基板拍摄装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板拍摄装置。抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。检查单元(U3)包括：保持台，其构成为保持晶圆(W)而使晶圆(W)旋转；镜构件(430)，其具有反射面(432)，该反射面(432)相对于保持台的旋转轴线倾斜，并且与保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)和背面(Wb)的周缘区域(Wd)相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到保持台的晶圆(W)的表面(Wa)的周缘区域(Wd)的光、以及来自被保持到保持台的晶圆(W)的端面(Wc)的光被镜构件(430)的反射面(432)反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。

【技术实现步骤摘要】
基板拍摄装置
本专利技术涉及基板拍摄装置。
技术介绍
当前，在进行基板(例如，半导体晶圆)的微细加工时，广泛地使用光刻法技术而在基板上形成凹凸图案。例如，在半导体晶圆上形成抗蚀剂图案的工序包括在晶圆的表面形成抗蚀剂膜、按照预定的图案对该抗蚀剂膜进行曝光、使曝光后的抗蚀剂膜和显影液反应而进行显影。近年来，作为用于获得线宽是40nm～45nm左右的极微细的抗蚀剂图案的技术，提出了液浸曝光技术。在对抗蚀剂膜进行液浸曝光之际，在向晶圆与曝光用的投影镜头之间供给了折射率比空气的折射率高的曝光液(纯水等)的状态下，进行抗蚀剂膜的曝光。不过，在进行晶圆的表面处理的过程中，由于各种原因，微小的微粒(异物)有时附着于晶圆的表面(中央部或周缘部)。通过利用清洗液对基板的表面进行清洗，能够将大部分的微粒去除，但有时在基板的表面还残留微粒。若附着有微粒的晶圆向曝光机内输入，则曝光机被微粒污染，在后续的晶圆的曝光时除了所期望图案以外还可复制微粒的形状。此外，若曝光机被微粒污染，则曝光机的清洁有时需要较长时间，生产率就大幅度地降低。而且，于在晶圆的周缘附近本来就存在缺陷(例如，裂纹、破碎、损伤等)的情况下，无法恰当地对晶圆进行处理。因此，专利文献1～3公开有一种晶圆的检查方法，该晶圆的检查方法包括使用多个照相机来对晶圆的周缘部进行拍摄的工序、对各拍摄图像进行图像处理的工序以及基于图像处理后的处理图像对晶圆的周缘部的状态进行把握的工序。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2007－251143号公报专利文献2：日本特开2008－135583号公报专利文献3：日本特开平11－339042号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，在专利文献1～3的检查方法中，为了对晶圆的周缘附近的多个表面(例如，上表面和端面)进行检查，使用多个照相机而对各面独立地进行了拍摄。因此，需要用于设置多个照相机的空间，用于对晶圆进行检查的装置可能大型化，并且该装置的成本可能增加。也想到一边使1台照相机移动一边对晶圆的周缘附近的多个表面进行检查，但需要用于设置用于使照相机移动的机构的空间，因此，该装置还是可能大型化。另外，照相机的移动速度并不那么快，因此晶圆的检查可能需要时间。而且，在使用多个照相机的情况下，除了多个照相机之外，需要它们的组装机构等，结构变得复杂。在使1台照相机移动的情况下，除了需要1台照相机之外，还需要照相机的移动机构等，结构变得复杂。因此，在专利文献1～3的检查方法中，故障等设备事故的可能性提高，有可能无法高效地进行检查。因此，本专利技术对可抑制设备事故且谋求小型化和低成本化的基板拍摄装置进行说明。用于解决问题的方案本专利技术的一个技术方案的基板拍摄装置包括：旋转保持部，其构成为保持基板并使基板旋转；镜构件，其具有反射面，该反射面相对于旋转保持部的旋转轴线倾斜，并且与保持于旋转保持部的基板的端面和背面的周缘区域相对；以及照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到旋转保持部的基板的表面的周缘区域的第1光以及来自被保持到旋转保持部的基板的端面的第2光被镜构件反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。在本专利技术的一个技术方案的基板拍摄装置中，镜构件具有相对于旋转保持部的旋转轴线倾斜、并且与被保持到旋转保持部的基板的端面和背面的周缘区域相对的反射面。另外，在本专利技术的一个技术方案的基板拍摄装置中，来自被保持到旋转保持部的基板的表面的周缘区域的第1光以及来自被保持到旋转保持部的基板的端面的第2光被镜构件的反射面反射而成的反射光都经由镜头输入照相机的拍摄元件。因此，基板的表面的周缘区域和基板的端面这两者被1台照相机同时拍摄。因而，无需多个照相机，结果，也无需用于设置多个照相机的空间。另外，也无需用于使照相机移动的机构，因此，也无需用于设置该机构的空间。这样，在本专利技术的一个技术方案的基板拍摄装置中，装置结构被极其简单化。其结果，可抑制设备事故且谋求基板拍摄装置的小型化和低成本化。反射面可以是朝向远离被保持到旋转保持部的基板的端面的那一侧凹陷而成的弯曲面。在该情况下，基板的端面映到反射面的镜像相比于实像放大。因此，能够获得基板的端面的更详细的拍摄图像。因而，通过对该拍摄图像进行图像处理，可对基板的端面更准确地进行检查。也可以是，本专利技术的一个技术方案的基板拍摄装置还具有焦点调节透镜，该焦点调节透镜构成为，配置于第2光被镜构件的反射面反射而到达镜头为止的之间的光路的中途，使基板的端面的成像位置对准拍摄元件。第2光被镜构件的反射面反射而到达镜头为止的光程与第1光到达镜头为止的光程相比较，长出与被镜构件反射相应的量。然而，在该情况下，利用焦点调节透镜使基板的端面的成像位置对准拍摄元件，因此，拍摄图像中的基板的表面的周缘区域和基板的端面这两者变得清晰。因而，通过对该拍摄图像进行图像处理，可对基板的端面更准确地进行检查。也可以是，本专利技术的一个技术方案的基板拍摄装置还具有照明部，该照明部具有：光源；光扩散构件，其使来自光源的光向与该来自光源的光的光轴正交的第1方向扩散而产生扩散光，照明部将扩散光向被保持到旋转保持部的基板的表面的周缘区域照射，并且以扩散光的被镜构件反射而成的反射光到达被保持到旋转保持部的基板的端面的方式将扩散光向镜构件的反射面照射。在该情况下，来自光源的光被向第1方向扩散，因此，扩散光从各种方向向基板的端面入射。因此，基板的端面整体上被均匀地照明。因而，可更清晰地对基板的端面进行拍摄。也可以是，照明部还具有：光散射构件，其使来自光源的光散射而产生散射光；圆柱透镜，其是朝向光扩散构件凸的圆柱透镜，使来自光散射构件的散射光透过光扩散构件，圆柱透镜使来自光散射构件的散射光向与来自光源的光的光轴和第1方向这两者正交的第2方向扩散。在该情况下，散射光被向第1方向和第2方向扩散，因此，扩散光从各种方向向基板的端面入射。因此，基板的端面整体上被更均匀地照明。因而，可进一步清晰地对基板的端面进行拍摄。专利技术的效果根据本专利技术的基板拍摄装置，可抑制设备事故且谋求小型化和低成本化。附图说明图1是表示基板处理系统的立体图。图2是图1的II－II线剖视图。图3是表示单位处理模块(BCT模块、HMCT模块、COT模块和DEV模块)的俯视图。图4是从上方观察检查单元的剖视图。图5是从侧方观察检查单元的剖视图。图6是表示检查单元的立体图。图7是从前方观察周缘拍摄副单元的立体图。图8是从后方观察周缘拍摄副单元的立体图。图9是周缘拍摄副单元的俯视图。图10是二面拍摄模块的侧视图。图11是表示照明模块的分解立体图。图12是图11的XII－XII线剖视图。图13是图11的XIII－XIII线剖视图。图14的(a)是表示来自光源的光通过了光散射构件时的情形的照片，图14的(b)是表示来自光源的光通过了光散射构件和圆柱透镜时的情形的照片，图14的(c)是表示来自光源的光通过了光散射构件、圆柱透镜以及光扩散构件时的情形的照片。图15的(a)是用于对不存在焦点调节透镜的情况的光路进行说明的图，图15的(b)是用于对存在焦点调节透镜的情况的光路进行说明的图。图16是表示镜构件的立体图。图17是表示镜构件的侧视图。图18的(a)是用于对来自照明模块的光在镜构件中反射的情形进行说明的图，图18的(b)是用于对来自晶本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板拍摄装置，其包括：旋转保持部，其构成为保持基板而使该基板旋转；镜构件，其具有反射面，该反射面相对于所述旋转保持部的旋转轴线倾斜，并且与被保持到所述旋转保持部的所述基板的端面和背面的周缘区域相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到所述旋转保持部的所述基板的表面的周缘区域的第1光、以及来自被保持到所述旋转保持部的所述基板的端面的第2光被所述镜构件的所述反射面反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。

【技术特征摘要】
2016.02.22 JP 2016-0313611.一种基板拍摄装置，其包括：旋转保持部，其构成为保持基板而使该基板旋转；镜构件，其具有反射面，该反射面相对于所述旋转保持部的旋转轴线倾斜，并且与被保持到所述旋转保持部的所述基板的端面和背面的周缘区域相对；照相机，其具有拍摄元件，来自被保持到所述旋转保持部的所述基板的表面的周缘区域的第1光、以及来自被保持到所述旋转保持部的所述基板的端面的第2光被所述镜构件的所述反射面反射而成的反射光都经由镜头输入该拍摄元件。2.根据权利要求1所述的基板拍摄装置，其中，所述反射面是朝向远离被保持到所述旋转保持部的所述基板的端面的那一侧凹陷而成的弯曲面。3.根据权利要求1或2所述的基板拍摄装置，其中，该基板拍摄装置还具有焦点调节透镜，该焦点调节透镜构成为，配置于所述第2光被所述镜构件的所述反射面反射而成的反射光的从所...

【专利技术属性】
技术研发人员：古闲法久，西山直，野田康朗，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP