一种蒸发源及真空蒸镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种蒸发源及真空蒸镀装置，蒸发源包括蒸镀部件和至少一个加热部件，加热部件内设置有蒸发材料；蒸镀部件与加热部件连接，包括蒸镀出口，位于蒸镀部件与加热部件连接位置相对的一端，蒸发材料在蒸镀出口出射的方向垂直于待蒸镀基板所在平面；蒸镀部件与每个加热部件之间的夹角均大于等于90°，且小于180°。通过本发明专利技术的技术方案，减少了待蒸镀基板上待成膜位置周围蒸发材料的延伸，改善了阴影效应，提高了有机电致发光器件的显示质量。

Evaporation source and vacuum evaporation device

The invention discloses an evaporator and vacuum evaporating device, evaporation source including evaporation component and at least one heating element, heating element is arranged in the evaporation material; evaporation components connected with the heating element, including evaporation in export, evaporation part and heating part connected with one end of the relative position, the evaporation material in evaporation outlet exit in the direction perpendicular to the plane of the substrate to be plated; the angle between the evaporation part and each heating element is greater than or equal to 90 degrees, and less than 180 degrees. By adopting the technical proposal of the invention, the extension of the evaporation material around the position of the film to be evaporated is reduced, the shadow effect is improved, and the display quality of the organic electroluminescent device is improved.

【技术实现步骤摘要】
一种蒸发源及真空蒸镀装置
本专利技术实施例涉及显示器件制造
，尤其涉及一种蒸发源及真空蒸镀装置。
技术介绍
构成有机电致发光器件的各膜层一般通过蒸镀形成，目前，蒸镀过程中使用较广泛的蒸发源包括点状蒸发源和线状蒸发源，蒸发源具有封入蒸发材料的坩埚和喷出蒸发材料的喷嘴，蒸发材料从加热的坩埚中蒸发或升华，气化的蒸发材料从喷嘴向设置于真空腔室内的待蒸镀基板或膜层上喷射形成所需膜层，还可以通过不同图案的掩膜板形成图案化的膜层。但是，经过设置于坩埚上的喷嘴喷射的蒸发材料一般呈发散状，即气化的蒸发材料的出射方向沿空间中的各个方向，使得气化的蒸发材料在经过掩膜板通孔时的方向也各不相同，蒸发材料形成类似扇面的形状，在待蒸镀基板上的待成膜位置周围存在蒸发材料的延伸，造成阴影效应。以垂直于待蒸镀基板所在平面的方向为参考方向，蒸发材料到达掩膜板时的喷射方向偏离所述参考方向的角度越大，待蒸镀基板上待成膜位置周围延伸的蒸发材料越多，阴影效应越严重，而阴影效应会严重影响掩膜板开口率的增加，造成不同发光颜色像素区域之间出现混色现象，进而影响有机电致发光器件的显示质量。
技术实现思路
本专利技术提供一种蒸发源及真空蒸镀装置，通过蒸镀部件限定了蒸发材料的出射方向，使得蒸发材料在蒸镀出口的出射方向垂直于待蒸镀基板所在平面，减少了待蒸镀基板上待成膜位置周围蒸发材料的延伸，大大改善了阴影效应，提高了有机电致发光器件的显示质量。一方面，本专利技术实施例提供了一种蒸发源，包括：至少一个加热部件，所述加热部件内设置有蒸发材料；蒸镀部件，所述蒸镀部件与所述加热部件连接，包括蒸镀出口，位于所述蒸镀部件与所述加热部件连接位置相对的一端，所述蒸发材料在所述蒸镀出口出射的方向垂直于待蒸镀基板所在平面；所述蒸镀部件与每个所述加热部件之间的夹角均大于等于90°，且小于180°。另一方面，本专利技术实施例还提供了一种真空蒸镀装置，包括前面所述的蒸发源。本专利技术实施例提供了一种蒸发源及真空蒸镀装置，通过将蒸镀部件与至少一个内部设置有蒸发材料的加热部件连接，设置蒸镀部件的蒸镀出口位于蒸镀部件与加热部件连接位置相对的一端，且使蒸镀部件与每个加热部件之间的夹角大于等于90°，小于180°，相对于现有技术中使蒸发材料直接在加热部件中加热气化后出射，本专利技术实施例使加热部件中的蒸发材料气化后先进入与加热部件连接的蒸镀部件，且使得蒸发材料在蒸镀部件的蒸镀出口的出射方向垂直于待蒸镀基板所在平面，即以垂直于待蒸镀基板所在平面的方向为参考方向，大大减小了蒸发材料在蒸镀出口的出射方向偏离所述参考方向的角度，减少了待蒸镀基板上待成膜位置周围蒸发材料的延伸，进而改善了阴影效应，提高了有机电致发光器件的显示质量。附图说明图1为本专利技术实施例提供的一种蒸发源的结构示意图；图2为图1所示蒸发源的剖面结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的另一种蒸发源的剖面结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的另一种蒸发源的剖面结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的一种蒸镀部件的结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的另一种蒸镀部件的结构示意图；图7为本专利技术实施例提供的另一种蒸镀部件的结构示意图；图8为本专利技术实施例提供的另一种蒸镀部件的结构示意图；图9为本专利技术实施例提供的另一种蒸镀部件的结构示意图；图10为本专利技术实施例提供的另一种蒸镀部件的结构示意图；图11为本专利技术实施例提供的一种蒸发源的结构示意图；图12为本专利技术实施例提供的一种蒸发源的结构示意图；图13为本专利技术实施例提供的一种真空蒸镀装置的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。本专利技术实施例提供了一种蒸发源，包括至少一个加热部件和蒸镀部件，加热部件内设置有蒸发材料，蒸镀部件包括蒸镀出口，与加热部件连接，蒸镀部件的蒸镀出口位于蒸镀部件与加热部件连接位置相对的一端，蒸发材料在蒸镀出口出射的方向垂直于待蒸镀基板所在平面，蒸镀部件与每个加热部件之间的夹角均大于等于90°，且小于180°。真空蒸镀使用的蒸发源具有封入蒸发材料的坩埚和喷出蒸发材料的喷嘴，进行真空蒸镀时，蒸发材料从加热的坩埚蒸发或升华，从喷嘴向设置于真空腔室内的待蒸镀基板或膜层上喷射气化的蒸发材料形成所需膜层，还可以通过不同图案的掩膜板形成图案化的膜层。由于气化的蒸发材料经过喷嘴时的出射方向沿空间中不同方向，形成扇面形状，即蒸发材料经过掩膜板时的方向并不与待蒸镀基板垂直，因此在需要成膜位置的周围，也会形成蒸发材料形成的膜层，即在待成膜位置的周围存在蒸发材料的延伸，造成阴影效应。以垂直于待蒸镀基板所在平面的方向为参考方向，蒸发材料经过蒸镀出口时的出射方向相对于参考方向的偏离角度越大，成膜位置周围延伸的蒸发材料越多，阴影效应越严重。本专利技术实施例通过将蒸镀部件与至少一个内部设置有蒸发材料的加热部件连接，设置蒸镀部件的蒸镀出口位于蒸镀部件与加热部件连接位置相对的一端，且使蒸镀部件与每个加热部件之间的夹角大于等于90°，小于180°，相对于现有技术中蒸发材料直接在加热部件中加热气化后出射，在加热部件中的蒸发材料气化后，没有直接使气化的蒸发材料从加热部件中出射以用于蒸镀，而是使蒸发材料先进入与加热部件呈[90°，180°)角度连接的蒸镀部件，利用蒸镀部件对蒸发材料的出射方向进行了限制，并设置蒸发材料在蒸镀部件的蒸镀出口的出射方向垂直于待蒸镀基板所在平面，这样在最大程度上保证了蒸发材料经过掩膜板通孔时的喷射方向垂直于待蒸镀基板所在平面，大减少了待蒸镀基板上待成膜位置周围蒸发材料的延伸，进而改善了阴影效应，提高了有机电致发光器件的显示质量。以上是本专利技术的核心思想，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。图1为本专利技术实施例提供的一种蒸发源的结构示意图，图2为图1所示蒸发源的剖面结构示意图。结合图1和图2，蒸发源包括加热部件10和蒸镀部件11，示例性的，蒸镀部件11可以是一蒸镀管路，加热部件10与蒸镀部件11连接，加热部件10内设置有蒸发材料101，蒸镀部件11包括蒸镀出口111，且蒸镀出口111位于蒸镀部件11与加热部件10连接位置相对的一端，蒸发材料101在蒸镀出口111的出射方向(如图2中实线箭头所示方向)垂直于待蒸镀基板12所在平面，图1和图2示例性地设置加热部件10与蒸镀部件11之间的夹角为90°。参照图1和图2，相对于现有技术，蒸发材料101气化后没有直接从加热部件10中出射以用于蒸镀，而是经过蒸镀部件11到达蒸镀出口111出射。具体的，从加热部件10进入蒸镀部件11的蒸发材料101仍呈发散状，呈发散状的蒸发材料101在蒸镀部件11侧壁的限制下，在蒸镀部件11中运动的方向与蒸镀部件11的延伸方向(即图1和图2中的AA’方向)趋于一致，最终使得蒸发材料101在蒸镀出口111的出射方向垂直于待蒸镀基板12所在的平面。需要说明的是，这里的垂直可以认为是近似垂直。在形成图案化膜层时，一般在蒸发源与待蒸镀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸发源，其特征在于，包括：至少一个加热部件，所述加热部件内设置有蒸发材料；蒸镀部件，所述蒸镀部件与所述加热部件连接，包括蒸镀出口，位于所述蒸镀部件与所述加热部件连接位置相对的一端，所述蒸发材料在所述蒸镀出口出射的方向垂直于待蒸镀基板所在平面；所述蒸镀部件与每个所述加热部件之间的夹角均大于等于90°，且小于180°。

【技术特征摘要】
1.一种蒸发源，其特征在于，包括：至少一个加热部件，所述加热部件内设置有蒸发材料；蒸镀部件，所述蒸镀部件与所述加热部件连接，包括蒸镀出口，位于所述蒸镀部件与所述加热部件连接位置相对的一端，所述蒸发材料在所述蒸镀出口出射的方向垂直于待蒸镀基板所在平面；所述蒸镀部件与每个所述加热部件之间的夹角均大于等于90°，且小于180°。2.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸镀部件呈长方体设置，所述蒸镀出口呈矩形设置。3.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，所述蒸镀部件呈圆柱体设置，所述蒸镀出口呈圆形设置。4.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，沿所述蒸发材料的出射方向，所述蒸镀部件垂直于所述蒸发材料出射方向的截面面积相等。5.根据权利要求1所述的蒸发源，其特征在于，沿所述蒸发材料的出射方向，所述蒸镀部件垂直于所述蒸发材料出射方向的截面面积逐渐减小。6.根据权利要求2所述的蒸发源，其特征在于，沿所述蒸发材料的出射方向所述蒸镀部件的高度为H；沿垂直于所述蒸发材料的出射方向，矩形的所述蒸镀出口的边长的最小值为W，其中H:W≥100:36。7.根据权利要求3所述的蒸发源，其特征在于，沿所述蒸发材料的出射方...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨育青，
申请(专利权)人：武汉天马微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42