具有亲疏性差异的像素界定层及其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及一种具有亲疏性差异的像素界定层及其制备方法和应用，属于照明/显示面板的制备技术领域。该方法包括以下步骤：制备薄膜层：以像素界定层材料在具有导电阳极的基板上形成薄膜层，并在该薄膜层上制备得到容纳打印墨水的像素坑；所述像素坑的侧壁与所述基板之间具有倾斜的角度；选择性活化：将掩膜板覆盖于上述薄膜层上，进行活化处理；所述掩膜板上与所述像素坑对应的位置进行开窗处理，将像素坑内预定进行活化处理的区域露出。从而实现了在像素界定层的上、下部分具有不同的亲疏性。当墨水打印之后，墨水边缘就会钉扎在像素界定层斜坡上亲墨水的下层位置，保证了像素内薄膜的均匀性，进而提高了印刷型发光显示器件的性能。

【技术实现步骤摘要】
具有亲疏性差异的像素界定层及其制备方法和应用
本专利技术涉及照明/显示面板的制备
，特别是涉及一种具有亲疏性差异的像素界定层及其制备方法和应用。
技术介绍
采用溶液加工制作OLED(有机发光器件)以及QLED(量子点发光器件)的技术，由于其具有成本低、高产能、易于实现大尺寸等优点，是未来显示技术发展的重要方向。其中，印刷技术被认为是实现OLED、QLED低成本和大面积全彩显示的最有效途径。然而，常规技术中，印刷OLED尚有许多技术难题需要克服。例如，印刷OLED的成膜工艺就是一项关键技术，如何提高像素内成膜的均匀度是一个难点。常规技术中，一般使用像素界定层来对打印墨水进行区域限制，该像素界定层的厚度、Tap角、表面亲疏性等可以直接影响墨水的打印质量和像素内除膜均匀性。通常使用的像素界定层需要具备一定的Tap角，形成一个缓和的斜坡，并且，像素界定层表面以及该斜坡的表面对墨水材料的亲疏性都有严格的要求。一般用墨水材料对薄膜(像素界定层)表面的接触角的大小来描述该薄膜表面对墨水的亲疏性的大小。为了在像素界定层的像素坑内容纳更多的墨水，通常需要墨水材料在像素界定层表面和斜坡上半部分的接本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有亲疏性差异的像素界定层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：制备薄膜层：以像素界定层材料在具有导电阳极的基板上形成薄膜层，并在该薄膜层上制备得到容纳打印墨水的像素坑；所述像素坑的侧壁与所述基板之间具有倾斜的角度；选择性活化：将掩膜板覆盖于上述薄膜层上，进行活化处理；所述掩膜板上与所述像素坑对应的位置进行开窗处理，将像素坑内预定进行活化处理的区域露出，使像素坑内露出的区域经活化处理后表现为亲墨水性，而被掩膜板遮蔽的区域未经活化处理而表现为疏墨水性。

【技术特征摘要】
1.一种具有亲疏性差异的像素界定层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：制备薄膜层：以像素界定层材料在具有导电阳极的基板上形成薄膜层，并在该薄膜层上制备得到容纳打印墨水的像素坑；所述像素坑的侧壁与所述基板之间具有倾斜的角度；选择性活化：将掩膜板覆盖于上述薄膜层上，进行活化处理；所述掩膜板上与所述像素坑对应的位置进行开窗处理，将像素坑内预定进行活化处理的区域露出，使像素坑内露出的区域经活化处理后表现为亲墨水性，而被掩膜板遮蔽的区域未经活化处理而表现为疏墨水性。2.根据权利要求1所述的具有亲疏性差异的像素界定层的制备方法，其特征在于，所述选择性活化步骤中，以紫外臭氧处理和/或等离子处理的方式进行活化处理。3.根据权利要求2所述的具有亲疏性差异的像素界定层的制备方法，其特征在于，所述选择性活化步骤中，以紫外臭氧处理进行活化处理时，选用波长为185nm和/或254nm的紫外光进行照射；以等离子处理进行活化处理时，选用被激活为等离子体的空气或者氩氧混合气进行喷射。4.根据权利要求1-3任一项所述的具有亲疏性差异的像素界定层的制备方法，其特征在于，所述制备薄膜层步骤中，所述像素坑的侧壁与所述基板之间的角度θ为：10°<θ<70°。5.根据权利要求1-3任一项所...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢泓，李哲，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44