【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】作为除草剂的噻唑并吡啶酮本专利技术涉及除草活性噻唑并吡啶酮,特别是经苄氧基-取代的-苯基-噻唑并吡啶酮衍生物,其制备方法和包括这些衍生物的组合物。本专利技术还延伸到这些化合物和组合物作为除草剂,即用于控制不期望的植物生长的用途。特别地,这些化合物和组合物可用于控制有用植物的作物中的杂草,如阔叶双子叶杂草。现有技术描述了形成具有五元或六元杂环的稠环系统的各种除草活性吡啶酮。例如,WO2011/051212披露了与选定的五元杂环稠合并且在吡啶环的3位置处被芳基和杂芳基基团取代的吡啶酮。WO2012/028582披露了与选定的五元和六元杂环稠合并且在吡啶环的3位置处被芳基基团取代的吡啶酮。WO2013/144096描述了在吡啶环的3位置处被芳基或杂芳基基团取代的除草和杀虫活性的噻唑并吡啶酮。本专利技术基于如下发现:如下所示具有通式(I)的噻唑并吡啶酮(其中噻唑并吡喃酮部分在吡啶环的3位置处被经苄氧基取代的芳基部分取代)是特别有效的,并且是选择性的除草剂。因此,在第一方面,提供了一种具有化学式(I)的化合物或其盐或N-氧化物,其中:R1是氢、卤素、硝基、氰基,或选自下组,该组由以下各项组成:C1-C6烷基、C2-C6烯基、C1-C6烷氧基C1-C6烷硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C3-C6环烷基、C1-C6烷氧基-C1-C6烷基-、C1-C6烷氧基-C1-C6烷氧基-、二-C1-C6烷氧基-C1-C6烷基、和C1-C6烷硫基-C1-C6烷基,它们各自任选地被1-3个卤素原子取代;R2是氢;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C3-C6炔基C3-C ...
【技术保护点】
一种具有化学式(I)的化合物
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.22 GB 1422895.11.一种具有化学式(I)的化合物或其盐或N-氧化物,其中:R1是氢、卤素、硝基、氰基,或选自下组,该组由以下各项组成:C1-C6烷基、C2-C6烯基、C1-C6烷氧基C1-C6烷硫基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6烷基磺酰基、C3-C6环烷基、C1-C6烷氧基-C1-C6烷基-、C1-C6烷氧基-C1-C6烷氧基-、二-C1-C6烷氧基-C1-C6烷基、和C1-C6烷硫基-C1-C6烷基,它们各自任选地被1-3个卤素原子取代;R2是氢;或C1-C6烷基、C2-C6烯基、C3-C6炔基C3-C6环烷基、C1-C6烷氧基-C1-C6烷基-、C1-C6烷氧基-C1-C6烷氧基-、二-C1-C6烷氧基-C1-C6烷基、C1-C6烷硫基-C1-C6烷基、C1-C6烷基亚磺酰基-C1-C6烷基、C1-C6烷基磺酰基-C1-C6烷基、C3-C6环烷基-C1-C6烷基、或氰基-C1-C6烷基,它们各自任选地被1-3个卤素原子取代;或任选地被1-3个独立地选自卤素、C1-C6烷基和C1-C6烷氧基的取代基取代的苯基;或任选地被1-3个独立地选自卤素、C1-C6烷基和C1-C6烷氧基的取代基取代的苄基;G是氢、C1-C10烷基、C2-C10烯基、C2-C10炔基或芳基-C1-C4烷基-或其中芳基部分被一至五个独立地选自卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷氧基或C(O)R3的取代基取代的芳基-C1-C4烷基-;R3是C1-C10烷基、C3-C10环烷基、C3-C10环烷基-C1-C10烷基-、C1-C10卤代烷基、C2-C10烯基、C2-C10炔基、C1-C4烷氧基-C1-C10烷基-、C1-C4烷硫基-C1-C4烷基-、C1-C10烷氧基、C2-C10烯氧基、C2-C10炔氧基、C1-C10烷硫基-、NR5R6、N-C1-C4烷基-氨基-、N,N-二-(C1-C4烷基)-氨基-、芳基或被1-3个可以相同或不同的R4取代的芳基、杂芳基或被1-3个可以是相同或不同的R4取代的杂芳基、芳基-C1-C4烷基-或其中芳基部分被1-3至三个可以是相同或不同的R4取代的芳基-C1-C4烷基-、杂芳基-C1-C4烷基-或其中杂芳基部分被1-3个可以是相同或不同的R4取代的杂芳基-C1-C4烷基-、芳氧基或被1-3个可以是相同或不同的R4取代的芳氧基-、杂芳氧基或被1-3个可以是相同或不同的R4取代的杂芳氧基、芳硫基或被1-3个可以是相同或不同的R4取代的芳硫基、或杂芳硫基或被一至三个可以是相同或不同的R4取代的杂芳硫基;每个R4独立地是卤素、氰基、硝基、C1-C10烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C10烷氧基、C1-C4烷氧基羰基-、C1-C4卤代烷氧基、C1-C10烷硫基-、C1-C4卤代烷硫基-、C1-C10烷基亚磺酰基-、C1-C4卤代烷基亚磺酰基-、C1-C10烷基磺酰基-、C1-C4卤代烷基磺酰基-、芳基或被1-5个独立地选自卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷氧基的取代基取代的芳基、或杂芳基或被1-4个独立地选自卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基或C1-C6烷氧基的取代基取代的杂芳基;R5和R6独立地选自下组,该组由以下各项组成:C1-C6烷基和C1-C6烷氧基,或者R5和R6一起可以形成吗啉基环;X和Y各自独立地是氢、C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、或卤素,Z是C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3卤代烷基、C1-C3卤代烷氧基、或卤素;并且n是0、1、2、3、4、或5中的一个整数。2.根据权利要求1所述的化合物,其中R1是氢,或选自下组,该组由以下各项组成:C1-C6-烷基、C1-C6...
【专利技术属性】
技术研发人员:S·E·沙纳翰,J·S·维尔斯,J·W·P·达利摩尔,J·N·斯卡特,
申请(专利权)人:先正达参股股份有限公司,
类型:发明
国别省市:瑞士,CH
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