本发明专利技术涉及式Ⅰ的新的光潜化合物，其中Ｒ↓［１］和Ｒ↓［２］彼此独立地是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］烷基或者Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基，Ｒ↓［３］是氢或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基，和其中光化学裂解基团Ｒ↓［４］ＯＨ选自香料、ＵＶ吸收剂、抗菌剂、防雾剂和澄清剂；条件是：当Ｒ↓［１］和Ｒ↓［２］是叔丁基并且Ｒ↓［３］是氢时，Ｒ↓［４］不是甲基或苯基。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光潜体系本专利技术涉及到效应分子例如香料、uv吸收剂、抗菌剂、防雾剂和澄清剂的新颖的光潜(photolatent) 4-羟基-苯甲酰甲基衍生物，涉及到 组合物，该组合物包含技术材料(technical material)(该技术材料优 选是溶剂、蜡、成膜基料、油漆、涂料、天然或者合成的聚合物、织 物、纸、清洁剂、上光剂、织物护理剂、香波、护发素、发胶、肥皂、 洗浴凝胶或者身体除臭剂)和效应分子的新颖的光潜4-羟基-苯曱酰甲 基衍生物；以及涉及到新颖的光潜4-羟基-苯甲酰曱基衍生物作为用光 释放例如香料、UV吸收剂、抗菌剂、防雾剂和澄清剂的前体的用途。光潜体系的现有技术是具有或者不具有另外的取代基的2-硝基节 基衍生物作为保护中间体，如例如由Peter Wan等人，J. Am.Chem. Soc.1999, 121， 5625 5632中所公开。但是，2-硝基千基保护基团具 有几个缺点。硝基芳族化合物是热不稳定的并且不能在高温例如当在 热塑性聚合物例如诸如聚丙烯中挤出时加工。此外，通过光脱保护， 形成作为副产物的有毒和有色的2-亚硝基-苯甲醛，给基底增加了某些 不期望的性能例如变色和毒性。2-硝基千基保护基团另一个缺点是光产 物与保护中间体具有相同的光谱区域的吸收，因此妨碍了有效的通过 内在的滤波岁支应的脱保护。目前已经发现新的4-羟基-苯甲酰曱基衍生物基本上避免了全部这 些缺点。4-羟基-苯甲酰甲基衍生物在高到220-260。C是热稳定的。光产 物是4-羟基苯基乙酸衍生物，其是很少有色和很少有毒的。此外，与 所述的保护中间体相比，该光产物在更短的波长吸收，其产生小得多 的不期望的滤波效应。本专利技术因此提供一种式I的光潜化合物<formula>formula see original document page 6</formula>其中和R2彼此独立地是d-do烷基或者C3-C8环烷基， R3是氢或d-C4烷基，和其中光化学裂解基团R4OH选自香料、UV吸收剂、抗菌剂、防雾 剂和澄清剂；条件是当Ri和R2是叔丁基并且R3是氢时，R4不是曱 基或苯基。令人感兴趣是下述式I的光潜化合物，其中Ri和R2彼此独立地是CrC!o烷基或者(VC8环烷基，Rs是氢或CVC4烷基，R4是未被取代的d-C25烷基，CrC25链烯基，C3-C25链炔基，C6-C10芳基，CVd2环烷基或CVd2环链烯基；或者被Crds烷基，C2-C18 链烯基，C3-ds链炔基，CVd2环烷基，Crds烷氧基，羟基，C2-C18 烷氧基羰基，曱酰基，d-d8烷疏基，d-C!8烷基亚磺酰基，C广ds烷 基磺酰基，面素，羧基，CVCl8羧基烷基，C2-Cl8羧基烷氧基，C3-C18 烷氧基羰基烷基，CVd8烷氧基羰基烷氧基，C7-C9苯基烷基，苯氧基，芳基，CVd2环烷基和C3-Cu环链烯基，； Rs是氢，d-Q烷基或者卣素，和Rs和R7彼此独立地是苯基或者d-C4烷基取代的苯基；条件是 当Ri和R2是叔丁基并且R3是氢时，R4不是曱基或苯基。具有高到25个碳原子的烷基是支化的或者未支化的基团，例如甲 基，乙基，丙基，异丙基，正丁基，仲丁基，异丁基，叔丁基，2-乙基 丁基，正戊基，异戊基，l-曱基戊基，1, 3-二曱基丁基，正己基，1-甲基己基，正庚基，异庚基，1, 1, 3， 3-四甲基丁基，l-甲基庚基，卣素取代的苯氧基，山梨醇基(sorbityl)或取代的CrC25烷基，CVC25链烯基,C3-C25链炔基，C6-C3-曱基庚基，正辛基，2-乙基己基，1, 1, 3-三曱基己基，1, 1, 3， 3-四曱基戊基，壬基，癸基，十一烷基，l-曱基十一烷基，十二烷基， 十八烷基，二十烷基或者二十二烷基。CVd2环烷基是例如环丙基，环丁基，环戊基，环己基，环庚基， 环辛基，环壬基，环癸基，环十一烷基或者环十二烷基。优选给出的 是环己基。具有2-25个碳原子的链烯基是支化的或者未支化的基团例如诸如 乙烯基，丙烯基，2-丁烯基，3-丁烯基，异丁烯基，正2， 4-戊二烯基， 3-甲基-2-丁烯基，正2-辛烯基，正2-十二碳烯基，异十二碳烯基，油 基，正2-十八碳烯基或者正4-十八碳烯基。具有3-25个碳原子的链炔基是支化的或者未支化的基团例如诸如 丙炔基，2-丁炔基，3-丁炔基，正2， 4-戊二炔基，3-曱基-2-丁炔基， 正2-辛炔基，正2-十二碳炔基，异十二碳炔基，正2-十八碳炔基或者 正4-十八碳炔基。C6-C1G芳基是例如苯基或者萘基。CVd2环链烯基是例如环丙烯基，环丁烯基，环戊烯基，环己烯基， 环庚烯基，环辛烯基，环壬烯基，环癸烯基，环十一碳烯基或者环十 二碳烯基。优选给出的是环己烯基。具有高到18个碳原子的烷氧基支化的或者未支化的基团，例如曱 氧基，乙氧基，丙氧基，异丙氧基，正丁氧基，异丁氧基，戊氧基， 异戊氧基，己氧基，庚氧基，辛氧基，癸氧基，十四烷氧基，十六烷 氧基或者十八烷氧基。C2-ds烷氧基羰基是支化的或者未支化的基团，例如曱氧基羰基， 乙氧基羰基，丙氧基羰基，异丙氧基羰基，正丁氧基羰基，异丁氧基 羰基，戊氧基羰基，异戊氧基羰基，己氧基羰基，庚氧基羰基，辛氧 基羰基，癸氧基羰基，十四烷氧基羰基，十六烷氧基羰基或者十八烷 氧基羰基。具有高到18个碳原子的烷硫基是支化的或者未支化的基团，例如 甲基硫，乙基硫，丙基硫，异丙基硫，正丁基硫，异丁基疏，戊基硫， 异戊基硫，己基硫，庚基疏，辛基硫，癸基硫，十四烷硫基，十六烷 硫基或者十八烷硫基。具有高到18个碳原子的烷基亚磺酰是支化的或者未支化的基团，例如甲基亚磺酰，乙基亚磺酰，丙基亚磺酰，异丙基亚磺酰，正丁基 亚磺酰，异丁基亚磺酰，戊基亚磺酰，异戊基亚磺酰，己基亚磺酰， 庚基亚磺酰，辛基亚磺酰，癸基亚磺酰，十四烷基亚磺酰，十六烷基 亚磺酰或者十八烷基亚磺酰。具有高到18个碳原子的烷基亚磺酰基是支化的或者未支化的基团，例如曱基磺酰基，乙基磺酰基，丙基磺酰基，异丙基磺酰基，正 丁基磺酰基，异丁基磺酰基，戊基磺酰基，异戊基磺酰基，己基磺酰 基，庚基磺酰基，辛基磺酰基，癸基磺酰基，十四烷基磺酰基，十六 烷基磺酰基或者十八烷基磺酰基。 卣素取代基有利的是氯、溴或者碘。C2-C18羧基烷基是支化的或者未支化的基团，例如羧曱基，羧乙基， 羧丙基，羧丁基，羧戊基，羧己基，羧庚基，羧辛基，羧壬基，羧癸 基，羧基十一烷基，羧基十二烷基，羧基十四烷基，羧基十六烷基或 者羧基十八烷基。C2-C18羧基烷氧基是支化的或者未支化的基团，例如羧基甲氧基， 羧基乙氧基，羧基丙氧基，羧基丁氧基，羧基戊氧基，羧基己氧基， 羧基庚氧基，羧基辛氧基，羧基壬氧基，羧基癸氧基，羧基十一烷氧 基，羧基十二烷氧基，羧基十四烷氧基，羧基十六烷氧基或者羧基十 八烷氧基。C3-C18烷氧基羰基烷基是支化的或者未支化的基团，例如甲氧基羰 甲基，甲氧基羰乙基，乙氧基羰甲基，丙氧基羰乙基，乙氧基羰乙基， 乙氧基羰丙基，乙氧基羰丁基，乙氧基羰戊基，丁氧基羰己基或者丁 氧基羰基十二烷基。C3-C18烷氧基羰基烷氧基是支化的或者未支化的基团，例如曱氧基 羰基甲氧基，甲氧基羰基乙氧基，乙氧基羰基曱氧基，丙氧基羰基乙 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种式Ⅰ的光潜化合物， ＊＊＊ （Ⅰ） 其中 Ｒ↓［１］和Ｒ↓［２］彼此独立地是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１０］烷基或者Ｃ↓［３］－Ｃ↓［８］环烷基， Ｒ↓［３］是氢或Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基，和 其中光化学裂解基团Ｒ↓［４］ＯＨ选自香料、ＵＶ吸收剂、抗菌剂、防雾剂和澄清剂；条件是：当Ｒ↓［１］和Ｒ↓［２］是叔丁基并且Ｒ↓［３］是氢时，Ｒ↓［４］不是甲基或苯基。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：K夫里茨舍，W费希尔，J本科夫，K波维尔，D西蒙，
申请(专利权)人：西巴控股有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。