双能量微分相衬成像制造技术

一种基于光栅的干涉X射线成像装置具有干涉仪(IF)。该干涉仪包括至少一个光栅(G1)。该光栅(G1)能相对于X射线成像装置的光轴倾斜。这样允许改变X射线成像装置的设计能量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】双能量微分相衬成像
本专利技术涉及一种X射线成像装置、一种操作X射线成像装置的方法、一种计算机程序单元、以及一种计算机可读介质。
技术介绍
基于光栅的干涉微分相衬和暗场成像是一种尤其在胸部成像领域中增加诊断价值的有前景的技术，因为暗场信号通道对肺组织的微结构的改变高度敏感。然而，针对不同成像任务调整基于光栅的干涉成像器械有时非常繁琐。例如，该调整可能涉及对在成像中所使用的干涉仪进行困难且耗时的调节。
技术实现思路
可能需要一种替代的X射线成像装置。本专利技术的目的是通过独立权利要求的主题来解决的，其中，在从属权利要求中结合了进一步的实施例。应当指出，下文所描述的本专利技术的各方面同样适用于操作X射线成像装置的方法、计算机程序单元、以及计算机可读介质。根据本专利技术的第一方面，提供了一种X射线成像装置，包括：X射线源，其被配置为发射X辐射；X射线探测器，其配置为探测所述X辐射；干涉仪，其被布置在所述X射线源与所述探测器之间的，所述干涉仪包括至少一个(第一)干涉光栅结构；其中，所述至少一个干涉光栅结构能绕垂直于所述成像装置的光轴的轴倾斜，所述至少一个光栅由此能够相对于所述轴以不同的倾角来取向本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种X射线成像装置，包括：X射线源(XR)，其被配置为发射X辐射；X射线探测器(D)，其被配置为探测所述X辐射；干涉仪(IF)，其被布置在所述X射线源(XR)与所述探测器(D)之间，所述干涉仪包括至少一个干涉光栅(G1)；其中，所述至少一个干涉光栅结构能绕垂直于所述成像装置的光轴的第一轴倾斜，所述至少一个光栅(G1)由此能够相对于所述第一轴以不同倾角来取向；光栅调整器(SGC)机构，以相对于所述源光栅(G0)和/或相对于所述干涉仪(IF)来调整有效光栅间距，其中，所述光栅调整器(SGC)机构相对于所述源光栅(G0)来操作，以：i)将所述源光栅结构(G0、G01)交换成具有与所述源光栅(G0)的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.26 EP 15182578.31.一种X射线成像装置，包括：X射线源(XR)，其被配置为发射X辐射；X射线探测器(D)，其被配置为探测所述X辐射；干涉仪(IF)，其被布置在所述X射线源(XR)与所述探测器(D)之间，所述干涉仪包括至少一个干涉光栅(G1)；其中，所述至少一个干涉光栅结构能绕垂直于所述成像装置的光轴的第一轴倾斜，所述至少一个光栅(G1)由此能够相对于所述第一轴以不同倾角来取向；光栅调整器(SGC)机构，以相对于所述源光栅(G0)和/或相对于所述干涉仪(IF)来调整有效光栅间距，其中，所述光栅调整器(SGC)机构相对于所述源光栅(G0)来操作，以：i)将所述源光栅结构(G0、G01)交换成具有与所述源光栅(G0)的间距不同的间距的新源光栅结构，或者ii)至少将所述源光栅结构(G0、G01)和具有与所述源光栅(G0)的间距不同的间距的另一源光栅结构(G02)组合，以便补偿通过所述源光栅(G0、G01)与所述干涉仪(IF)之间的空间的有效路程长度的改变，所述有效路程长度的改变是由所述倾角中的任一个倾角导致的。2.根据权利要求1所述的X射线成像装置，其中，所述成像装置包括至少一个另外的光栅(G0)，在此被称为源光栅，其被布置在所述干涉光栅(G1)与所述X射线源之间，所述源光栅结构(G0)被配置为将所述发射的X辐射转换成具有增加的相干性的X辐射，并且所述源光栅结构(G0)同样能绕平行于所述第一轴的第二轴倾斜，以便维持或重新建立所述源光栅(G0)与所述至少一个干涉光栅(G1)之间的空间关系。3.根据前述权利要求中的任一项所述的X射线成像装置，其中，由所述源光栅调整器(SGC)机构进行的所述组合是通过叠加两个源光栅(G01、G02)或者通过在所述两个源光栅(G01、G02)至少部分地叠加到彼此上时相对于彼此滑动所述两个源光栅(G01、G02)来实现的，以便形成具有有效间距的双层光栅结构，所述有效间距补偿由所述倾角中的任一个倾角导致的所述有效路程长度的改变。...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·马滕斯，U·范斯特文达勒，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL