当前位置: 首页 > 专利查询>暨南大学专利>正文

一种基于去芯侧边抛磨光纤的折射率监测装置及方法制造方法及图纸

技术编号:16035729 阅读:51 留言:0更新日期:2017-08-19 16:43
本发明专利技术公开一种基于去芯侧边抛磨光纤的折射率监测装置及方法,该装置包括通过单模通信光纤依次连接的宽谱光源、去芯侧边抛磨光纤和光频谱分析仪,所述去芯侧边抛磨光纤的抛磨区由单模通信光纤经侧边抛磨而成,依次包括第一纤芯完整区、第一抛磨过渡区、抛磨平坦区、第二抛磨过渡区和第二纤芯完整区,所述抛磨过渡区是将单模通信光纤的光纤纤芯部分抛磨掉形成的,所述抛磨平坦区是将单模通信光纤的光纤纤芯全部抛磨掉形成的,将去芯侧边抛磨光纤作为传感头浸入待测介质中,宽谱光源发出的信号光经过单模通信光纤后入射去芯侧边抛磨光纤中,发生多模干涉。

【技术实现步骤摘要】
一种基于去芯侧边抛磨光纤的折射率监测装置及方法
本专利技术涉及折射率传感器制造领域,具体涉及一种基于去芯侧边抛磨光纤的折射率监测装置及方法。
技术介绍
侧边抛磨光纤折射率传感器以其体积小,灵敏度高,成本低,抗电磁干扰等优点,在光纤传感和光纤通信领域得到广泛的应用。在折射率传感以及生化传感等领域,侧边抛磨光纤实现了倏逝场与外界环境的相互作用,另一方面,侧边抛磨光纤的平坦区为生物化学等材料的涂覆提供了一个良好的平台。因此,侧边抛磨光纤也成为了生物化学以及环境监测等领域的研究热点。传统的侧边抛磨光纤利用倏逝场与外界环境的相互作用来调制光纤的透过率,通过透过率的改变来监测外界环境的折射率。因此,光源的稳定性和耦合器件的耦合效率会对传感器的传感特性造成很大的影响。所以,实验中通常引入一个对照组来排除光源功率不稳定和耦合效率不稳定对监测结果造成的影响。然而,参照组的引入不仅仅提高了实验操作的难度和监测装置的复杂性,还提高了实验成本。
技术实现思路
本专利技术的目的是解决现有技术的缺陷,提供一种能够提高监测精度且无需设置对照组、降低了操作难度、监测装置的复杂性以及实验成本的基于去芯侧边抛磨光纤的折射率本文档来自技高网...
一种基于去芯侧边抛磨光纤的折射率监测装置及方法

【技术保护点】
一种基于去芯侧边抛磨光纤的折射率监测装置,其特征在于,包括通过单模通信光纤依次连接的宽谱光源、去芯侧边抛磨光纤和光频谱分析仪,所述去芯侧边抛磨光纤的抛磨区由单模通信光纤经侧边抛磨而成,依次包括第一纤芯完整区、第一抛磨过渡区、抛磨平坦区和第二抛磨过渡区和第二纤芯完整区,所述抛磨过渡区是将单模通信光纤的光纤纤芯部分抛磨掉形成的,所述抛磨平坦区是将单模通信光纤的光纤纤芯全部抛磨掉形成的,监测过程中将去芯侧边抛磨光纤作为传感头浸入待测介质。

【技术特征摘要】
1.一种基于去芯侧边抛磨光纤的折射率监测装置,其特征在于,包括通过单模通信光纤依次连接的宽谱光源、去芯侧边抛磨光纤和光频谱分析仪,所述去芯侧边抛磨光纤的抛磨区由单模通信光纤经侧边抛磨而成,依次包括第一纤芯完整区、第一抛磨过渡区、抛磨平坦区和第二抛磨过渡区和第二纤芯完整区,所述抛磨过渡区是将单模通信光纤的光纤纤芯部分抛磨掉形成的,所述抛磨平坦区是将单模通信光纤的光纤纤芯全部抛磨掉形成的,监测过程中将去芯侧边抛磨光纤作为传感头浸入待测介质。2.一种基于去芯侧边抛磨光纤的折射率监测方法,其特征在于,包括以下步骤:将去芯侧边抛磨光...

【专利技术属性】
技术研发人员:余健辉陈哲董华卓关俊文唐洁媛李东泉关贺元卢惠辉
申请(专利权)人:暨南大学
类型:发明
国别省市:广东,44

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1