The present invention provides a light curable adhesive and polarizing plate using the same, wherein the light curing adhesive is used in UV curable adhesive polyvinyl alcohol polarizer bonded on the thermoplastic resin film, the epoxy compound contains no aromatic ring as the main ingredient, and contains a photo cationic curing component (A) and a cationic photopolymerization initiator (B), light curable cationic composition (A) containing (I) type first epoxy compound shown (A1).
【技术实现步骤摘要】
光固化性胶粘剂、以及使用其的偏振板及层叠光学构件
本专利技术涉及用于在聚乙烯醇系偏振片上粘接热塑性树脂膜的光固化性胶粘剂、以及使用其的偏振板及层叠光学构件。
技术介绍
偏振板作为构成液晶显示装置的光学部件之一是有用的。偏振板通常具有在偏振片的两面层叠保护膜的结构,并且被组装在液晶显示装置内。已知有仅在偏振片的单面设置保护膜的情况,但是,多数情况在另一个面并非粘接单一的保护膜而是粘接具有其他光学功能的膜兼作保护膜。作为偏振片的制造方法,广泛采用将利用二色性色素染色后的单轴拉伸的聚乙烯醇系树脂膜进行硼酸处理、水洗后进行干燥的方法。通常,在对偏振片进行上述水洗及干燥后,立即粘接保护膜。这是因为干燥后的偏振片的物理强度弱,一旦将其卷绕,则有在加工方向上容易破裂等问题。因而,通常对干燥后的偏振片立即涂布聚乙烯醇系树脂的水溶液即水系胶粘剂,介由该胶粘剂在偏振片的两面同时粘接保护膜。作为惯例,使用厚度为30~100μm的三乙酰基纤维素膜作为保护膜。三乙酰基纤维素具有透明性优异、容易在其表面形成各种表面处理层、光学功能层,而且透湿度高,使用如上述的水系胶粘剂粘接于偏振片后的干燥可以顺利地进行这样的作为保护膜优异的优点,然而,因透湿度高而将其作为保护膜的偏振板在湿热下例如温度70℃、相对湿度90%的条件下存在容易引起劣化等问题。因此,还已知有:将比三乙酰基纤维素的透湿度更低的、例如以降冰片烯系树脂作为代表例的非晶性聚烯烃系树脂作为保护膜的情况。在将包含透湿度低的树脂的保护膜粘接于聚乙烯醇系偏振片时,若将以往用于聚乙烯醇系偏振片与三乙酰基纤维素膜的粘接的聚乙烯醇系树脂的水溶液 ...
【技术保护点】
一种光固化性胶粘剂,其是用于在聚乙烯醇系偏振片上粘接热塑性树脂膜的光固化性胶粘剂,其以不包含芳香环的环氧化合物作为主成分,所述光固化性胶粘剂包含光阳离子固化性成分(A)和光阳离子聚合引发剂(B),所述光阳离子固化性成分(A)含有下述式(I)所示的第1环氧化合物(A1),
【技术特征摘要】
2016.02.17 JP 2016-028156;2017.02.02 JP 2017-017601.一种光固化性胶粘剂,其是用于在聚乙烯醇系偏振片上粘接热塑性树脂膜的光固化性胶粘剂,其以不包含芳香环的环氧化合物作为主成分,所述光固化性胶粘剂包含光阳离子固化性成分(A)和光阳离子聚合引发剂(B),所述光阳离子固化性成分(A)含有下述式(I)所示的第1环氧化合物(A1),式中,n表示1以上的整数,V表示包含由脂环式环构成的稠环的n价基团。2.根据权利要求1所述的光固化性胶粘剂,其中,所述光阳离子固化性成分(A)以其整体量为基准计,含有所述第1环氧化合物(A1)5~85重量%及下述式(II)所示的第2环氧化合物(A2)15~85重量%,式中,R1及R2分别独立地表示氢原子或碳原子数为1~6的烷基,在烷基的碳原子数为3以上时可以具有脂环结构;X表示氧原子、碳原子数为1~6的烷二基或下述式(IIa)~(IId)中的任一者所示的2价基团,其中,Y1~Y4分别表示碳原子数为1~20的烷二基,在碳原子数为3以上时可以具有脂环结构;a及b分别表示0~20的整数。3.根据权利要求1所述的光固化性胶粘剂,其中,所述光阳离子固化性成分(A)以其整体量为基准计,还含有下述式(III)所示的第3环氧化合物(A3)1~70重量%,式中,Z表示碳原子数为3~8的支链亚烷基、或式-CmH2m-Z1-CnH2n-所示的2价基团,其中,-Z1-表示-O-、-CO-O-或-O-CO-,m及n中的一者表示1以上的整数、另一者表示2以上的整数,两者的合计为8以下,且CmH2m及CnH2n中的一...
【专利技术属性】
技术研发人员:久米悦夫,古川达也,佐藤和德,松土和彦,松本拓也,
申请(专利权)人:住友化学株式会社,株式会社ADEKA,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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