一种自旋转立式镀膜基架及镀膜设备制造技术

本发明专利技术公开了一种自旋转立式镀膜基架，包括基架本体和支架，所述基架本体包括顶部的第一导向部和底部的第二导向部，所述支架用于承载待镀膜的样品，可旋转地设于所述基架本体上。本发明专利技术还公开了一种镀膜设备。本发明专利技术能够实现了流水线式生产，在保证薄膜质量的前提下，可以对样品多个表面一次性镀膜，镀膜工艺耗费时间短，产业化效率高，适合大规模工业化生产。

【技术实现步骤摘要】
一种自旋转立式镀膜基架及镀膜设备
本专利技术涉及真空镀膜
，尤其涉及一种适用于流水线式的自旋转立式镀膜基架及镀膜设备。
技术介绍
由于现代科技发展的要求，真空镀膜技术得到了飞速的发展。真空镀膜技术可以改变工件表面性能，提高工件耐磨损、抗氧化和耐腐蚀等性能，从而延长工件的使用寿命。真空镀膜技术也可以实现光学、电学、半导体薄膜器件的制备，具有很高的经济价值。而磁控溅射技术可以制备各种超硬膜、耐腐蚀摩擦薄膜、超导薄膜、磁性薄膜、光学薄膜以及各种具有特殊功能的薄膜，在工业薄膜制备领域的应用非常广泛。目前，产业化的磁控溅射的设备主要分为两种类型：(1)流水线式镀膜设备，此种设备通常为线性结构，包括进样腔室、过渡腔室(即缓冲室)、镀膜腔室、另一过渡腔室、出样腔室、回架导轨。生产时，样品基架放好样品后，从进样腔室进入，通过过渡腔室进入镀膜腔室，然后在镀膜腔室完成镀膜工艺后经由过渡腔室到出样腔室，基架可通过回架导轨回到进样腔室侧，取出成品后，重新安放需要镀膜样品，又可进入进样腔室，完成循环。缓冲室的设计可以实现不破环镀膜室真空条件下连续进出样，实现流水线生产。(2)单体式镀膜设备，此种设备通常本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自旋转立式镀膜基架，其特征在于，包括基架本体(11)和支架(12)，所述基架本体(11)包括顶部的第一导向部(11a)和底部的第二导向部(11b)，所述支架(12)用于承载待镀膜的样品，可旋转地设于所述基架本体(11)上。

【技术特征摘要】
1.一种自旋转立式镀膜基架，其特征在于，包括基架本体(11)和支架(12)，所述基架本体(11)包括顶部的第一导向部(11a)和底部的第二导向部(11b)，所述支架(12)用于承载待镀膜的样品，可旋转地设于所述基架本体(11)上。2.根据权利要求1所述的自旋转立式镀膜基架，其特征在于，所述基架本体(11)上开设有容纳槽(110)，所述支架(12)容纳于所述容纳槽(110)内。3.根据权利要求2所述的自旋转立式镀膜基架，其特征在于，所述支架(12)为多个，间隔设于所述容纳槽(110)内。4.根据权利要求1所述的自旋转立式镀膜基架，其特征在于，所述基架本体(11)还包括相连的控制开关(111)、主控电路板(112)、副电源(113)和传动机构(114)，所述支架(12)在所述控制开关(111)的控制下由所述传动机构(114)驱动而相对于所述基架本体(11)转动。5.根据权利要求4所述的自旋转立式镀膜基架，其特征在于，所述传动机构(114)与所述支架(12)之间还设有衔接座(13)，所述传动机构(114)包括马达，所述衔接座(13)一端连接所述马达的驱动轴，一端连接所述支架(12)。6.根据权利要求5所述的自...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔骏，刘壮，张撷秋，杨世航，陈旺寿，李霖，钟国华，
申请(专利权)人：深圳先进技术研究院，
类型：发明
国别省市：广东,44