洗制程中，由于基板上部分颗粒(Particle)尺寸过大或者在基板上粘附过紧，需要使用滚刷(RollBrush)对基板进行清洗。如图1所示，现有的一种基板清洗设备包括：承载杆100、设于承载杆100外表面上的毛刷300、与承载杆100一端连接的驱动装置200、设于承载杆100上且将承载杆100固定于湿制程机台上的轴承400，对基板进行清洗时，向基板表面提供清洗液体，并通过驱动装置200带动承载杆100及其上的毛刷300转动清洗基板表面，但是在实际生产过程中，由于清洗液体在毛刷300上的冲洗并不均匀，将会导致一些颗粒长期藏于毛刷300里面，进而毛刷300在对基板进行清洗时将颗粒带到基板上，甚至刮伤基板。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基板清洗设备，能够均匀地润湿毛刷且有效地清洗毛刷中的颗粒，避免在清洗基板时将毛刷中的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题。为实现上述目的，本专利技术提供一种基板清洗设备，包括：中空的承载杆、设于承载杆外表面上的毛刷、与承载杆一端连接的驱动装置、及与承载杆另一端旋转连接的进液管；所述承载杆上设有多个出水口；所述进液管用于向承载杆内部通入清洗液体；所述出水口用于将承载杆内的清洗液体从承载杆内部喷出至承载杆外部，从而润湿毛刷并对毛刷进行清洗。所述基板清洗设备还包括设于承载杆上的轴承。所述承载杆的材料为金属或塑料。所述承载杆的材料为304不锈钢、316不锈钢、聚丙烯、超高分子聚乙烯、或聚氯乙烯。所述驱动装置为电动机。所述毛刷通过粘贴的方式设于承载杆的外表面。所述清洗液体为去离子水、超纯水、洗涤剂、或三羟甲基氨基甲烷。可选地，所述出水口为线状出水口。所述线状出水口的形状为环状、波浪状、锯齿状、或斜线状。所述线状出水口的宽度为0.01mm-15mm。可选地，所述出水口为孔状出水口。所述孔状出水口的孔径为0.01mm-15mm。本专利技术的有益效果：本专利技术的基板清洗设备，包括中空的承载杆、设于承载杆外表面上的毛刷、与承载杆一端连接的驱动装置、及与承载杆另一端旋转连接的进液管，所述承载杆上设有多个出水口，通过进液管向承载杆内部通入清洗液体，承载杆内部的清洗液体从多个出水口喷出至承载杆外部，从而均匀地润湿毛刷且对毛刷进行有效的清洗，去除毛刷内部残存的颗粒，避免在清洗基板时将毛刷内部的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题，提高产品良率及产品品质。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为现有的基板清洗设备的结构示意图；图2为本专利技术的基板清洗设备的结构示意图；图3为本专利技术的基板清洗设备的承载杆的第一实施例的结构示意图；图4为本专利技术的基板清洗设备的承载杆的第二实施例的结构示意图；图5为本专利技术的基板清洗设备对基板进行清洗的示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图2，本专利技术提供一种基板清洗设备，包括：中空的承载杆10、设于承载杆10外表面上的毛刷40、与承载杆10一端连接的驱动装置20、及与承载杆10另一端旋转连接的进液管30；请参阅图3或图4，所述承载杆10上设有多个出水口11；所述进液管30用于向承载杆10内部通入清洗液体；所述出水口11用于将承载杆10内的清洗液体从承载杆10内部喷出至承载杆10外部，从而润湿毛刷40并对毛刷40进行清洗。需要说明的是，上述基板清洗设备，用于湿制程机台中对基板的清洗，工作时，驱动装置20驱动承载杆10旋转，带动其外表面的毛刷40进行旋转，进液管30向承载杆10内部通入清洗液体，清洗液体会从承载杆10上的出水口11喷出至承载杆10外部，而由于毛刷40是设置在承载杆10外表面上的，出水口11喷出的清洗液体会从毛刷40与承载杆10接触的部分流至毛刷40端部，使毛刷40充分且均匀的湿润，能够有效地对毛刷40进行清洗，持续置换毛刷40内部残存的颗粒，避免在清洗基板时将毛刷40内部的颗粒带到基板上及出现颗粒刮伤基板的问题，提高产品良率及产品品质，同时，由于出水口11喷出清洗液润湿毛刷40，因而在对基板进行清洗时，无需另外设置提供清洗液体的装置，降低了用于对基板进行清洗的装置的复杂程度，有利于提升基板清洗的效率。优选地，请参阅图5，为达到更好的清洗效果，本专利技术的基板清洗设备同时具有四个承载杆10，每一承载杆10的外表面均设有毛刷40，其中两个承载杆10及对应的毛刷40位于待清洗的基板60的上方，另两个承载杆10及对应的毛刷40位于待清洗的基板60的下方，相应地，对应每一承载杆10设有进液管30及驱动装置20，清洗时，位于待清洗的基板60同一侧的两个承载杆10受对应的驱动装置20驱动旋转，且旋转方向相反，从而利用四个承载杆10上的毛刷40对待清洗的基板60两侧进行对刷。具体地，所述基板清洗设备还包括设于承载杆10上的轴承50，所述轴承50用于将承载杆10固定在湿制程机台上。具体地，所述轴承50的数量为两个，分别设于承载杆10两端。具体地，所述毛刷40通过粘贴的方式设于承载杆10的外表面。具体地，所述承载杆10的材料为金属或塑料。进一步地，当所述承载杆10的材料为金属时，优选304不锈钢、316不锈钢，当所述承载杆10的材料为塑料时，优选聚丙烯(PP)、超高分子聚乙烯(UPE)、聚氯乙烯(PVE)。具体地，所述驱动装置20为电动机。具体地，所述清洗液体为去离子水(Deionizedwater，DIW)、超纯水(Ultra-PureWater，UPW)、洗涤剂(Detergent)、或三羟甲基氨基甲烷(THAM)。优选地，所述出水口11均匀的设于所述承载杆10上。具体地，所述出水口11的形状及尺寸、以及出水口11的侧壁与承载杆10外表面的角度可根据出水量及出水方向的实际需求进行具体的设置。具体地，请参阅图3，在本专利技术的第一实施例中，所述出水口11为本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗设备，其特征在于，包括：中空的承载杆(10)、设于承载杆(10)外表面上的毛刷(40)、与承载杆(10)一端连接的驱动装置(20)、及与承载杆(10)另一端旋转连接的进液管(30)；所述承载杆(10)上设有多个出水口(11)；所述进液管(30)用于向承载杆(10)内部通入清洗液体；所述出水口(11)用于将承载杆(10)内的清洗液体从承载杆(10)内部喷出至承载杆(10)外部，从而润湿毛刷(40)并对毛刷(40)进行清洗。

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括：中空的承载杆(10)、设于承载杆(10)外表面上的毛刷(40)、与承载杆(10)一端连接的驱动装置(20)、及与承载杆(10)另一端旋转连接的进液管(30)；所述承载杆(10)上设有多个出水口(11)；所述进液管(30)用于向承载杆(10)内部通入清洗液体；所述出水口(11)用于将承载杆(10)内的清洗液体从承载杆(10)内部喷出至承载杆(10)外部，从而润湿毛刷(40)并对毛刷(40)进行清洗。2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，还包括设于承载杆(10)上的轴承(50)。3.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述承载杆(10)的材料为金属或塑料。4.如权利要求3所述的基板清洗设备，其特征在于，所述承载杆(10)的材料为304不锈...

【专利技术属性】
技术研发人员：李嘉，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44