【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种聚合物膜，尤其涉及一种线型聚酯膜。取向的线型聚酯膜，如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，可用于广范围的用途，包括磁记录介质-如磁带和磁盘;作为光敏乳胶、压敏胶粘剂和金属层的支撑基质;作为装饰帘和电绝缘材料;尤其作为包装薄膜。在取向的聚酯膜遭受重复屈挠的某些情况下，薄膜结构可能产生裂纹或形成针孔，从而降低该薄膜的防湿和阻气特性，最终可能导致该薄膜的全面破坏。已经提出许多改善聚酯薄膜耐屈挠龟裂性的方法。例如，美国专利4771108描述了一种聚酯薄膜，它包含一种线型聚酯、不相容聚烯烃树脂和离子键树脂的共混物。此外，1988年聚合物、层压和涂层会议(Polymers，Laminations and Coating Conference)文集第263页上的一篇论文，描述了一种具有改善的耐屈挠龟裂性的聚酯薄膜，它含有一种共聚酯弹性体。不幸的是，这些方法导致聚酯膜的雾度增加到不可接受的程度，而这对于某些追求光学透明度的包装应用是一个尤其重要的性能。我们现已设计了一种具有改善的耐屈挠龟裂性和/或雾度的聚酯膜。因此，本专利技术提供一种自支撑聚酯膜，它包含一种分子...
【技术保护点】
一种自支撑聚酯膜，包含一种分子取向的共混物，该共混物包含大量的至少一种线型聚酯和少量的至少一种芳族共聚酯醚。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：凯瑟琳J戈斯，加里V罗兹，
申请(专利权)人：帝国化学工业公司，
类型：发明
国别省市：GB[英国]
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