过程窗口识别符制造技术

本公开是计算机执行的方法，用于为器件制造过程确定设计布局的一部分上的感兴趣的区域的重叠过程窗口(OPW)，所述器件制造过程用于在衬底上成像所述部分，所述方法包括：获得所述感兴趣的区域中的多个特征；获得所述器件制造过程的一个或多个处理参数的多个值；确定所述器件制造过程在所述多个值中的每一个值的条件下成像所述多个特征时缺陷的存在、缺陷存在的可能性或二者；以及根据所述缺陷的存在、缺陷存在的可能性或二者，确定所述感兴趣的区域的所述重叠过程窗口。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】过程窗口识别符相关申请的交叉引用本申请要求于2014年9月22日递交的美国申请62/053,629的优先权，并且通过引用将其全部内容并入到本文中。
本专利技术涉及用于优化半导体制造过程的性能的方法。所述方法可以与光刻设备结合使用。
技术介绍
光刻设备可以例如用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，图案形成装置(例如掩模)可以包含或提供与所述IC(“设计布局”)的单层相对应的电路图案，并且利用诸如通过图案形成装置上的电路图案照射目标部分等方法可以将该电路图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或多个管芯)上，其中所述衬底已经涂覆有辐射敏感材料(“抗蚀剂”)层。通常，单个的衬底包含通过光刻设备连续地将电路图案转移至其上的多个相邻目标部分，一次处理一个目标部分。在一种类型的光刻设备中，整个图案形成装置上的电路图案一次转移到一个目标部分上，这种设备通常称为晶片步进机。在可替换的设备中(通常称为步进-扫描设备)，投影束沿着给定的参考方向(“扫描”方向)扫描通过图案形成装置，同时沿与该参考方向平行或反向平行的方向同步移动所述衬底。图案形成装置上的电路图案的不同部分逐步地被转本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种计算机执行的方法，用于为器件制造过程确定设计布局的部分上的感兴趣的区域的重叠过程窗口(OPW)，所述器件制造过程用于在衬底上成像所述部分，所述方法包括：获得所述感兴趣的区域中的多个特征；获得所述器件制造过程的一个或多个处理参数的多个值；确定所述器件制造过程在所述多个值中的每一个值的条件下成像所述多个特征时缺陷的存在、缺陷存在的可能性或二者；以及根据所述缺陷的存在、缺陷存在的可能性或二者，确定所述感兴趣的区域的所述重叠过程窗口。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.22 US 62/053,6291.一种计算机执行的方法，用于为器件制造过程确定设计布局的部分上的感兴趣的区域的重叠过程窗口(OPW)，所述器件制造过程用于在衬底上成像所述部分，所述方法包括：获得所述感兴趣的区域中的多个特征；获得所述器件制造过程的一个或多个处理参数的多个值；确定所述器件制造过程在所述多个值中的每一个值的条件下成像所述多个特征时缺陷的存在、缺陷存在的可能性或二者；以及根据所述缺陷的存在、缺陷存在的可能性或二者，确定所述感兴趣的区域的所述重叠过程窗口。2.根据权利要求1的方法，其中，基于表示所述设计布局的数据来选择所述多个特征。3.根据权利要求1的方法，其中，根据所述多个特征的各个过程窗口(IPW)的一个或多个特性确定缺陷的存在、缺陷存在的可能性或者两者，而不实际确定整个的各个过程窗口。4.根据权利要求3的方法，还包括将所述一个或多个特性汇编到图中。5.根据权利要求1的方法，其中，使用经验规律确定缺陷的存在、缺陷存在的可能性或者两者。6.根据权利要求1的方法，其中，使用计算或模拟所述多个特征的图像的一部分或特性的计算机模型确定缺陷的存在、缺陷存在的可能性或者两者，并且根据所述部分或所述特性确定缺陷的存在、缺陷存在的可能性或者两者。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈钢，约瑟夫·W·德沃克特，杜月林，李万宇，卢彦文，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL