用于间隙检测的智能止动器和控制机制制造技术

公开了用于使用止动器、致动器和发射器/检测器来测量两个部件之间的接近度的设备与方法，所述发射器/检测器使光通过所述致动器中的通路。所述通路提供对光的衰减，所述衰减随部件之间的间隙改变而改变，从而允许对间隙的测量与控制。还描述了使用设备来确定部件的拓扑的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于间隙检测的智能止动器和控制机制背景本公开的实施方式总体上与用于处理基板的设备有关。更特别地，本公开与用于在基板上执行原子层沉积(ALD)与化学气相沉积(CVD)的批量处理平台有关。形成半导体器件的工艺通常在含有多个腔室的基板处理平台中执行。在一些实例中，多腔室处理平台或群集工具的目的是在受控制环境中连续地在基板上执行两种或两种以上工艺。然而，在其他实例中，多腔室处理平台可仅在基板上执行单个处理步骤；而附加的腔室旨在使由平台处理基板的速率最大化。在后者的情况下，在基板上执行的工艺通常为批量工艺，其中在给定腔室中同时处理相对大量的基板，例如25或50个基板。批量处理对于以经济可行的方式在多个个别的基板上执行过于耗时的工艺(诸如，对ALD工艺与一些化学气相沉积(CVD)工艺)是特别有益的。半导体产业对于工艺变异的容忍性随着半导体器件尺寸收缩而持续减小。为了满足这些更严格的工艺控制，产业已经发展许多满足严格的工艺窗口要求的新工艺，但是这些工艺时常需要较长的完成时间。例如，ALD是CVD的变体，与CVD相比，ALD表现出优异的阶梯覆盖。ALD基于原本运用于制造电致发光显示器的原子层外延(AL本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设备，包括：止动器，所述止动器具有具备顶部、底部和开口的主体，所述顶部具备顶端，所述底部具备底端，并且所述开口从所述顶端延伸至所述底端；致动器，所述致动器具有具备上部和下部的主体，所述上部具备上端，所述下部具备下端，所述上部具有延伸穿过所述主体的通路，所述通路具有第一端与第二端，所述致动器的尺寸经设计以可滑动地定位在所述止动器的所述开口内，使得当没有力施加至所述致动器的所述下端时，所述致动器的所述下端从所述止动器的所述底端突出第一距离；发射器，所述发射器与所述致动器中的所述通路的所述第一端对齐；以及检测器，所述检测器与所述致动器中的所述通路的所述第二端对齐。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.01.22 US 62/106,5051.一种设备，包括：止动器，所述止动器具有具备顶部、底部和开口的主体，所述顶部具备顶端，所述底部具备底端，并且所述开口从所述顶端延伸至所述底端；致动器，所述致动器具有具备上部和下部的主体，所述上部具备上端，所述下部具备下端，所述上部具有延伸穿过所述主体的通路，所述通路具有第一端与第二端，所述致动器的尺寸经设计以可滑动地定位在所述止动器的所述开口内，使得当没有力施加至所述致动器的所述下端时，所述致动器的所述下端从所述止动器的所述底端突出第一距离；发射器，所述发射器与所述致动器中的所述通路的所述第一端对齐；以及检测器，所述检测器与所述致动器中的所述通路的所述第二端对齐。2.如权利要求1所述的设备，进一步包含O形环，所述O形环在所述止动器与所述致动器之间，所述O形环在所述止动器与所述致动器之间形成流体紧密密封。3.如权利要求1所述的设备，进一步包含弹簧与板材，所述弹簧定位成相邻于所述致动器的所述顶端，并且所述板材定位成相邻于所述弹簧，所述板材向所述弹簧提供压力。4.如权利要求3所述的设备，其中所述止动器的所述顶部包括凸缘，并且所述板材以螺栓固定至所述凸缘。5.如权利要求3所述的设备，其中施加至所述致动器的所述下端的压力使所述致动器在所述止动器中的所述开口内滑动，使得所述弹簧处于最大压缩，并且所述致动器的所述下端从所述止动器的所述底端突出第二距离，所述第二距离比所述第一距离短。6.如权利要求5所述的设备，其中当所述弹簧处于最大压缩时，所述致动器的所述下端从所述止动器的所述底端突出至少0.1毫米。7.如权利要求5所述的设备，其中所述致动器的移动使所述发射器与所述检测器相对于所述通路的对齐情形改变。8.如权利要求7所述的设备，其中当所述致动器的所述下端从所述止动器突出所述第一距离时，所述发射器与所述检测器相对于所述通路对齐，使得所述通道对来自所述发射器的正由所述检测器检测的光提供第一衰减，而当所述致动器突出所述第二距离时，所述通路对来自所述发射器的正由所述检测器检测的所述光提供第二衰减，使得所述第一衰减与所述第二衰减不同。9.如权利要求8所述的设备，其中当所述致动器突出所述第一距离时，所述第一衰减小于当所述致动器突出所述第二...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·坎德沃尔，G·K·翁，K·格里芬，J·约德伏斯基，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：美国,US