液体处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供能够稳定地生成等离子体的液体处理装置。液体处理装置(1)具备：具有用于向被处理液内放出气体的第1开口和第1内侧面的筒状的第1绝缘体、至少一部分配置在由上述第1内侧面所围成的第1空间内的第1电极、至少一部分配置在上述被处理液内的第2电极、通过向上述第1空间内供给上述气体而介由上述第1开口将上述气体放出到上述被处理液中的气体供给装置、和通过对上述第1电极与上述第2电极之间施加电压而产生等离子体的电源。上述第1内侧面包含与上述第1开口相接的第1部分区域，上述第1电极的侧面与上述第1部分区域之间的最短距离即第1距离为1mm以上。

Liquid treatment equipment

The present invention provides a liquid processing device that can stably generate a plasma. A liquid processing device (1) has to be used for processing liquid in gas of the first opening and the first inner side of the cylindrical insulator first, at least a portion of the first inner side is arranged in a space surrounded by the first of the first electrode, at least a portion is arranged on the liquid to be processed within second according to the first electrode, and the gas supply in the space by the first opening of the dielectric gas released into the liquid to be processed in the gas supply device, and through the first electrode and the second electrode voltage applied between the generated plasma power supply. The first inner bread comprises a first part region connected with the first opening, the shortest distance between the side of the first electrode and the first part area, namely, the first distance is more than 1mm.

【技术实现步骤摘要】
液体处理装置
本公开涉及利用了等离子体的液体处理装置。
技术介绍
以往，已知有在液体的净化或杀菌等中利用等离子体的技术。例如在专利文献1及专利文献2中记载了向液体中供给气体并在所供给的气体内生成等离子体的液体处理装置。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-33694号公报专利文献2：日本特开2015-136644号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本申请专利技术人发现了在以往的液体处理装置中未被考虑的硅氧化物的析出这样的课题。本公开提供能够抑制硅氧化物的析出、更稳定地生成等离子体的液体处理装置。用于解决问题的方法为了解决上述课题，本公开的一方式所述的液体处理装置具备：具有用于向被处理液内放出气体的第1开口和第1内侧面的筒状的第1绝缘体；至少一部分配置在由上述第1内侧面所围成的第1空间内的第1电极；至少一部分配置在上述被处理液内的第2电极；通过向上述第1空间内供给上述气体，从而介由上述第1开口将上述气体放出到上述被处理液中的气体供给装置；和通过对上述第1电极与上述第2电极之间施加电压而产生等离子体的电源。上述第1内侧面包含与上述第1开口相接的第1部分区域。上述第1电极的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液体处理装置，其具备：具有用于向被处理液内放出气体的第1开口和第1内侧面的筒状的第1绝缘体、至少一部分配置在由所述第1内侧面所围成的第1空间内的第1电极、至少一部分配置在所述被处理液内的第2电极、通过向所述第1空间内供给所述气体而介由所述第1开口将所述气体放出到所述被处理液中的气体供给装置、和通过对所述第1电极与所述第2电极之间施加电压而产生等离子体的电源，所述第1内侧面包含与所述第1开口相接的第1部分区域，所述第1电极的前端从所述第1开口向所述第1空间外突出、或从所述第1开口向所述第1空间内后退低于3mm，所述第1电极的侧面与所述第1部分区域之间的最短距离即第1距离为1mm以上。

【技术特征摘要】
2016.02.17 JP 2016-028399;2016.12.26 JP 2016-251791.一种液体处理装置，其具备：具有用于向被处理液内放出气体的第1开口和第1内侧面的筒状的第1绝缘体、至少一部分配置在由所述第1内侧面所围成的第1空间内的第1电极、至少一部分配置在所述被处理液内的第2电极、通过向所述第1空间内供给所述气体而介由所述第1开口将所述气体放出到所述被处理液中的气体供给装置、和通过对所述第1电极与所述第2电极之间施加电压而产生等离子体的电源，所述第1内侧面包含与所述第1开口相接的第1部分区域，所述第1电极的前端从所述第1开口向所述第1空间外突出、或从所述第1开口向所述第1空间内后退低于3mm，所述第1电极的侧面与所述第1部分区域之间的最短距离即第1距离为1mm以上。2.根据权利要求1所述的液体处理装置，其中，所述第1电极的所述前端从所述第1开口向所述第1空间外突出。3.根据权利要求2所述的液体处理装置，其中，所述第1电极的所述前端从所述第1开口向所述第1空间外突出1mm以上。4.根据权利要求2或3所述的液体处理装置，其中，所述第1电极的所述前端从所述第1开口向所述第1空间外突出3mm以下。5.根据权利要求1～4中任一项所述的液体处理装置，其中，所述第1内侧面包含将所述第1电极包围的与第1部分区域不同的第2部分区域，所述第1距离、或所述第1电极的侧面与所述第2部分区域之间的最短距离为通过所述电压而在所述第1或第2部分区域中产生的电场成为1.6×106V/m以下的距离。6.根据权利要求1～5中任一项所述的液体处理装置，其中，所述第1内侧面包含与第1部分区域不同、且将所述第1电极包围的第2部分区域，所述第1距离、或所述第1电极的侧面与所述第2部分区域之间的最短距离为2.6mm以上。7.根据权利要求6所述的液体处理装置，其中，所述第1距离、或所述第1电极的侧面与所述第2部分区域之间的最短距离为5mm以上。8.根据权利要求1～5中任一项所述的液体处理装置，其中，所述第1距离为1mm以上且3mm以下。9.根据权利要求1～8中任一项所述的液体处理装置，其中，所述气体供给装置所供给的气体的流量为0.5L/min以上。10.根据权利要求1～9中任一项所述的液体处理装置，其中，所述第1电极具备长条的圆柱状的电极部，所述第1绝缘体为将所述电极部的侧面包围的长条的圆筒体，所述电极部与所述第1绝缘体配置在同轴上。11.根据权利要求1～9中任一项所述的液体处理装置，其中，所述第1电极具备：具有所述气体的流体的下游侧的前端及上游侧的后端的长条的圆...

【专利技术属性】
技术研发人员：高柳哲也，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP