低表面电阻率蘸塑制品制造技术

本发明专利技术涉及具有低表面电阻率的蘸塑制品，该蘸塑制品具有的表面电阻率即使在用超纯水洗涤后仍低于常规产品。本发明专利技术的蘸塑制品具有的表面电阻率在２０℃和６５％相对湿度的氛围下测得为１０↑［７］－１０↑［１０］Ω／平方。由于本发明专利技术的蘸塑制品具有低表面电阻率，其适合用作精密电子元件生产和半导体元件生产用手套。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及蘸塑制品，其制备方法和蘸塑胶乳组合物。
技术介绍
通过蘸塑包含天然橡胶胶乳或丙烯腈-丁二烯共聚物胶乳的蘸塑胶乳组合物而形成的橡皮手套既柔软又具有充分的机械强度，因此用于各个领域。特别是在精密电子元件的生产和半导体元件的生产中，由于橡皮手套表面附着的微粒或者橡皮手套中所含的金属离子会影响半成品或产品，需要在使用前用纯净水或超纯水洗涤橡皮手套。然而，形成天然橡胶胶乳和丙烯腈-丁二烯共聚物胶乳的聚合物是高度电绝缘性的，由这些胶乳制成的橡皮手套的表面电阻率超过1010Ω/平方。而且，通过采用纯水或超纯水洗涤，橡皮手套的表面电阻率将变得更高。当橡皮手套的表面电阻率超过1010Ω/平方时，工作过程中会积累静电，该静电引起的问题是会使精密电子元件或半导体元件遭到破坏。
技术实现思路
在上述条件下，本专利技术的目的是提供一种蘸塑制品，其具有低表面电阻率，并且即使在用超纯水洗涤后还具有比常规蘸塑制品更低的表面电阻率，并提供其制备方法。通过以下的措施(1)-(4)实现了本专利技术的目的。(1)具有在20℃及相对湿度65％氛围下测得的107-1010Ω/平方的表面电阻率的蘸塑制品，(2)制备蘸塑制品的方法，该方法包含在蘸塑模具上形成包含蘸塑胶乳组合物的蘸塑层，然后使该蘸塑层与阳离子表面活性剂接触，(3)包含加有阳离子表面活性剂的橡胶胶乳的蘸塑胶乳组合物，和(4)制备蘸塑制品的方法，该方法包含在蘸塑模具上形成包含上述(3)蘸塑胶乳组合物的蘸塑层，然后硫化该蘸塑层。本专利技术的最佳实施方式下面详细说明本专利技术。(蘸塑制品)本专利技术蘸塑制品的表面电阻率在20℃和65％的相对温度氛围下测量为107-1010Ω/平方。所述蘸塑制品的表面电阻率优选为108-1010Ω/平方。制备具有比上述更低的表面电阻率的蘸塑制品是困难的，然而，高表面电阻率的蘸塑制品会在工作过程中造成静电积累，不适合用于半导体元件生产。在本专利技术中，107指1×107。相同原则适用于1010、1011等。而且，107-1010指至少1×107至至多1×1010。相同原则适用于108-1011等。表面电阻率和体积电阻率是按照ASTM D257-93测定的。测量方法的详细内容如实施例中所述。在30℃的超纯水中浸泡2小时后，本专利技术的蘸塑制品优选具有在20℃和65％的相对湿度氛围下测量为107-1010Ω/平方的表面电阻率，更优选为108-1010Ω/平方。甚至在超纯水中浸泡后仍具有该范围内的表面电阻率的蘸塑制品更适合用于精密电子元件或半导体元件的生产。在本专利技术中，超纯水指25℃下电阻率至少为16MΩcm的水。而且，在本专利技术中，浸泡蘸塑制品的超纯水的温度为30℃±10℃。本专利技术的蘸塑制品优选具有在20℃和65％的相对湿度氛围下测量为108-1011Ωcm的体积电阻率，更优选为109-1011Ωcm。具有该范围内的体积电阻率的蘸塑制品仍适合用于精密电子元件或半导体元件的生产。在30℃的超纯水中浸泡2小时后，本专利技术的蘸塑制品优选具有在20℃和65％的相对湿度氛围下测量为109-1011Ωcm的体积电阻率。甚至在超纯水中浸泡后仍具有该范围内的体积电阻率的蘸塑制品更适合用于精密电子元件或半导体元件的生产。本专利技术的蘸塑制品是通过蘸塑胶乳组合物的蘸塑获得的。制备本专利技术蘸塑制品的方法可以大致分为两种方法。蘸塑制品的第一制备方法包含在蘸塑模具上形成包含蘸塑胶乳组合物的蘸塑层，然后使该蘸塑层与阳离子表面活性剂接触(以下也称作‘制备方法1’)。蘸塑制品的第二制备方法包含采用包含橡胶胶乳和阳离子表面活性剂的蘸塑胶乳组合物成在蘸塑模具上形成包含该蘸塑胶乳组合物的蘸塑层，然后硫化该蘸塑层(以下也称作‘制备方法2’)。(蘸塑制品的第一制备方法)现在在下面详细说明上述制备方法1。就制备方法1中所采用的蘸塑胶乳组合物中所用的蘸塑胶乳而言，可以列举的橡胶胶乳是例如天然橡胶胶乳和合成共轭二烯橡胶胶乳。特别是从具有所希望特性的蘸塑制品的生产容易度的角度来看，优选采用合成共轭二烯橡胶胶乳。所述合成共轭二烯橡胶胶乳是通过共轭二烯单体或共轭二烯单体和其它能够与共轭二烯单体共聚的单体的聚合获得的。共轭二烯单体的实例包括1，3-丁二烯、2-甲基-1，3-丁二烯、2，3-二甲基-1，3-丁二烯和卤素取代的丁二烯。它们可以单独地或者以两种或更多种的组合方式使用。特别优选采用1，3-丁二烯。共轭二烯单体的用量优选为全部单体的30-89.5重量％，更优选45-79重量％。所述能够与共轭二烯单体共聚的其它单体的实例包括烯属不饱和腈单体、芳香乙烯基单体、烯属不饱和羧酸单体、烯属不饱和羧酸酯单体和烯属不饱和羧酸酰胺单体。特别优选采用烯属不饱和腈单体、芳香乙烯基单体和烯属不饱和羧酸单体，更优选采用烯属不饱和腈单体和烯属不饱和羧酸单体。烯属不饱和腈单体的实例包括丙烯腈和甲基丙烯腈。特别优选采用丙烯腈。芳香乙烯基单体的实例包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯、一氯苯乙烯和乙烯基甲苯。烯属不饱和羧酸单体的实例包括烯属不饱和一元羧酸如丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸和肉桂酸；烯属不饱和多元羧酸如衣康酸、富马酸、马来酸和丁烯三酸；部分酯化的烯属不饱和多元羧酸如衣康酸单乙酯、富马酸单丁酯和马来酸单丁酯。特别优选烯属不饱和一元羧酸，更优选采用甲基丙烯酸。烯属不饱和羧酸酯单体的实例包括丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸β-羟乙酯、丙烯酸β-羟丙酯、甲基丙烯酸β-羟乙酯、丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸N，N-二甲基氨基乙酯和(甲基)丙烯酸N，N-二乙基氨基乙酯。烯属不饱和羧酸酰胺单体的实例包括(甲基)丙烯酰胺和N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺。除上述单体外，可以采用醋酸乙烯酯、乙烯基吡咯烷酮、乙烯基吡啶等。这些单体可以单独地或者以二或更多种组合的形式使用。就共轭二烯橡胶胶乳而言，从展示本专利技术效果的容易度和获得具有柔性和优异的耐油性和机械强度的蘸塑制品的角度来看，优选采用从包含共轭二烯单体、烯属不饱和腈单体和烯属不饱和羧酸单体的单体混合物的聚合所获得的那些。在该情况下，组成比率优选为共轭二烯单体为30-89.5重量％，优选45-79重量％，烯属不饱和腈单体为10-50重量％，优选20-40重量％，烯属不饱和羧酸单体为0.5-20重量％，优选1-15重量％。不仅在制备方法1中优选采用具有上述组成的共轭二烯橡胶胶乳，在下面将要描述的制备方法2中也优选采用该胶乳。所述共轭二烯橡胶胶乳通常可以通过常规已知的乳液聚合法，采用上述单体来制备。除上述蘸塑胶乳外，所述蘸塑胶乳组合物还优选包含硫化剂和硫化促进剂，而且，还有氧化锌(如果需要的话)。就硫化剂而言，可以采用蘸塑中常用的那些，其实例包括硫如粉末状硫、硫华、沉淀硫、胶体硫、经表面处理的硫或不溶性硫；和多胺如六亚甲基二胺、三亚乙基四胺和四亚乙基五胺。特别优选硫。硫化剂的用量优选为0.1-10重量份，相对于100重量份的胶乳固体含量而言，更优选0.2-4重量份。就硫化促进剂而言，可以采用蘸塑中常用的那些，其实例包括二硫代氨基甲酸如二乙基二硫代氨基甲酸、二丁基二硫代氨基甲酸、二-2-乙基己基二硫代氨基甲酸、二环己基二硫代氨基甲酸、二苯基二硫代氨基甲酸和二苄基二硫代氨基甲酸及其锌盐；2-巯基苯本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蘸塑制品，其具有的表面电阻率在２０℃和６５％相对湿度的氛围下测得为１０↑［７］－１０↑［１０］Ω／平方。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：儿玉和美，中村美沙绪，井上利洋，
申请(专利权)人：日本瑞翁株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]