使用内建目标将检验对准到设计制造技术

本发明专利技术提供用于确定由检验子系统产生的输出在设计数据空间中的位置的方法及系统。一种方法包含：从样本的设计选择一或多个对准目标。所述一或多个对准目标的至少一部分包含内建目标，其包含于所述设计中以用于除使检验结果对准到设计数据空间之外的用途。所述一或多个对准目标的至少所述部分不包含一或多个个别装置特征。接着，所述对准目标的一或多个图像及由所述检验子系统在所述对准目标的所述位置处产生的输出可用于确定由所述检验子系统以本文所描述的多种方式产生的其它输出的设计数据空间位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】使用内建目标将检验对准到设计
本专利技术大体上涉及用于确定由检验子系统产生的输出在设计数据空间中的位置的方法及系统。
技术介绍
以下描述及实例不因其包含于本章节中而获准成为现有技术。可使用方法或系统来开发集成电路(IC)设计，例如电子设计自动化(EDA)、计算机辅助设计(CAD)及其它IC设计软件。此类方法及系统可用于从IC设计产生电路图案数据库。电路图案数据库包含表示IC的各种层的多个布局的数据。电路图案数据库中的数据可用于确定多个分划板的布局。分划板的布局大体上包含界定所述分划板上的图案中的特征的多个多边形。每一分划板用于制作IC的各种层的一者。IC的层可包含(例如)半导体衬底中的结图案、栅极电介质图案、栅极电极图案、层间电介质中的接触图案及金属化层上的互连图案。本文所使用的术语“设计数据”大体上是指IC的物理设计(布局)及通过复杂模拟或简单几何及布尔运算从物理设计导出的数据。制作例如逻辑装置及存储器装置的半导体装置通常包含：使用大量半导体制造工艺来处理衬底(例如半导体晶片)以形成半导体装置的各种特征及多个层级。举例来说，光刻是涉及将图案从分划板转印到布置于半导体晶片上的抗蚀剂的半导体制造工艺。半导体制造工艺的额外实例包含(但不限于)化学机械抛光(CMP)、蚀刻、沉积及离子植入。多个半导体装置可以某个布置制造在单个半导体晶片上且接着分离成个别半导体装置。在半导体制造工艺期间的各种步骤中使用检验过程来检测晶片上的缺陷以促成制造工艺的较高良率且因此促成较高利润。检验已成为制作例如IC的半导体装置的重要部分。然而，随着半导体装置的尺寸减小，检验对成功制造合格半导体装置变得更重要，这是因为较小缺陷可引起装置故障。然而，随着设计规则收紧，半导体制造工艺可为更接近过程的性能的限制的操作。此外，随着设计规则收紧，较小缺陷可对装置的电参数产生影响，这驱使更敏感检验。因此，随着设计规则收紧，由检验检测到的潜在良率相关缺陷的数量大幅增加，且由检验检测到的妨害缺陷的数量也大幅增加。因此，可在晶片上检测到越来越多缺陷，且校正工艺以消除所有缺陷会较困难且昂贵。近年来，检验系统及方法的设计日益聚焦于缺陷与设计之间的关系，这是因为对晶片的设计的影响将确定缺陷是否重要及重要程度。举例来说，已发展一些方法来使检验坐标及设计坐标对准。一种此方法取决于检验系统坐标配准到设计的精确度。另一此方法涉及：对检验图像补块及相关联设计片断进行处理后对准。然而，现存检验系统及方法中的许多者存在许多缺点。举例来说，当方法取决于检验系统坐标配准到设计的精确度时，方法未必提供所需的对准精确度。此外，检验图像补块及相关联设计片断的处理后对准取决于具有检验补块及设计片断的足够信息。通常，实际情况是无法满足此准则，且有关缺陷无法用于剩余分析中，或更糟地，通过分析的剩余部分而传播不良数据，借此降低结果的精确度。因此，将有利地发展用于确定由检查子系统产生的输出在设计数据空间中的位置的系统及/或方法，其不具有上文所描述的缺点中的一或多者。
技术实现思路
各种实施例的以下描述绝不应被解释为限制所附权利要求书的标的物。一个实施例涉及一种经配置以确定由检验子系统产生的输出在设计数据空间中的位置的系统。所述系统包含检验子系统，其包含至少一能源及检测器。所述能源经配置以产生引导到样本的能量。所述检测器经配置以从所述样本检测能量且响应于所述所检测能量而产生输出。所述系统还包含经配置以从所述样本的设计选择一或多个对准目标的一或多个计算机子系统。所述一或多个对准目标的至少一部分包含内建目标，其包含于所述设计中以用于除使检验结果对准到设计数据空间之外的用途。所述一或多个对准目标的至少所述部分不包含一或多个个别缺陷特征。所述计算机子系统还经配置以使所述一或多个对准目标的一或多个图像对准到所述设计的对应于所述一或多个对准目标的一或多个部分。此外，所述计算机子系统经配置以基于使所述一或多个图像对准的结果而确定所述一或多个图像与所述设计的所述一或多个部分之间的一或多个偏移。所述计算机子系统进一步经配置以使由所述检验子系统在所述样本上的所述一或多个对准目标的一或多个位置处产生的输出对准到所述一或多个对准目标的所述一或多个图像。此外，所述计算机子系统经配置以基于使所述输出对准的结果而确定所述样本上的所述一或多个对准目标的所述一或多个位置处所产生的所述输出与所述一或多个对准目标的所述一或多个图像之间的一或多个额外偏移。所述计算机子系统还经配置以基于所述一或多个偏移、所述一或多个额外偏移及所述样本的其它位置处所产生的输出的样本空间位置而确定由所述检验子系统在所述样本的所述其它位置处产生的所述输出的设计数据空间位置。可如本文所描述那样进一步配置所述系统。另一实施例涉及一种计算机实施方法，其用于确定由检验子系统产生的输出在设计数据空间中的位置。所述方法包含用于上文所描述的一或多个计算机子系统的功能的每一者的步骤。由一或多个计算机系统执行所述方法的所述步骤。可如本文将进一步描述那样执行所述方法。此外，所述方法可包含本文所描述的任何其它方法的任何其它步骤。此外，可由本文所描述的系统中的任何者执行所述方法。额外实施例涉及一种非暂时性计算机可读媒体，其存储可在计算机系统上执行的程序指令，所述计算机系统用于执行用于确定由检验子系统产生的输出在设计数据空间中的位置的计算机实施方法。所述计算机实施方法包含上文所描述的方法的步骤。可如本文所描述那样进一步配置所述计算机可读媒体。可如本文将进一步描述那样执行所述计算机实施方法的步骤。此外，可针对其执行所述程序指令的所述计算机实施方法可包含本文所描述的任何其它方法的任何其它步骤。附图说明将在阅读以下详细描述且参考附图之后明白本专利技术的其它目的及优点，其中：图1及2是说明如本文所描述那样配置的系统的实施例的侧视图的示意图；图3及4是说明对准目标的实施例的平面图的示意图；图5到7是说明可由本文所描述的一或多个计算机子系统实施例执行以确定由检验子系统产生的输出在设计数据空间中的位置的步骤的实施例的流程图；及图8是说明非暂时性计算机可读媒体的实施例的框图，所述非暂时性计算机可读媒体存储可在用于执行本文所描述的计算机实施方法中的一或多者的计算机系统上执行的程序指令。尽管本专利技术易于受各种修改及替代形式影响，但本专利技术的特定实施例以实例方式展示于图式中且将在本文中加以详细描述。然而，应理解，图式及其详细描述不希望将本专利技术限制于所揭示的特定形式，而是相反地，其希望涵盖落于由所附权利要求书界定的本专利技术的精神及范围内的所有修改、等效物及替代物。具体实施方式如本文所使用，术语“设计”及“设计数据”大体上是指IC的物理设计(布局)及通过复杂模拟或简单几何及布尔运算而从物理设计导出的数据。此外，由分划板检验系统获取的分划板的图像及/或其衍生物可用作为设计的“代理”。此分划板图像或其衍生物可在使用设计的本文所描述的任何实施例中充当设计布局的替代物。设计可包含以下各者中所描述的任何其它设计数据或设计数据代理：扎法尔(Zafar)等人于2009年8月4日发布的共同拥有的第7,570,796号美国专利及库尔卡尼(Kulkarni)等人于2010年3月9日发布的共同拥有的第7,676,077号美国专利，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种经配置以确定由检验子系统产生的输出在设计数据空间中的位置的系统，所述系统包括：检验子系统，其包括至少一能源及检测器，其中所述能源经配置以产生引导到样本的能量，且其中所述检测器经配置以从所述样本检测能量且响应于所述所检测能量而产生输出；及一或多个计算机子系统，其经配置以：从所述样本的设计选择一或多个对准目标，其中所述一或多个对准目标的至少一部分包括内建目标，所述内建目标包含于所述设计中以用于除使检验结果对准到设计数据空间之外的用途，且其中所述一或多个对准目标的至少所述部分不包括一或多个个别装置特征；使所述一或多个对准目标的一或多个图像对准到所述设计的对应于所述一或多个对准目标的一或多个部分；基于使所述一或多个图像对准的结果而确定所述一或多个图像与所述设计的所述一或多个部分之间的一或多个偏移；使由所述检验子系统在所述样本上的所述一或多个对准目标的一或多个位置处产生的输出对准到所述一或多个对准目标的所述一或多个图像；基于使所述输出对准的结果而确定在所述样本上的所述一或多个对准目标的所述一或多个位置处产生的所述输出与所述一或多个对准目标的所述一或多个图像之间的一或多个额外偏移；且基于所述一或多个偏移、所述一或多个额外偏移及在所述样本的其它位置处产生的输出的样本空间位置而确定由所述检验子系统在所述样本的所述其它位置处产生的所述输出的设计数据空间位置。...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.31 US 62/098,732;2015.12.29 US 14/983,4521.一种经配置以确定由检验子系统产生的输出在设计数据空间中的位置的系统，所述系统包括：检验子系统，其包括至少一能源及检测器，其中所述能源经配置以产生引导到样本的能量，且其中所述检测器经配置以从所述样本检测能量且响应于所述所检测能量而产生输出；及一或多个计算机子系统，其经配置以：从所述样本的设计选择一或多个对准目标，其中所述一或多个对准目标的至少一部分包括内建目标，所述内建目标包含于所述设计中以用于除使检验结果对准到设计数据空间之外的用途，且其中所述一或多个对准目标的至少所述部分不包括一或多个个别装置特征；使所述一或多个对准目标的一或多个图像对准到所述设计的对应于所述一或多个对准目标的一或多个部分；基于使所述一或多个图像对准的结果而确定所述一或多个图像与所述设计的所述一或多个部分之间的一或多个偏移；使由所述检验子系统在所述样本上的所述一或多个对准目标的一或多个位置处产生的输出对准到所述一或多个对准目标的所述一或多个图像；基于使所述输出对准的结果而确定在所述样本上的所述一或多个对准目标的所述一或多个位置处产生的所述输出与所述一或多个对准目标的所述一或多个图像之间的一或多个额外偏移；且基于所述一或多个偏移、所述一或多个额外偏移及在所述样本的其它位置处产生的输出的样本空间位置而确定由所述检验子系统在所述样本的所述其它位置处产生的所述输出的设计数据空间位置。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个对准目标的至少所述部分进一步包括计量单元的隅角。3.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个对准目标的至少所述部分进一步包括计量单元的中心。4.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个对准目标的至少所述部分进一步包括静态随机存取存储器结构的隅角。5.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个对准目标的至少所述部分进一步包括结构的隅角。6.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个对准目标的至少所述部分进一步包括经设计以由光刻曝光工具使用的对准目标。7.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个对准目标的至少所述部分并非是基于用于在所述样本上的所述一或多个对准目标的所述一或多个位置处产生所述输出的所述检验子系统的一或多个模式而选择。8.根据权利要求1所述的系统，其中所述对准目标中的任何者不包括所述个别装置特征中的任何者。9.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个对准目标的至少一额外部分包括所述个别装置特征的部分。10.根据权利要求1所述的系统，其中在不使用所述样本的物理版本的情况下执行所述选择。11.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以产生一或多个模拟图像，所述一或多个模拟图像说明所述设计的所述一或多个部分将如何出现于由所述检验子系统产生的图像中，且其中使所述一或多个图像对准包括使所述一或多个图像对准到所述一或多个模拟图像。12.根据权利要求1所述的系统，其中对由所述检验子系统针对所述样本而产生的所述输出的每一检验帧执行确定所述一或多个偏移。13.根据权利要求1所述的系统，其中对由所述检验子系统针对所述样本而产生的所述输出的每一检验帧执行确定所述一或多个额外偏移。14.根据权利要求1所述的系统，其中确定所述设计数据空间位置包括：基于所述一或多个偏移及所述一或多个额外偏移而确定由所述检验子系统在所述其它位置处产生的所述输出与所述设计之间的一或多个进一步偏移；及基于所述一或多个进一步偏移及在所述样本上的所述其它位置处产生的所述输出的所述样本空间位置而确定所述设计数据空间位置。15.根据权利要求14所述的系统，其中对由所述检验子系统针对所述样本而产生的所述输出的每一检验帧执行确定所述一或多个进一步偏移。16.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个对准目标的至少所述部分进一步包括具有相同特性的两个或两个以上对准目标。17.根据权利要求16所述的系统，其中使所述一或多个图像对准包括：通过使用所述检验子系统来使所述样本上的所述两个或两个以上对准目标中的一者成像而产生所述对准目标的图像；使所述对准目标的所述图像与所述对准目标的所述设计的部分对准；及使所述对准目标的所述图像与由所述检验子系统针对所述两个或两个以上对准目标的其它者而产生的图像对准，从而使所述两个或两个以上对准...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·巴塔查里亚，B·布罗伊尔，L·高，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US