等离子体沉积装置制造方法及图纸

一种等离子体沉积装置，包括：腔室；气体供应部，向腔室供应气体；以及喷头，设置在腔室的内部，与气体供应部连接。其中，气体供应部包括使气体流入的流入管、以及与流入管连接的至少两个流出管。此外，喷头包括：上板，具有与流出管连接的多个注入口；以及下板，与上述上板分离，且具有喷射口。

Plasma deposition apparatus

A plasma deposition apparatus includes a chamber, a gas supply section, a gas supply to the chamber, and a nozzle disposed within the chamber and connected to the gas supply section. Wherein, the gas supply section includes an inflow pipe for causing the gas to flow in and at least two outflow pipes connected to the inflow pipe. In addition, the nozzle comprises an upper plate, a plurality of injection ports connected with the outflow pipe, and the lower plate separated from the upper plate and provided with an injection port.

【技术实现步骤摘要】
等离子体沉积装置
本专利技术涉及等离子体沉积装置，涉及包含对喷头供应清洗气体的气体供应部的等离子体沉积装置。
技术介绍
显示装置根据发光方式分为液晶显示装置(liquidcrystaldisplay，LCD)、有机发光显示装置(organiclightemittingdiodedisplay，OLEDdisplay)、等离子体显示装置(plasmadisplaypanel，PDP)、以及电泳显示装置(electrophoreticdisplay)等。这样的显示装置可以包含在基板上层叠的栅电极、数据电极、像素电极、以及晶体管。其中，栅电极、数据电极、以及像素电极层叠在互不相同的层。为此，可以在栅电极和数据电极之间层叠绝缘层。此外，可以在数据电极和像素电极之间层叠绝缘层。绝缘层利用等离子体沉积装置被涂在基板上的整个面。为了形成绝缘层，可以利用氮化硅或氧化硅等成膜物质。另一方面，在形成绝缘层的成膜工序之后，需要去除在等离子体沉积装置的内部存在的成膜物质。成膜物质利用化学反应去除。即，成膜物质由被活化的清洗气体分解去除。因而，为了去除成膜物质，将被活化的清洗气体无损耗地向等离子体沉积装置内部本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体沉积装置，其特征在于，包括：腔室；气体供应部，向上述腔室供应气体；以及喷头，设置在上述腔室的内部，与上述气体供应部连接，上述气体供应部包括：流入管，使上述气体流入；以及至少两个流出管，与上述流入管连接，上述喷头包括：上板，具有与上述流出管连接的多个注入口；以及下板，与上述上板分离，具有喷射口，上述注入口中的一个注入口设置于上述上板的中心，上述注入口中的其余注入口以上述上板的中心为基准对称设置。

【技术特征摘要】
2016.02.15 KR 10-2016-00174981.一种等离子体沉积装置，其特征在于，包括：腔室；气体供应部，向上述腔室供应气体；以及喷头，设置在上述腔室的内部，与上述气体供应部连接，上述气体供应部包括：流入管，使上述气体流入；以及至少两个流出管，与上述流入管连接，上述喷头包括：上板，具有与上述流出管连接的多个注入口；以及下板，与上述上板分离，具有喷射口，上述注入口中的一个注入口设置于上述上板的中心，上述注入口中的其余注入口以上述上板的中心为基准对称设置。2.如权利要求1所述的等离子体沉积装置，其特征在于，还包括气体扩散部，设置在上述上板和上述下板之间，用于使气体扩散。3.如权利要求2所述的等离子体沉积装置，其特征在于，上述流出管与上述流入管的交点在上述注入口的平面上位于左右对称轴或者上下对称轴上。4.如权利要求2所述的等离子体沉积装置，其特征在于，上述气体扩散部具有圆锥状。5.如权利要求4所述的等离子体沉积装置，其特征在于，上述气体扩...

【专利技术属性】
技术研发人员：许明洙，高锡珍，高东均，金民洙，金圣哲，卢喆来，李秉春，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR