用于校正能量依赖投影值的校正装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于校正能量依赖投影值的校正装置。投影值提供单元(13)提供已在校准操作期间基于已穿过材料并且撞击在能量分辨检测器(6)上的辐射，针对a)所述辐射的强度已在所述校准操作中改变之后的不同时间、b)不同强度变化和c)不同材料和/或不同材料厚度生成的能量依赖校准投影值。瞬态行为确定和校正单元(12)基于所述能量依赖校准投影值来确定所述能量分辨检测器的瞬态行为，并且基于确定的所述瞬态行为来校正能量依赖实际投影值。校正后的所述能量依赖实际投影值较少受所述能量分辨检测器的瞬态行为的影响或完全不受所述能量分辨检测器的瞬态行为影响，由此改进所述能量依赖实际投影值的品质。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于校正能量依赖投影值的校正装置
本专利技术涉及用于校正能量依赖投影值的校正装置、方法和计算机程序。本专利技术进一步涉及包括该校正装置的用于对物体进行成像的光谱成像系统，以及涉及对应的光谱成像方法和计算机程序。
技术介绍
已知光谱计算机断层摄影系统包括发射用于穿过待成像物体的多色辐射的辐射源和用于在该辐射已穿过物体之后基于辐射生成能量依赖投影值的能量分辨检测器。辐射源和检测器在物体周围旋转，以便在不同的投影方向上获取能量依赖投影值。基于所获取的能量依赖投影值，重建计算机断层摄影图像。能量依赖投影值的生成可能暂时是不稳定的，即，在相同的辐射条件下，在不同的时间可生成不同的能量依赖投影值，这可能降低能量依赖投影值的品质。这继而可能导致基于能量依赖投影值重建的计算机断层摄影图像的品质降低。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供用于校正能量依赖投影值的校正装置、方法和计算机程序，以便改进其品质。本专利技术的另一目的是提供包括该校正装置的用于对物体进行成像的光谱成像系统，以及提供对应的光谱成像方法和计算机程序。在本专利技术的第一方面中，给出一种用于校正能量依赖投影值的校正装置，其中所述校正装置包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于校正能量依赖投影值的校正装置，所述校正装置包括：投影值提供单元(13)，所述投影值提供单元用于提供能量依赖校准投影值(Mb(I1,I2,A,t,p))以及用于提供能量依赖实际投影值(mb(I1,I2,t,p))，所述能量依赖校准投影值已在校准操作期间基于已穿过材料并且撞击在能量分辨检测器(6)上的辐射，针对a)所述辐射的强度已在所述校准操作中改变之后的不同时间、b)不同强度变化和c)不同材料和/或不同材料厚度而生成，并且所述能量依赖实际投影值已在实际扫描操作期间基于已穿过待成像物体并且撞击在所述能量分辨检测器(6)上的辐射，针对所述辐射的强度已在所述实际扫描操作中改变之后的不同时间而生...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.01.07 EP 15150259.81.一种用于校正能量依赖投影值的校正装置，所述校正装置包括：投影值提供单元(13)，所述投影值提供单元用于提供能量依赖校准投影值(Mb(I1,I2,A,t,p))以及用于提供能量依赖实际投影值(mb(I1,I2,t,p))，所述能量依赖校准投影值已在校准操作期间基于已穿过材料并且撞击在能量分辨检测器(6)上的辐射，针对a)所述辐射的强度已在所述校准操作中改变之后的不同时间、b)不同强度变化和c)不同材料和/或不同材料厚度而生成，并且所述能量依赖实际投影值已在实际扫描操作期间基于已穿过待成像物体并且撞击在所述能量分辨检测器(6)上的辐射，针对所述辐射的强度已在所述实际扫描操作中改变之后的不同时间而生成，瞬态行为确定和校正单元(12)，所述瞬态行为确定和校正单元用于基于所述能量依赖校准投影值Mb(I1,I2,A,t,p)来确定表示所述能量分辨检测器(6)的瞬态行为的瞬态行为参数(db(I1,I2,A,t,p),Δa(I1,I2,A,t,p))，并且用于基于所述能量分辨检测器(6)的确定的所述瞬态行为参数(db(I1,I2,A,t,p),Δa(I1,I2,A,t,p))来校正所述能量依赖实际投影值(mb(I1,I2,t,p))。2.如权利要求1所述的校正装置，其中，所述瞬态行为确定和校正单元(12)适于基于所述能量分辨检测器(6)的确定的所述瞬态行为参数(db(I1,I2,A,t,p))来校正所述能量依赖校准投影值(Mb(I1,I2,A,t,p))，所述瞬态行为确定和校正单元(12)提供用于通过将分解算法应用至能量依赖投影值来将所述能量依赖投影值分解成材料依赖投影值的分解功能，其中所述瞬态行为确定和校正单元(12)适于通过使用校正后的所述能量依赖校准投影值来校准所述分解算法。3.如权利要求2所述的校正装置，其中，所述瞬态行为确定和校正单元(12)适于使用基于ATable的ATable方法作为分解算法，其中所述ATable是基于校正后的所述能量依赖校准投影值确定的，以便校准所述分解算法。4.如权利要求1所述的校正装置，其中，所述瞬态行为确定和校正单元(12)适于：提供描述由能量分辨检测器基于已撞击在所述能量分辨检测器上并且已穿过材料的辐射生成的能量依赖投影值a)对所述辐射的强度已改变之后的时间、b)对所述强度的变化，和c)对不同材料和/或不同材料厚度的依赖性的模型(db(I1,I2,A,t,p))，将所提供的模型(db(I1,I2,A,t,p))适配成与所述能量依赖校准投影值(Mb(I1,I2,A,t,p))一致，以便确定所述瞬态行为参数。5.如权利要求4所述的校正装置，其中，所述瞬态行为确定和校正单元(12)适于基于适配后的所述模型(db(I1,I2,A,t,p))来校正所述能量依赖校准投影值(Mb(I1,I2,A,t,p))，所述瞬态行为确定和校正单元(12)提供用于通过将分解算法应用至所述能量依赖投影值来将能量依赖投影值分解成材料依赖投影值的分解功能，所述瞬态行为确定和校正单元(12)适于通过使用校正后的能量依赖校准投影值来校准所述分解算法。6.如权利要求5所述的校正装置，其中，所述瞬态行为确定和校正单元(12)适于：将校准后的所述分解算法应用至所述能量依赖实际投影值(mb(I1,I2,t,p))，由此确定材料依赖实际投影值，所述材料依赖实际投影值限定在所述校准操作期间使用的一个或若干材料的厚度，并且基于适配后的所述模型(db(I1,I2,A,t,p))和确定的所述材料依赖实际投影值来校正所述能量依赖实际投影值(mb(I1,I2,t,p))。7.如权利要求6所述的校正装置，其中，所述瞬态行为确定和校正单元(12)适于迭代地执行应用校准的所述分解算法和校正所述能量依赖实际投影值(mb(I1,I2,t,p))的步骤。8.如权利要求1所述的校正装置，其中，所述瞬态行为确定和校正单元(12)适于：随时间推移求所述能量依赖校准投影值(Mb(I1,I2,A,t,p))的平均值，提供用于通过将分解算法应用至所述能量依赖投影值来将能量依赖投影值分解成材料依赖投影值的分解功能，并且适于通过使用平均后的所述能量依赖校准投影值((I1,I2,A,p))来校准所述分解算法，通过将校准后的所述分解算法应用至所述能量依赖校准投影值来将所述能量依赖校准投影值(Mb(I1,I2,A,t,p))分解成材料依赖校准投...

【专利技术属性】
技术研发人员：E·勒斯尔，I·M·布勒维，D·鲁宾，O·扎尔钦，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL