具有含硫取代基的杀有害生物活性杂环衍生物制造技术

具有化学式(I)的化合物

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有含硫取代基的杀有害生物活性杂环衍生物本专利技术涉及包含硫取代基的杀有害生物活性(特别是杀虫活性)杂环衍生物，涉及包含那些化合物的组合物，并且涉及它们用于控制动物有害生物(包括节肢动物并且特别是昆虫或蜱螨目的代表)的用途。具有杀有害生物作用的杂环化合物是已知的并描述于例如WO2012/086848和WO2013/018928中。现在已经发现具有含硫的苯基和吡啶基取代基的杀有害生物活性杂环衍生物。本专利技术因此涉及具有化学式I的化合物，其中A表示CH、N或CR；其中R是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、氰基、硝基或卤素；X是S、SO或SO2；R1是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基或被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基；或R1是被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷基；或R1是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基或C2-C6炔基；R2a和R2b彼此独立地是氢、卤素、氰基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6卤代烷基或被一个或两个选自下组的取代基取代的C1-C6卤代烷基，该组由以下各项组成：羟基、甲氧基和氰基；或R2a和R2b彼此独立地是C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、O(C1-C4卤代烷基)、或-C(O)C1-C4卤代烷基；R2a和R2b彼此独立地是可以被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷基；R3是氢、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6环烷基或C3-C6环烷基-C1-C4烷基；或R3是被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和氰基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或R3是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基或C2-C6卤代炔基；或R3是C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6卤代烷氧基、-C(O)C1-C4卤代烷基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基或C1-C6烷基磺酰基；或R3是部分饱和或完全饱和的五元至六元芳香族环系统，该环系统经由氮原子连接至包含取代基G3的环，所述环系统可以被选自下组的取代基单或多取代，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；并且所述环系统包含选自下组的1个、2个或3个杂原子，该组由以下各项组成：氮、氧和硫，其中所述环系统可以不包含多于一个氧原子和不多于一个硫原子；或R3是部分饱和或完全饱和的五元至六元芳香族环系统，该环系统经由碳原子连接至包含取代基G3的环，所述环系统可以被选自下组的取代基单或多取代，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；并且所述环系统包含选自下组的1个、2个或3个杂原子，该组由以下各项组成：氮、氧和硫，其中所述环系统可以不包含多于一个氧原子和不多于一个硫原子；R8是可以被选自下组的取代基单或多取代的C1-C4烷基，该组由以下各项组成：卤素和C1-C2烷基亚磺酰基；G1是NR4并且G2是C(Y)；或G1是C(Y)并且G2是NR5；Y是O或S；G3是N或CR9；R4是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基；或R4是可以被R7单或多取代的C3-C6环烷基；或R4是可以被R10单或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基；或R4是被氰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷氧基、C3-C6环烷基或被苯基取代的C1-C4烷基，该苯基自身可以被选自下组的取代基单或多取代，该组由以下各项组成：卤素、C1-C4烷基、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷氧基；R4是被R11取代的C2-C6烯基或被R11取代的C2-C6炔基；或R4是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基或羟基；或R4是部分饱和或完全饱和的五元至六元芳香族环系统，所述环系统可以被选自下组的取代基单或多取代，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；并且所述环系统包含选自下组的1个、2个或3个杂原子，该组由以下各项组成：氮、氧和硫，其中所述环系统可以不包含多于一个氧原子和不多于一个硫原子；R5是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基；或R5是可以被R7单或多取代的C3-C6环烷基；或R5是可以被R10单或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基；或R5是被氰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷氧基、C3本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有化学式I的化合物

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.12 EP 14180611.7;2014.09.30 EP 14186946.1;1.一种具有化学式I的化合物其中A表示CH、N或CR；其中R是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、氰基、硝基或卤素；X是S、SO或SO2；R1是C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C3-C6环烷基、C3-C6环烷基-C1-C4烷基或被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、C1-C4卤代烷基、氰基和C1-C4烷基；或R1是被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷基；或R1是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基或C2-C6炔基；R2a和R2b彼此独立地是氢、卤素、氰基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6卤代烷基或被一个或两个选自下组的取代基取代的C1-C6卤代烷基，该组由以下各项组成：羟基、甲氧基和氰基；或R2a和R2b彼此独立地是C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、O(C1-C4卤代烷基)、或-C(O)C1-C4卤代烷基；或R2a和R2b彼此独立地是可以被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷基；R3是氢、卤素、氰基、硝基、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷氧基C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、C3-C6环烷基或C3-C6环烷基-C1-C4烷基；或R3是被选自下组的取代基单或多取代的C3-C6环烷基，该组由以下各项组成：卤素、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基和氰基；或R3是可以被选自下组的取代基单或多取代的苯基，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；或R3是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基或C2-C6卤代炔基；或R3是C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6卤代烷氧基、-C(O)C1-C4卤代烷基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6烷基亚磺酰基或C1-C6烷基磺酰基；或R3是部分饱和或完全饱和的五元至六元芳香族环系统，该环系统经由氮原子连接至包含取代基G3的环，所述环系统可以被选自下组的取代基单或多取代，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；并且所述环系统包含选自下组的1个、2个或3个杂原子，该组由以下各项组成：氮、氧和硫，其中所述环系统可以不包含多于一个氧原子和不多于一个硫原子；或R3是部分饱和或完全饱和的五元至六元芳香族环系统，该环系统经由碳原子连接至包含取代基G3的环，所述环系统可以被选自下组的取代基单或多取代，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；并且所述环系统包含选自下组的1个、2个或3个杂原子，该组由以下各项组成：氮、氧和硫，其中所述环系统可以不包含多于一个氧原子和不多于一个硫原子；R8是可以被选自下组的取代基单或多取代的C1-C4烷基，该组由以下各项组成：卤素和C1-C2烷基亚磺酰基；G1是NR4并且G2是C(Y)；或G1是C(Y)并且G2是NR5；Y是O或S；G3是N或CR9；R4是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基；或R4是可以被R7单或多取代的C3-C6环烷基；或R4是可以被R10单或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基；或R4是被氰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷氧基、C3-C6环烷基或被苯基取代的C1-C4烷基，该苯基自身可以被选自下组的取代基单或多取代，该组由以下各项组成：卤素、C1-C4烷基、氰基、C1-C4卤代烷基和C1-C4烷氧基；R4是被R11取代的C2-C6烯基或被R11取代的C2-C6炔基；或R4是C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C6烷氧基、C1-C6烷基硫烷基、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基亚磺酰基、C1-C6卤代烷基硫烷基、C1-C6卤代烷基磺酰基、C1-C6卤代烷基亚磺酰基或羟基；或R4是部分饱和或完全饱和的五元至六元芳香族环系统，所述环系统可以被选自下组的取代基单或多取代，该组由以下各项组成：卤素、氰基、硝基、C2-C6烯基、C2-C6卤代烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基、C1-C4卤代烷氧基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4烷基磺酰基和-C(O)C1-C4烷基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基磺酰基和-C(O)C1-C4卤代烷基；并且所述环系统包含选自下组的1个、2个或3个杂原子，该组由以下各项组成：氮、氧和硫，其中所述环系统可以不包含多于一个氧原子和不多于一个硫原子；R5是C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基；或R5是可以被R7单或多取代的C3-C6环烷基；或R5是可以被R10单或多取代的C3-C6环烷基-C1-C4烷基；或R5是被氰基、C1-C4烷基硫烷基、C1-C4烷基磺酰基、C1-C4烷基亚磺酰基、C1-C4卤代烷基硫烷基、C1-C4卤代烷基磺酰基、C1-C4卤代烷基亚磺酰基、C1-C4烷氧基、C1-C4烷氧基C1-C4烷氧基、C3-...

【专利技术属性】
技术研发人员：P·J·M·容，A·埃德蒙兹，A·杰恩格纳特，M·米尔巴赫，A·斯托勒，D·埃默里，R·G·豪尔，
申请(专利权)人：先正达参股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：瑞士,CH