【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光谱测定方法及光谱测定装置
本专利技术涉及通过获得要测量的对象物体的光谱数据来进行分析的光谱测定方法及光谱测定装置。
技术介绍
在将测量光照射到要测量的对象物体上以从对象物体上的多个单元区域中获得对象物体的光谱数据的装置中,有时使用通过对多个单元区域的光谱数据求平均而得到的光谱数据(例如,参见JP2012-173174A)。
技术实现思路
技术问题本专利技术的目的在于提供能够进行高精度分析的光谱测定方法及光谱测定装置。解决问题的技术方案为了解决该问题,本专利技术提供一种光谱测定方法,该方法包括:利用来自光源的测量光照射要测量的对象物体;利用多个二维排列像素接收由于利用所述测量光进行照射而从所述对象物体输出的透射光或漫反射光;多次获得多个单元区域中的每一个单元区域的光谱数据,所述多个单元区域包括所述对象物体上的至少一个单元区域以及与所述一个单元区域相邻的单元区域;以及通过对多次获得的所述多个单元区域的所述光谱数据求平均来计算所述对象物体的光谱数据。就根据本专利技术的光谱测定方法的第一方面而言,所述多个二维排列像素可以包括排列在第一方向上的像素以及排列在与所述第一方向正交 ...
【技术保护点】
一种光谱测定方法,包括:利用来自光源的测量光照射要测量的对象物体;利用多个二维排列像素接收由于利用所述测量光进行照射而从所述对象物体输出的透射光或漫反射光;多次获得多个单元区域中的每一个单元区域的光谱数据,所述多个单元区域包括所述对象物体上的至少一个单元区域以及与所述一个单元区域相邻的单元区域;以及通过对多次获得的所述多个单元区域的所述光谱数据求平均来计算所述对象物体的光谱数据。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.14 JP 2014-2097461.一种光谱测定方法,包括:利用来自光源的测量光照射要测量的对象物体;利用多个二维排列像素接收由于利用所述测量光进行照射而从所述对象物体输出的透射光或漫反射光;多次获得多个单元区域中的每一个单元区域的光谱数据,所述多个单元区域包括所述对象物体上的至少一个单元区域以及与所述一个单元区域相邻的单元区域;以及通过对多次获得的所述多个单元区域的所述光谱数据求平均来计算所述对象物体的光谱数据。2.根据权利要求1所述的光谱测定方法,其中,所述多个二维排列像素包括排列在第一方向上的像素以及排列在与所述第一方向正交的第二方向上的像素,并且波长信息被分配给排列在所述第一方向上的所述像素中每一者,而所述对象物体的位置信息被分配给排列在所述第二方向上的所述像素中每一者,从而获得所述对象物体上的沿所述第二方向布置的所述多个单元区域中的每一个单元区域的光谱数据。3.根据权利要求1或2所述的光谱测定方法,其中,通过使设置在所述多个二维排列像素的前段处的可变波长滤波器暂时改变传输波长来获得所述多个单元区域中的每一个单元区域的所述光谱数据。4.根据权利要求1至3中任一项所述的光谱测定方法,其中,所述测量光包括在1650nm至1750nm的波长范围内的光。5.根据权利要求1至4中任一项所述的光谱测定方法,其中,所述测量光包括在2100nm至2200nm的波长范围内的光。6.根据权利要求1至5中任一项所述的光谱测定方法,其中,所述多个二维排列像素包括40,000以上个像素。7.一种光谱测定装置,包括:光源,其将测量光照射在要测量的对象物体上;图像采集装置,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:奥野俊明,森岛哲,藤本美代子,
申请(专利权)人:住友电气工业株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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