用于显示器密封材料的组成物、含有其的有机保护层及含有其显示器装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种用于显示器密封材料的组成物，具有光聚合起始剂及光可固化单体，光可固化单体包含不具有芳族烃基的单体；以及具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体。通过固化用于显示器密封材料的组成物而获得的有机保护层具有由以下方程式1表示的约400纳米/分钟或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及约2纳米或小于2纳米的表面粗糙度：[方程式1]等离子体蚀刻速率(纳米/分钟)＝(T0‑T1)/M其中T0为通过喷雾将用于显示器密封材料的组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化10秒所制备的样品的厚度(纳米)；T1为所制备的样品在ICP功率2500瓦；RF功率300瓦；直流偏压200伏特；氩气(Ar)流动速率50标准毫升/分钟以及压力10毫托的条件下进行等离子体处理1分钟后的厚度(纳米)；M为等离子体处理的时间(分钟)；T0及T1各自为除去基板厚度后的厚度。

Composition for display sealing material, organic protective layer containing the same, and display device including the same

The present invention provides a composition for display sealing material, has light polymerization initiator and light curable monomer, light curable monomer containing monomer with an aromatic hydrocarbon group; and having two or more than two substituted or non substituted phenyl monomers. The organic layer obtained by curing the composition for display sealing material fabrics having by following equation 1 represents approximately 400 nm / min or less than 400 nm / minute and plasma etching rate of about 2 nm or less than the surface roughness of 2 nm: [equation 1] plasma etching rate (nm / min) = (T0 T1 /M T0) which will be used to display the composition of sealing material applied to the substrate and a 100 MW / cm2 dose for UV curing 10 seconds the thickness of the prepared samples by spray (nano); T1 of the as prepared samples in ICP 2500 watts of power; RF 300 W; 200 Volt DC bias; argon plasma treatment (Ar) thickness after 1 minutes the flow rate of 50 ml / min and the standard pressure of 10 mTorr conditions (nm); M plasma treatment time (minutes); T0 and T1 respectively Thickness beyond the thickness of the substrate.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于显示器密封材料的组成物、含有其的有机保护层及含有其显示器装置
本专利技术是有关于一种用于显示器密封材料的组成物、包括其的有机保护层以及包括其的显示器装置。
技术介绍
通常用于光学显示器装置的有机电致发光元件可由于环境因素(诸如湿气或气体)而遭受发光特性的退化或劣化。特定言之，金属场与有机发射层之间的介面将由于湿气而分层。另外，将由于金属氧化而出现高电阻，且有机材料本身将因湿气或氧气而劣化。此外，有机材料及电极材料将因来自外部或内部环境的释气而遭遇氧化，且有机场致发光元件可具有降低的发光特性。因此，有机场致发光元件必须用封装组成物封装以保护其免受湿气或氧气的影响。有机场致发光元件已封装在形成有无机保护层及有机保护层的多层结构中。无机保护层可通过等离子体沉积法形成，其可导致有机保护层被等离子体蚀刻。当有机保护层被蝕刻时，可损害有机保护层的封装功能。因此，有机发光元件可遭受发光特性及可靠性的劣化。就此方面而言，本专利技术的背景揭示于韩国公开专利公开案第2011-0071039A号(LG显示器)中。
技术实现思路
技术问题在一个实施例中，本专利技术提供一种用于显示器密封材料的组成物，其获得具有高等离子体耐受性的有机保护层。在另一个实施例中，本专利技术提供一种用于显示器密封材料的组成物，其获得具有显着低透湿性及低透氧性的有机保护层。在又一个实施例中，本专利技术提供一种用于显示器密封材料的组成物，其获得具有极好透明度的有机保护层。在又一个实施例中，本专利技术提供一种用于显示器密封材料的组成物，其获得具有低表面粗糙度以产生高表面光滑度的有机保护层。在又一个实施例中，本专利技术提供一种用于显示器的组成物，其获得有机保护层来保护装置免受包含湿气及气体的环境的影响以向装置提供时间相依可靠性。在又一个实施例中，本专利技术提供一种显示器装置，其包含用于显示器密封材料的组成物的固化产物。解决问题的技术手段在本专利技术的一个实施例中，用于显示器密封材料的组成物可包含光可固化单体及光聚合起始剂，其中所述光可固化单体可包含含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体；及不含芳族烃基的单体，且由所述组成物制备的固化产物可具有由方程式1表示的400纳米/分钟或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及2纳米或小于2纳米的表面粗糙度(roughness)：[方程式1]等离子体蚀刻速率(纳米/分钟)＝(T0-T1)/M其中在方程式1中，T0为通过喷雾将用于显示器密封材料的组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化10秒所制备的样品的厚度(纳米)，T1为所制备的样品在感应耦合等离子体ICP功率2500瓦、射频RF功率300瓦、直流偏压DC200伏特、氩气(Ar)流动速率50标准毫升/分钟以及压力10毫托的条件下进行等离子体处理1分钟后的厚度(nm)，T0及T1各自为除去基板厚度后的厚度，且M为等离子体处理的时间(min)。在本专利技术的又一个实施例中，显示器装置可包含显示器构件及在所述显示器构件上形成的复合保护层，其中所述复合保护层可包含无机保护层及有机保护层，且所述有机保护层可包含由用于显示器密封材料的组成物制备的固化产物。技术效果本专利技术的组成物可获得具有高等离子体耐受性的有机保护层。本专利技术的组成物可获得具有显着低透湿性及透氧性的有机保护层。本专利技术的组成物可获得具有极好透明度的有机保护层。本专利技术的组成物可获得具有低表面粗糙度、产生高表面光滑度的有机保护层。本专利技术的组成物可获得有机保护层保护装置避免包含湿气及气体的环境以向装置提供时间依赖性可靠性。附图说明图1为根据本专利技术的一个实施例的显示器装置的截面视图。图2为根据本专利技术的另一个实施例的显示器装置的截面视图。具体实施方式现在将详细描述本专利技术的实施例。应了解，本专利技术不限于以下实施例且可以不同的方式体现。虽然出于描述便利性描述某一部分元件，但本领域相关技术人员可易于了解其他部分元件。在附图中，为清楚起见，元件的宽度及厚度可以放大形式表现且可省略一些不相关的元件。此外，本专利技术的精神可在不背离本专利技术的技术精神的情况下由本领域相关技术人员以各种其他形式实施。参照附图定义诸如“上部”及“下部”等本文所用的术语。因此，应了解，术语“上表面”可与术语“下表面”互换使用。术语“在……上(on)”涵盖一个元件“直接”安置“在”另一结构“上(on)”，及可插入其他结构。同时，术语“直接在……上(directlyon)”意指未插入其他结构。本文所用的术语“(甲基)丙烯基”指丙烯基(acryl)和/或甲基丙烯基(methacryl)。除非另作说明，否则本文所用的术语“经取代”意指官能团当中的至少一个氢原子经羟基、硝基、亚胺基(＝NH、＝NR，其中R为C1至C10烷基)、脒基、肼基或腙基、羧基、C1至C20烷基、C6至C30芳基、C3至C30杂芳基或C2至C30杂环烷基取代。本文所用的术语“杂原子”意指由N、O、S以及P组成的群组中选出的任何原子，且术语“杂”意指碳原子经由N、O、S以及P组成的群组中选出的任何一个原子取代。本文所用的“等离子体耐受性”可视当对封装组成物的固化产物进行等离子体处理时所進行的蚀刻(etch)的蚀刻速率而确定。蚀刻速率愈低表示等离子体耐受性愈高。本文所用的“亚烷基”意指在(甲基)丙烯酸酯每一末端之间经由无双键的饱和烃附接的烷二基(alkanediylgroups)。另外，亚烷基的碳原子数目意指除二(甲基)丙烯酸酯基中的碳原子以外，亚烷基本身的碳原子数目。在本专利技术的一个实施例中，用于显示器密封材料的组成物可包含光可固化单体及光聚合起始剂，其中所述光可固化单体可包含不含芳族烃基的单体；及含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体，且所述组成物可具有由方程式1表示的400纳米/分钟或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及通过原子力显微镜测量的2纳米或小于2纳米的表面粗糙度(roughness)：[方程式1]等离子体蚀刻速率(纳米/分钟)＝(T0-T1)/M其中在方程式1中，T0为通过喷雾将用于显示器密封材料的组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行UV固化10秒所制备的样品的厚度(纳米)；T1为所制备的样品在ICP功率2500瓦、RF功率300瓦、直流偏压DC200伏特、氩气(Ar)流动速率50标准毫升/分钟以及压力10毫托的条件下进行等离子体处理1分钟后的厚度(nm)，T0及T1各自为除去基板厚度后的厚度；且M为等离子体处理的时间(min)。当在有机场致发光元件上或形成于有机场致发光元件上的无机保护层上形成有机保护层时，使用在固化后具有等离子体蚀刻速率的光可固化单体可对有机保护层提供显着低的等离子体蚀刻速率，其表示由等离子体处理所导致的有机保护层的损害。详言之，等离子体蚀刻速率可为约400纳米/分钟或小于400纳米/分钟、特定言之可为约10纳米/分钟至约390纳米/分钟且更特定言之可为10纳米/分钟至385纳米/分钟。由方程式1表示的大于约400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率可导致有机保护层的损害增加及元件可靠性降低。当用于显示器密封材料的组成物沉积于基板上时，表面粗糙度为沉积表面的粗糙度，是对其屈曲进行测量而得。较低表面粗糙度可有助于显示器的光滑度。本文中所用的粗糙度可通过本领域相关技术人本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于显示器密封材料的组成物，包含光可固化单体及光聚合起始剂，其中所述光可固化单体包含不含芳族烃基的单体；及含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体，以及由所述组成物制备的固化产物具有由方程式1表示的约400纳米/分钟或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及通过原子力显微镜测量的约2纳米或小于2纳米的表面粗糙度(roughness)：<方程式1>等离子体蚀刻速率(纳米/分钟)＝(T0‑T1)/M(其中在方程式1中，T0为通过喷雾将所述用于显示器密封材料的组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行紫外线固化10秒所制备的样品以纳米(nm)为单位的厚度；T1为所制备的样品在感应耦合等离子体ICP功率2500瓦、射频RF功率300瓦、直流偏压DC200伏特、氩气(Ar)流动速率50标准毫升/分钟以及压力10毫托的条件下进行等离子体处理1分钟后的以纳米(nm)为单位的厚度，T0及T1各自为除去所述基板厚度后的厚度；且M为以分钟(min)为单位的所述等离子体处理的时间)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.29 KR 10-2014-0148655;2015.04.09 KR 10-2011.一种用于显示器密封材料的组成物，包含光可固化单体及光聚合起始剂，其中所述光可固化单体包含不含芳族烃基的单体；及含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体，以及由所述组成物制备的固化产物具有由方程式1表示的约400纳米/分钟或小于400纳米/分钟的等离子体蚀刻速率及通过原子力显微镜测量的约2纳米或小于2纳米的表面粗糙度(roughness)：<方程式1>等离子体蚀刻速率(纳米/分钟)＝(T0-T1)/M(其中在方程式1中，T0为通过喷雾将所述用于显示器密封材料的组成物施用于基板上且以100毫瓦/平方厘米的剂量进行紫外线固化10秒所制备的样品以纳米(nm)为单位的厚度；T1为所制备的样品在感应耦合等离子体ICP功率2500瓦、射频RF功率300瓦、直流偏压DC200伏特、氩气(Ar)流动速率50标准毫升/分钟以及压力10毫托的条件下进行等离子体处理1分钟后的以纳米(nm)为单位的厚度，T0及T1各自为除去所述基板厚度后的厚度；且M为以分钟(min)为单位的所述等离子体处理的时间)。2.根据权利要求1所述的用于显示器密封材料的组成物，其中所述含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体包含由式1表示的结构：<式1>(其中在式1中，A为具有两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃，或具有杂原子及两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的烃；Z1及Z2各自独立地由式2表示；以及a和b分别为0至2的整数，且a+b为1至4的整数；)<式2>(其中在式2中，*表示与A上碳原子的链接位点；X为单键、O或S；Y为经取代或未经取代的C1至C10直链亚烷基或经取代或未经取代的C1至C20烷氧基；R1为氢或C1至C5烷基；以及c为0或1)。3.根据权利要求1所述的用于显示器密封材料的组成物，其中所述含两个或多于两个经取代或未经取代的苯基的单体包含以下中的至少一个：4-(甲基)丙烯酰氧基-2-羟基二苯甲酮、(甲基)丙烯酸乙基-3，3-二苯酯、(甲基)丙烯酸苯甲酰氧基苯酯、双酚A二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基乙酯、二(甲基)丙烯酸-2，2′-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基丙酯、二(甲基)丙烯酸-2，2′-苯基苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基苯氧基丁酯、二(甲基)丙烯酸-2，2′-苯基苯氧基丁酯、(甲基)丙烯酸-2-(3-苯基苯基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(4-苯甲基苯基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-苯基-2-(苯硫基)乙酯、(甲基)丙烯酸-2-(三苯基甲氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸-4-(三苯基甲氧基)丁酯、(甲基)丙烯酸-3-(...

【专利技术属性】
技术研发人员：金惠珍，南成龙，高盛慜，金美善，李知娟，
申请(专利权)人：三星SDI株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国,KR