经氧化且涂覆的物品及其制备方法技术

一个示例提供制造方法。该方法包括使用等离子体氧化包括金属材料的衬底的第一表面。该方法进一步包括通过经氧化的第一表面切入衬底以暴露衬底的未氧化的第二表面，第二表面不平行于第一表面。该方法进一步包括使用电泳沉积在被暴露的第二表面之上设置涂覆层，以形成具有经氧化的第一表面和经涂覆的第二表面的物品。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】经氧化且涂覆的物品及其制备方法
技术介绍
电子设备的壳体/外壳可以包括多个组件。这些组件可以包括盖体。在具有显示器的便携式电子设备的情况下，这些盖体可以包括上盖体(“A盖体”)、显示器本身(“B盖体”)、键盘盖体(“C盖体”)以及底盖体(“D盖体”)。取决于应用，盖体可以包括各种适合的材料。附图说明提供了附图来说明本公开中在此(除非以其他方式明确陈述，否则之后简述为“在此”)所描述的与壳体结构相关的主题的各示例，并且所述附图并不意图限制主题的范围。附图并非一定是按比例的。图1提供示出在此描述的制造方法一个示例所涉及的工艺的流程图。图2提供示出在此描述的制造方法另一个示例所涉及的工艺的流程图。图3示出，在一个示例中，包括在此描述的壳体结构的电子设备的示意图。图4A-4B示出，在一个示例中，如在此描述的壳体结构的示意图：图4A示出具有不同表面和层的该结构的示意图，且图4B示出该壳体结构一部分的组件的示意图。具体实施方式电子设备的壳体，尤其是便携式电子设备的那些壳体，频繁地经受至少部分由于其与其他对象(例如桌面、手、地等)的频繁接触而导致的机械形变。这些设备，尤其是它们的壳体，通常需要有具高机械本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造方法，包括：使用等离子体氧化包括金属材料的衬底的第一表面；通过经氧化的第一表面切入所述衬底以暴露所述衬底的未氧化的第二表面，所述第二表面不平行于所述第一表面；以及使用电泳沉积在被暴露的第二表面之上设置涂覆层，以形成具有经氧化的第一表面和经涂覆的第二表面的物品。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种制造方法，包括：使用等离子体氧化包括金属材料的衬底的第一表面；通过经氧化的第一表面切入所述衬底以暴露所述衬底的未氧化的第二表面，所述第二表面不平行于所述第一表面；以及使用电泳沉积在被暴露的第二表面之上设置涂覆层，以形成具有经氧化的第一表面和经涂覆的第二表面的物品。2.如权利要求1所述的方法，其中所述方法包括以下中的至少一个：涉及微弧氧化的氧化；以及涉及金刚石切割的切割。3.如权利要求1所述的方法，在所述氧化之前，进一步包括通过计算机数控加工和锻造中至少一种来形成所述衬底。4.如权利要求1所述的方法，在所述氧化之前，进一步包括使用除油和表面活化中的至少一种来预处理所述第一表面。5.如权利要求1所述的方法，在所述切割之后，进一步包括使用静电喷雾沉积在经氧化的第一表面之上设置粉末涂覆层。6.如权利要求1所述的方法，进一步包括在经氧化的第一表面之上设置功能性涂层，所述功能性涂层包括至少一种聚合物，所述至少一种聚合物选自于由以下构成的组：聚苯乙烯、聚酰亚胺、聚丙烯醚、聚氨酯、甲基倍半硅氧烷、聚乙烯、聚苯乙烯硅酮、丁基橡胶、聚酰胺、聚碳酸酯、苯乙烯-丁二烯橡胶、聚丙烯酸酯、环氧树脂和含氟聚合物。7.如权利要求1所述的方法，在所述设置之前，进一步包括：至少对所述衬底的所述第二表面除油；至少清洗经除油的第二表面；至少对经清洗的第二表面进行化学抛光；至少清洗经化学抛光的第二表面；至少对经清洗的第二表面进行除污；以及至少对经除污的第二表面进行超声清洁。8.如权利要求1所述的方法，进一步包括：至少清洗所述衬底的经涂覆的第二表面；以及至少对经清洗的经涂覆第二表面进行脱水。9.如权利要求1所述的方...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·卡什亚普，吳冠霆，
申请(专利权)人：惠普发展公司，有限责任合伙企业，
类型：发明
国别省市：美国,US