显示基底、制造其的方法及包括其的显示装置制造方法及图纸

公开了显示基底、制造该显示基底的方法和包括公开的显示基底的显示装置。在一个方面中，显示基底包括基础基底和在基础基底上的堆叠结构，堆叠结构包括有源图案、栅电极和多个绝缘层。显示基底还包括在堆叠结构上的多条布线和在多条布线中的各个上的多个彩色覆盖图案。

Display substrate, method of manufacturing the same, and display device including the same

A display substrate, a method of manufacturing the display substrate, and a display device including the disclosed display substrate are disclosed. In one aspect, the display substrate includes a base substrate and a stacked structure on the base substrate, the stack structure including an active pattern, a gate electrode, and a plurality of insulating layers. The display substrate also includes a plurality of wirings on the stacked structure and a plurality of color overlay patterns on each of the plurality of wirings.

【技术实现步骤摘要】
显示基底、制造其的方法及包括其的显示装置
描述的技术总体上涉及显示基底、制造该显示基底的方法和包括该显示基底的显示装置。
技术介绍
在诸如有机发光二极管(OLED)装置和液晶显示器(LCD)的显示装置中，显示基底通常包括薄膜晶体管(TFT)、电容器和布线。包括电极和发射层的显示结构随后形成在显示基底上。随着显示分辨率增加，像素或像素电路的尺寸变得越来越小。因此，为了实现高分辨率显示装置，正在开发形成精细图案的方法。
技术实现思路
一个专利技术方面涉及一种具有改善的显示质量的显示基底。另一方面是一种形成具有改善的显示质量的显示基底的方法。另一方面是一种具有改善的显示质量的显示装置。另一方面是一种显示基底，其包括：基础基底；下部堆叠结构，在基础基底上，下部堆叠结构包括有源图案、栅电极和多个绝缘层；布线，在下部堆叠结构上；以及彩色覆盖图案，在布线中的各条布线上。在示例实施例中，下部堆叠结构包括多个台阶部分，布线包括具有不同高度的上表面。在示例实施例中，彩色覆盖图案的上表面位于同一高度处。在示例实施例中，彩色覆盖图案包括包含彩色材料的非光敏聚合物。在示例实施例中，彩色材料包括黑色材料或染料。在示例实施例中，染料对具有在从大约300nm到大约500nm范围内的波长的光具有吸收。在示例实施例中，绝缘层包括：阻挡层，在基础基底的顶表面上；栅极绝缘层，在阻挡层上，栅极绝缘层覆盖有源图案；以及绝缘层间层，在栅极绝缘层上，绝缘层间层覆盖栅电极。在示例实施例中，栅电极包括彼此叠置的第一栅电极和第二栅电极。栅极绝缘层可包括：第一栅极绝缘层，位于有源图案与第一栅电极之间；第二栅极绝缘层，位于第一栅电极与第二栅电极之间。在示例实施例中，布线的与有源图案、第一栅电极和第二栅电极在下部堆叠结构的高度方向上叠置的部分具有在布线的上表面之中的最上部的表面。在示例实施例中，布线的与下部堆叠结构的省略有源图案、第一栅电极和第二栅电极的区域叠置的部分具有在布线的上表面之中的最下部的表面。在示例实施例中，显示基底还包括穿过绝缘层间层和栅极绝缘层延伸以接触有源图案的第一电极和第二电极。在示例实施例中，显示基底还包括分别设置在第一电极和第二电极上的第一电极覆盖图案和第二电极覆盖图案。在示例实施例中，第一电极覆盖图案和第二电极覆盖图案包括与覆盖图案的材料相同的材料。第一电极覆盖图案和第二电极覆盖图案的上表面可位于与覆盖图案的高度相同的高度处。在示例实施例中，显示基底还包括：通孔绝缘层，在绝缘层间层上，通孔绝缘层覆盖第一电极和第二电极；第三电极，在通孔绝缘层上，第三电极电连接到第二电极；以及像素限定层，在通孔绝缘层上，像素限定层部分地覆盖第三电极。另一方面是一种显示装置，其包括：基础基底；下部堆叠结构，在基础基底上，下部堆叠结构包括有源图案、栅电极和多个绝缘层；布线，在下部堆叠结构上，布线包括具有不同高度的上表面；覆盖图案，在布线中的各条布线上，覆盖图案包括在相同高度处的上表面；源电极和漏电极，穿过绝缘层中的至少一部分延伸以电连接到有源图案；像素电极，电连接到漏电极；显示层，在像素电极上；以及对电极，相对于显示层与像素电极面对。在示例实施例中，覆盖图案包括彩色非光敏聚合物。在示例实施例中，覆盖图案包括染料或黑色材料。在示例实施例中，显示装置还包括与布线交叉的栅极线。栅电极可包括彼此叠置的第一栅电极和第二栅电极。在示例实施例中，布线根据下部堆叠结构的轮廓包括台阶部分，通过覆盖图案来使台阶部分平坦化。另一方面是一种制造显示基底的方法。在该方法中，可在基础基底上形成有源图案。可在基础基底上形成栅极绝缘层以覆盖有源图案。可在栅极绝缘层上形成栅电极。可在栅极绝缘层上形成绝缘层间层以覆盖栅电极。可在绝缘层间层上形成导电层。导电层可在与有源图案和栅电极中的至少一个叠置的区域处包括台阶部分。可在导电层上形成平坦化层。可在平坦化层上形成光致抗蚀剂层。可通过部分地去除光致抗蚀剂层来形成光致抗蚀剂图案。可利用光致抗蚀剂图案通过光刻工艺来部分地去除平坦化层和导电层以形成覆盖图案和布线。在示例实施例中，平坦化层由彩色非光敏聚合物形成。在示例实施例中，通过执行曝光工艺来形成光致抗蚀剂图案。平坦化层可包括对在曝光工艺中使用的光具有吸收的染料。在示例实施例中，穿过绝缘层间层和栅极绝缘层形成电极以与有源图案接触。可在电极上形成电极覆盖图案。可通过光刻工艺分别由导电层和平坦化层来形成电极和电极覆盖图案。另一方面是一种显示基底，其包括：基础基底；堆叠结构，在基础基底上，堆叠结构包括有源图案、栅电极和多个绝缘层；多条布线，在堆叠结构上；以及多个彩色覆盖图案，在布线中的各条布线上。在以上显示基底中，堆叠结构包括多个台阶部分，其中，布线包括距基础基底具有不同高度的多个上表面。在以上显示基底中，彩色覆盖图案分别包括距基础基底具有相同距离的多个上表面。在以上显示基底中，彩色覆盖图案由包括彩色材料的非光敏聚合物形成。在以上显示基底中，彩色材料包括黑色材料或染料。在以上显示基底中，染料被构造为吸收具有在从大约300nm到大约500nm范围内的波长的光。在以上显示基底中，绝缘层包括：阻挡层，在基础基底的顶表面上；栅极绝缘层，在阻挡层上，栅极绝缘层覆盖有源图案；以及绝缘层间层，在栅极绝缘层上，绝缘层间层覆盖栅电极。在以上显示基底中，栅电极包括在显示基底的深度维度上彼此叠置的第一栅电极和第二栅电极，其中，栅极绝缘层包括：第一栅极绝缘层，置于有源图案与第一栅电极之间；第二栅极绝缘层，置于第一栅电极与第二栅电极之间。在以上显示基底中，布线的与有源图案、第一栅电极和第二栅电极在堆叠结构的深度方向上叠置的多个部分具有在布线的多个上表面之中的最上部的表面。在以上显示基底中，布线的与省略有源图案、第一栅电极和第二栅电极的堆叠结构叠置的多个部分具有在所述布线的多个上表面之中的最下部的表面。以上显示基底还包括穿过绝缘层间层和栅极绝缘层延伸以接触有源图案的第一电极和第二电极。以上显示基底还包括分别设置在第一电极和第二电极上的第一电极覆盖图案和第二电极覆盖图案。在以上显示基底中，第一电极覆盖图案和第二电极覆盖图案由与彩色覆盖图案的材料相同的材料形成，其中，第一电极覆盖图案和第二电极覆盖图案的多个上表面具有与彩色覆盖图案的高度相同的高度。以上显示基底还包括：通孔绝缘层，在绝缘层间层上，通孔绝缘层覆盖第一电极和第二电极；第三电极，在通孔绝缘层上，第三电极电连接到第二电极；以及像素限定层，在通孔绝缘层上，像素限定层部分地覆盖第三电极。另一方面是一种显示装置，其包括：基础基底；堆叠结构，在基础基底上，堆叠结构包括有源图案、栅电极和多个绝缘层；多条布线，在堆叠结构上，布线包括具有不同高度的多个上表面；多个覆盖图案，在布线中的各个上，覆盖图案分别包括距基础基底具有相同距离的多个上表面；源电极和漏电极，穿过绝缘层中的至少一部分延伸以电连接到有源图案；像素电极，电连接到漏电极；显示层，在像素电极上；以及对电极，相对于显示层与像素电极面对。在以上显示装置中，覆盖图案由彩色非光敏聚合物形成。在以上显示装置中，覆盖图案包括染料或黑色材料。以上显示装置还包括分别与布线交叉的多条栅极线，其中，栅电极包括在显示装置的深度维度上彼此叠置的第一栅电极和第本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示基底，所述显示基底包括：基础基底；堆叠结构，在所述基础基底上，所述堆叠结构包括有源图案、栅电极和多个绝缘层；多条布线，在所述堆叠结构上；以及多个彩色覆盖图案，在所述多条布线中的各条布线上。

【技术特征摘要】
2016.02.16 KR 10-2016-00176861.一种显示基底，所述显示基底包括：基础基底；堆叠结构，在所述基础基底上，所述堆叠结构包括有源图案、栅电极和多个绝缘层；多条布线，在所述堆叠结构上；以及多个彩色覆盖图案，在所述多条布线中的各条布线上。2.根据权利要求1所述的显示基底，其中，所述堆叠结构包括多个台阶部分，其中，所述多条布线包括距所述基础基底具有不同高度的多个上表面。3.根据权利要求2所述的显示基底，其中，所述彩色覆盖图案分别包括距所述基础基底具有相同距离的多个上表面。4.根据权利要求1所述的显示基底，其中，所述彩色覆盖图案由包括彩色材料的非光敏聚合物形成。5.根据权利要求4所述的显示基底，其中，所述彩色材料包括黑色材料或染料。6.根据权利要求5所述的显示基底，其中，所述染料被构造为吸收具有在从300nm到500nm范围内的波长的光。7.根据权利要求1所述的显示基底，其中，所述多个绝缘层包括：阻挡层，在所述基础基底的顶表面上；栅极绝缘层，在所述阻挡层上，所述栅极绝缘层覆盖所述有源图案；以及绝缘层间层，在所述栅极绝缘层上，所述绝缘层间层覆盖所述栅电极。8.根据权利要求7所述的显示基底，其中，所述栅电极包括在所述显示基底的深度维度上彼此叠置的第一栅电极和第二栅电极，其中，所述栅极绝缘层包括：第一栅极绝缘层，置于所述有源图案与所述第一栅电极之间；第二栅极绝缘层，置于所述第一栅电极与所述第二栅电极之间。9.根据权利要求8所述的显示基底，其中，所述多条布线的与所述有源图案、所述第一栅电极和所述第二栅电极在所述堆叠结构的所述深度维度上叠置的多个部分具有在所述多条布线的多个上表面之中的最上部的表面。10.根据权利要求8所述的显示基底，其中，所述多条布线的与省略所述有源图案、所述第一栅电极和所述第二栅电极的所述堆叠结构叠置的多个部分具有在所述多条布线的多个上表面之中的最下部的表面。11.根据权利要求7所述的显示基底，所述显示基底还包括：第一电极和第二电极，穿过所述绝缘层间层和所述栅极绝缘层延伸以接触所述有源图案。12.根据权利要求11所述的显示基底，所述显示基底还包括：第一电极覆盖图案和第二电极覆盖图案，分别设置在所述第一电极和所述第二电极上。13.根据权利要求12所述的显示基底，其中，所述第一电极覆盖图案和所述第二电极覆盖图案由与所述彩色覆盖图案的材料相同的材料形成，其中，所述第一电极覆盖图案和所述第二电极覆盖图案的多个上表面具有与所述彩色覆盖图案的高度相同的高度。14.根据权利要求11所述的显示基底，所述显示基底还包括：通孔绝缘层，在所述绝缘层间层上，所述通孔绝缘层覆盖所述第一电极和所述第二电极；第三电极，在所述通孔绝缘层上，所述第三电极...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴埈弘，李经宪，金智贤，朴廷敏，李政洙，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR