保护结构以及电子装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种保护结构，包括抗冲击结构以及抗刮结构。抗冲击结构，包括多个缓冲结构以及多个填充结构。填充结构位于缓冲结构周围。抗刮结构位于抗冲击结构上方。抗刮结构包括覆盖于抗冲击结构上的硬质涂层以及覆盖于硬质涂层上的表面抗刮层。本发明专利技术实施例还提供一种电子装置。

【技术实现步骤摘要】
保护结构以及电子装置
本专利技术涉及一种保护结构以及电子装置。
技术介绍
电子元件(例如柔性电子元件)在轻薄化后本身的机械强度、硬度不足，在制造、搬运及使用时容易受到外力的刮伤、撞击或施压下而造成损伤，而造成可靠性不足的问题。
技术实现思路
为了解决上述问题，本专利技术的目的在于，提供数种保护结构，其可以形成或贴合在电子元件上，减少电子元件受到外力刮伤，同时减少电子元件于外力撞击或压力下造成损坏，进而增加电子产品的可靠性。具体地说，本专利技术公开了一种保护结构，包括：抗冲击结构，包括：多个缓冲结构；以及多个填充结构，位于所述缓冲结构周围；以及抗刮结构，位于所述抗冲击结构上方，所述抗刮结构包括：硬质涂层，覆盖于所述抗冲击结构上；以及表面抗刮层，覆盖于所述硬质涂层上。所述的保护结构，还包括第一基板，包括相对的第一表面与第二表面，其中：所述硬质涂层位于所述第一基板的所述第一表面上；以及所述抗冲击结构位于所述第一基板的所述第二表面上。所述的保护结构，其中所述第一基板包括单一材料基板、有机材料的混合基板或复合基板、无机材料的混合基板或复合基板，或有机材料与无机材料的混合基板或复合基板。所述的保护结本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种保护结构，其特征在于，包括：抗冲击结构，包括：多个缓冲结构；以及多个填充结构，位于所述缓冲结构周围；以及抗刮结构，位于所述抗冲击结构上方，所述抗刮结构包括：硬质涂层，覆盖于所述抗冲击结构上；以及表面抗刮层，覆盖于所述硬质涂层上。

【技术特征摘要】
2016.09.05 TW 105128620;2015.12.17 US 62/268,5071.一种保护结构，其特征在于，包括：抗冲击结构，包括：多个缓冲结构；以及多个填充结构，位于所述缓冲结构周围；以及抗刮结构，位于所述抗冲击结构上方，所述抗刮结构包括：硬质涂层，覆盖于所述抗冲击结构上；以及表面抗刮层，覆盖于所述硬质涂层上。2.如权利要求1所述的保护结构，其特征在于，还包括第一基板，包括相对的第一表面与第二表面，其中：所述硬质涂层位于所述第一基板的所述第一表面上；以及所述抗冲击结构位于所述第一基板的所述第二表面上。3.如权利要求2所述的保护结构，其特征在于，其中所述第一基板包括单一材料基板、有机材料的混合基板或复合基板、无机材料的混合基板或复合基板，或有机材料与无机材料的混合基板或复合基板。4.如权利要求1所述的保护结构，其特征在于，还包括滤光结构，所述滤光结构至少包括多个滤光层，位于所述硬质涂层与所述抗冲击结构之间。5.如权利要求4所述的保护结构，其特征在于，还包括第一基板，其中所述第一基板位于所述滤光结构与所述抗冲击结构之间，其中所述滤光结构包括：所述滤光层，位于所述第一基板的所述第二表面上；以及平坦层，位于所述第一基板的所述第二表面上且填入于所述滤光层之间的多个第一开口区。6.如权利要求4所述的保护结构，其特征在于，其中所述滤光层的至少其中之一与所述缓冲结构的其中之一相对应设置。7.如权利要求4所述的保护结构，其特征在于，其中杨氏系数由大而小为所述表面抗刮层、所述硬质涂层、所述第一基板、所述缓冲结构、所述填充结构。8.如权利要求1所述的保护结构，其特征在于，其中所述硬质涂层为未图案化层、所述表面抗刮层为未图案化层、或所述硬质涂层以及所述表面抗刮层均为未图案化层。9.如权利要求1所述的保护结构，其特征在于，其中所述硬质涂层为图案化层、所述表面抗刮层为图案化层、或所述硬质涂层以及所述表面抗刮层均为图案化层。10.一种保护结构，其特征在于，包括：滤光结构，至少包括多个滤光层；以及抗刮结构，位于所述滤光结构上方，所述抗刮结构包括：硬质涂层，覆盖于所述滤光结构上；以及表面抗刮层，覆盖于所述硬质涂层上，其中所述表面抗刮层...

【专利技术属性】
技术研发人员：张志嘉，李正中，陈光荣，张凱铭，庄瑞彰，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71