用于生成光的陶瓷材料制造技术

本发明专利技术涉及一种用于在被用辐射进行辐照时生成光的陶瓷材料(14)。其中，所述陶瓷材料包括具有不同组分和/或不同掺杂物的层的堆叠(15、16)。所述陶瓷材料可以被使用在谱计算机断层摄影(CT)探测器中，以便在谱方面探测X射线，或者所述陶瓷材料可以被用作激光器的陶瓷增益介质，使得能够减小增益介质内的温度梯度和对应的热机械应力。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于生成光的陶瓷材料
本专利技术涉及用于在被用射线进行辐照时生成光的陶瓷材料。本专利技术还涉及用于探测辐射的探测设备，以及包括所述陶瓷材料的激光器。此外，本专利技术涉及用于对目标进行成像的成像系统，所述成像系统包括探测设备，并且本专利技术涉及用于制造所述陶瓷材料的制造方法和制造装置。本专利技术还涉及用于控制所述制造装置的计算机程序。
技术介绍
陶瓷材料可以被用作，例如，在用于探测X射线的计算机断层摄影(CT)系统的探测设备中的陶瓷闪烁体。然而，陶瓷闪烁体一般不提供能量依赖的闪烁光，从而使得难以在用于谱CT系统的探测设备中使用陶瓷闪烁体。此外，激光可以包括陶瓷材料作为陶瓷增益介质。然而，激光的泵浦光可能在空间上很不均匀地分布于陶瓷增益介质内，这可能导致陶瓷增益介质中的高的温度梯度并因此导致热机械应力峰。
技术实现思路
本专利技术的目的是提一种用于在被用辐射进行辐照时生成光的陶瓷材料，所述陶瓷材料允许减轻上述缺点中的至少一个。本专利技术的另外的目的是提供一种用于探测辐射和激光的探测设备，所述探测设备包括陶瓷材料，并且本专利技术的另外的目的是提供一种用于对目标进行成像的成像系统，所述成像系统包本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于探测伽马辐射或X射线辐射的探测设备，其中，所述探测设备(6)包括：‑陶瓷闪烁体(14)，其包括用于在被用辐射进行辐照时生成光的陶瓷材料，其中，所述陶瓷材料(14；45)包括层的堆叠(15、16；47)，并且其中，所述层的堆叠(15、16；47)包括第一层(15)和第二层(16)，所述第一层和所述第二层两者都具有石榴石结构；并且其中，所述第一层(15)和所述第二层(16)具有以下中的至少一种：i)不同组分，ii)不同掺杂剂，iii)不同掺杂剂浓度；并且其中，所述第一层(15)适于在被用所述辐射进行辐照时生成第一辐射(17)，并且所述第二层(16)适于在被用所述辐射进行辐照时生成第二辐射(...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.09.25 EP 14186311.81.一种用于探测伽马辐射或X射线辐射的探测设备，其中，所述探测设备(6)包括：-陶瓷闪烁体(14)，其包括用于在被用辐射进行辐照时生成光的陶瓷材料，其中，所述陶瓷材料(14；45)包括层的堆叠(15、16；47)，并且其中，所述层的堆叠(15、16；47)包括第一层(15)和第二层(16)，所述第一层和所述第二层两者都具有石榴石结构；并且其中，所述第一层(15)和所述第二层(16)具有以下中的至少一种：i)不同组分，ii)不同掺杂剂，iii)不同掺杂剂浓度；并且其中，所述第一层(15)适于在被用所述辐射进行辐照时生成第一辐射(17)，并且所述第二层(16)适于在被用所述辐射进行辐照时生成第二辐射(18)，其中，所述第一辐射(17)与所述第二辐射(18)是不同的，以及-探测器(19；30)，其用于根据所述第一辐射(17)生成第一探测值并且根据所述第二辐射(18)生成第二探测值。2.根据权利要求1所述的探测设备，其中，所述第一层(15)和所述第二层(16)两者都被形成在同一片陶瓷材料内。3.根据权利要求1或权利要求2所述的探测设备，其中，所述第一层(15)和所述第二层(16)两者都由相同的组分形成并且具有不同的掺杂剂和/或不同的掺杂剂浓度。4.根据权利要求3所述的探测设备，其中，所述组分是从组分组X3(Al,Ga)5O12中选择的，其中，X是从包括以下的组中选择的元素：钇、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱和镥，并且其中，所述掺杂剂是从包括以下的组中选择的：铈、镨、钕、钐、铕、铽、镝、钬、铒、铥或镱。5.根据权利要求1-4中的任一项所述的探测设备，其中，所述陶瓷闪烁体包括用于接收伽马辐射或X射线辐射的辐射接收面；其中，所述辐射接收面实质上平行于所述层的叠堆(15、16；47)的每个层。6.根据权利要求1所述的探测设备，其中，所述第一层邻近于所述第二层。7.根据权利要求1所述的探测设备，其中，所述第一辐射(17)和所述第二辐射(18)在波长或衰减时间中的至少一个上是不同的。8.根据权利要求1所述的探测设备，其中，所述层的堆叠(47)中的层适于使得在垂直于所述层的方向上掺杂剂的浓度逐层地单调增大。9.根据权利要求1-8中的任一项所述的探测设备，其中，所述探测器(19；30)包括第一探测单元(20；31)和第二探测单元(21；32)，所述第一探测单元用于根据所述第一辐射(17)生成所述第一探测值，所述第二探测单元用于根据所述第二辐射(18)生成所述第二探测值，其中，a)所述第一探测单元(20)被布置在所述陶瓷闪烁体(14)与所述第二探测单元(21)之间，并且其中，所述第一探测单元(20)对于所述第二辐射(18)是至少部分透明的，或者b)所述第一探测单元(31)和所述第二探测单元(32)两者在所述陶瓷闪烁体的一侧上被布置为彼此相邻。10.根据权利要求1-9中的任一项所述的探测设备，其中，所述探测器(19；30)适于根据所述第一辐射(17)和所述第二辐射(18)的波长和/或所述第一辐射(17)和所述第二辐射(18)的衰减时间来将所述第一辐射(17)与所述第二辐射(18)彼此进行区分。11.一种用于对目标进行成像的成像系统，其中，所述成像系统(50)包括：-根据权利要求1所述的用于探测来自所述目标的辐射的探测设备(6)，其中，所述探测设备(6)生成第一探测值和第二探测值，-重建单元(10)，其用于基于所述第一探测值和所述第二探测值来重建所述目标的图像。12.一种激光器，包括：-激光谐振器(43、44)，-陶瓷增益介质(45)，其用于通过所述激光谐振器(43、44)内的受激发射来对光进行放大，其中，所述陶瓷增益介质(45)包括陶瓷材料(47)，所述陶瓷材料包括具有不同组分和/或不同掺杂物的层的堆叠(15、16；47)，-泵浦光源(41)，其用于通过...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·K·维乔雷克，J·G·博尔里坎普，D·比特纳，AM·A·范东恩，W·C·科尔，C·R·龙达，S·J·M·P·斯普尔，A·维尔特罗斯卡，O·J·维默斯，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL