用于光刻设备的支撑台、加载衬底的方法、光刻设备和器件制造方法技术

披露了一种用于光刻设备的支撑台、一种加载衬底的方法、一种光刻设备和一种用于使用光刻设备来制造器件的方法。在一种布置中，支撑台(100)被配置成用以支撑衬底(W)。所述支撑台包括基部表面(101)。所述基部表面当所述衬底由所述支撑台支撑时面对所述衬底的底部表面(103)。在所述基部表面上方提供一个或更多个气垫构件(102)。所述气垫构件中的每个包括凹部(108)。所述凹部被成形和配置成使得所述衬底降低至所述支撑台上的所述衬底由所述支撑台支撑的位置处会造成所述凹部内的压力的局部化积聚。所述压力的局部化积聚提供了在所述衬底的所述降低期间的局部化的气体缓冲效应。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光刻设备的支撑台、加载衬底的方法、光刻设备和器件制造方法相关申请的交叉引用本申请主张2014年10月23日提交的欧洲申请14190079.5的权益，并且它们通过援引而全文合并到本专利技术中。
本专利技术涉及一种用于光刻设备的支撑台、一种加载衬底的方法、一种光刻设备和一种用于使用光刻设备来制造器件的方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案施加到衬底上(通常应用到衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成于所述IC的单层上的电路图案。可以将所述图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。所述图案的转移通常经由将图案成像到设置于衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层来进行。通常，单个衬底将包括被连续地形成图案的相邻目标部分的网络。常规的光刻设备包括：所谓的步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与所述方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印至衬底上而将图案从图案形成转移至衬底。在浸没式光刻设备中，浸没流体被流体处置系统或设备处置。在实施例中，所述流体处置系统或设备可供应浸没流体并且因此包括流体供应系统或设备，或由流体供应系统或设备组成。在实施例中，流体处置系统或设备可至少部分地限制浸没流体。在实施例中，流体处置系统或设备可提供对于浸没流体而言的阻挡，且由此包括阻挡构件(诸如流体限制结构)，或由阻挡构件(诸如流体限制结构)组成。在实施例中，流体处置系统或设备可产生或使用气流，例如用来帮助控制所述浸没流体的流动和/或位置。气流可形成密封以限制浸没流体，因此所述流体处置系统或设备可被称为密封构件；这样的密封构件可以是流体限制结构。在实施例中，浸没液体被用作浸没流体。在所述情况下，所述流体处置系统或设备可以是液体处置系统或设备。在下列描述中，对关于流体而限定的特征的提及可被理解为包括关于液体而限定的特征。衬底可在光刻过程期间由支撑台支撑。可提供用于将衬底转移至支撑台和/或从支撑台转移衬底的衬底输送装置。真空夹持系统可用来将衬底夹持至支撑台。在一种布置中，可将衬底从衬底输送装置转移至支撑销上。支撑销被配置成缓慢下降，直至衬底从支撑销转移至支撑台上为止。衬底可从支撑销转移至例如从支撑台的基部表面突起的突节上。支撑销有时被称作E销钉。当衬底正被降低至支撑销上时，可从所述衬底下方的区域泵吸抽走气体。这种泵吸抽走气体可在衬底下方产生部分真空。非均一的压力轮廓可在衬底接近支撑台时积聚。非均一的压力轮廓可造成内部应力被赋予至衬底。当使衬底与支撑台接触时，产生部分密封并且衬底下方的压力快速下降。快速下降的压力引起衬底被快速且牢固地夹持至支撑台。一旦被夹持，衬底的后续移动受约束。在夹持之前存在于衬底中的内部应力可在夹持之后继续存在且造成衬底的后续变形。具有内部应力的衬底的夹持可导致重叠误差。据估计，内部应力通常可针对最初平坦的衬底贡献约1纳米的重叠误差。内部应力将倾向于对于最初不平坦的衬底贡献甚至更多重叠误差。对于最初平坦的衬底，内部应力将倾向于造成在夹持之后所述衬底的变形。对于最初非平坦的衬底，内部应力将倾向于造成在夹持之后变形的增加。重叠误差将倾向于对于最初非平坦的衬底而言较大，这是因为初始不平坦度和非均一压力两者的诱发应力将倾向于累积地贡献于在夹持之后的较大总体变形。因此，例如，需要通过减少衬底在它们已被加载至支撑台上之后发生变形的程度来减轻前述问题中的一个或更多个，或一个或更多个其它问题。
技术实现思路
根据一方面，提供一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台被配置成用以支撑衬底，其中所述支撑台包括：基部表面，当所述衬底由所述支撑台支撑时所述基部表面面对所述衬底的底部表面；和所述基部表面上方的一个或更多个气垫构件，所述气垫构件中的每个包括凹部，所述凹部被成形和配置成使得所述衬底降低至所述支撑台上的所述衬底由所述支撑台支撑处的位置会造成所述凹部内的压力的局部化积聚，压力的局部化积聚提供在所述衬底的所述降低期间的局部化气体缓冲效应。根据一方面，提供一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台被配置成用以支撑衬底，其中所述支撑台包括：基部表面；在所述基部表面上方突起的多个突节，所述多个突节中的每个具有相应的远端，所述多个突节被布置成使得当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述衬底由所述多个突节的所述相应的远端支撑；在所述基部表面上方突起的多个突起部，所述多个突起部中的每个具有相应的远端，所述相应的远端被配置成使得当所述衬底由所述多个突节的所述相应的远端支撑时，所述突起部的所述相应的远端与所述衬底间隔开；和一个或更多个气垫构件，每个气垫构件包括形成于所述多个突起部中的一个中的气体供应通道，所述气体供应通道被配置成允许将气流通过所述支撑台及所述突起部供应至所述突起部的所述远端中的开口。根据一方面，提供一种将衬底加载至光刻设备中的支撑台上的方法，其中所述支撑台被配置成用以支撑衬底，所述方法包括：提供所述支撑台，其中所述支撑台包括：基部表面；在所述基部表面上方突起的多个突节，所述多个突节中的每个具有相应的远端，所述多个突节被布置成使得当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述衬底由所述多个突节的所述相应的远端支撑；在所述基部表面上方突起的多个突起部，所述多个突起部中的每个具有相应的远端，所述相应的远端被配置成使得当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述远端与所述衬底间隔开；和一个或更多个气垫构件，形成于所述多个突起部中的一个或更多个中，每个气垫构件包括：开口和气体供应通道，所述开口被配置成在所述衬底正被降低至所述支撑台上时面向所述衬底，所述气体供应通道通过所述支撑台而通向所述开口，其中：所述方法还包括在所述衬底正被降低至所述支撑台上时将气流通过所述气体供应通道而提供至一个所述开口或多个所述开口。根据一方面，提供一种器件制造方法，包括：使用光刻设备以将图案从图案形成装置转移至衬底，其中所述光刻设备包括：支撑台，所述支撑台被配置成用以支撑衬底，所述支撑台包括：一个或更多个气垫构件，所述气垫构件中的每个包括凹部，所述凹部被成形和配置成使得所述衬底降低至所述支撑台上的所述衬底由所述支撑台支撑处的位置造成所述凹部内的压力的局部化积聚，所述压力的局部化积聚提供在所述衬底的所述降低期间的局部化气体缓冲效应。根据一方面，提供一种器件制造方法，包括：使用光刻设备以将图案从图案形成装置转移至衬底，其中所述光刻设备包括：支撑台，所述支撑台被配置成用以支撑衬底，所述支撑台包括：基部表面；在所述基部表面上方突起的多个突节，所述多个突节中的每个具有相应的远端，所述多个突节被布置成使得当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述衬底由所述多个突节的所述相应的远端支撑；在所述基部表面上方突起的多个突起部，所述多个突起部中的每个具有相应的远端，所述相应的远端被配置成使得当所述衬底由所述多个突节的所述相应的远端支撑时，所述突起部的所述相应的远端与所述衬底间隔开；和一个或更多个气垫构件，每个气垫构本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台被配置成用以支撑衬底，其中所述支撑台包括：基部表面，所述基部表面当所述衬底由所述支撑台支撑时面对所述衬底的底部表面；和所述基部表面上方的一个或更多个气垫构件，每个所述气垫构件包括凹部，所述凹部被成形和配置成使得所述衬底降低至所述支撑台上的所述衬底由所述支撑台支撑处的位置造成所述凹部内的压力的局部化积聚，所述压力的局部化积聚提供在所述衬底的降低期间的局部化气体缓冲效应。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.23 EP 14190079.51.一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台被配置成用以支撑衬底，其中所述支撑台包括：基部表面，所述基部表面当所述衬底由所述支撑台支撑时面对所述衬底的底部表面；和所述基部表面上方的一个或更多个气垫构件，每个所述气垫构件包括凹部，所述凹部被成形和配置成使得所述衬底降低至所述支撑台上的所述衬底由所述支撑台支撑处的位置造成所述凹部内的压力的局部化积聚，所述压力的局部化积聚提供在所述衬底的降低期间的局部化气体缓冲效应。2.根据权利要求1所述的支撑台，还包括：在所述基部表面上方突起的多个突起部，所述多个突起部中的每个具有相应的远端，所述相应的远端被配置成使得当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述远端与所述衬底间隔开，其中所述气垫构件中的至少一个被形成于所述突起部中的一个或更多个中。3.根据权利要求2所述的支撑台，其中所述支撑台还包括：在所述基部表面上方突起的多个突节，所述多个突节中的每个具有相应的远端，所述多个突节被配置成使得当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述衬底由所述多个突节的所述相应的远端支撑，其中当所述衬底由所述支撑台支撑时，介于所述衬底与包括所述气垫构件的所述突起部中的至少一个突起部的所述远端之间的间隔小于所述突节中的一个或更多个突节的高度的10％。4.根据权利要求1至3中任一项所述的支撑台，其中所述支撑台包括：在所述基部表面上方突起的多个突节，所述多个突节中的每个具有相应的远端，所述多个突节被配置成使得当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述衬底由所述多个突节的所述相应的远端支撑，其中所述气垫构件中的至少一个被形成于所述多个所述突节中的一个或更多个突节的所述远端中。5.根据前述权利要求中任一项所述的支撑台，其中所述凹部由壁限定，当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述壁在与所述衬底的所述底部表面垂直的方向上被观察时形成闭合回路。6.根据前述权利要求中任一项所述的支撑台，其中所述凹部中的至少一个包括：远端边缘，当所述衬底由所述支撑台支撑时所述远端边缘限定所述凹部的最接近所述衬底的开口；和气体通道，所述气体通道被配置成向外朝向位于所述远端边缘下方的所述凹部的一部分敞开，所述气体通道被配置成当所述衬底正被降低至所述支撑台上时允许气流进入所述凹部中或离开所述凹部，由此提供对于由所述凹部提供的所述局部化气体缓冲效应的调整。7.一种用于光刻设备的支撑台，所述支撑台被配置成用以支撑衬底，其中所述支撑台包括：基部表面；在所述基部表面上方突起的多个突节，所述多个突节中的每个具有相应的远端，所述多个突节被布置成使得当所述衬底由所述支撑台支撑时，所述衬底由所述多个突节的所述相应的远端支撑；在所述基部表面上方突起的多个突起部，所述多个突起部中的每个具有相应的远端，所述相应的远端被配置成使得当所述衬底由所述多个突节的所述相应的远端支撑时，所述突起部的所述相应的远端与所述衬底间隔开；和一个或更多个气垫构件，每个气垫构件包括形成于所述多个突起部中的一个中的气体供应通...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·A·特姆普，A·H·维尔魏，A·A·索图特，J·P·范德普尔，M·C·J·巴根，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL