用于电子器件中的杂环化合物制造技术

技术编号:15916606 阅读:32 留言:0更新日期:2017-08-02 02:02
本发明专利技术涉及杂环化合物和含有这些化合物的电子器件,特别是有机电致发光器件。

Heterocyclic compounds used in electronic devices

The present invention relates to heterocyclic compounds and electronic devices containing these compounds, in particular organic electroluminescent devices.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于电子器件中的杂环化合物本专利技术涉及适合用于电子器件中的杂环化合物。本专利技术还涉及其制备方法以及电子器件。含有有机、有机金属和/或聚合半导体的电子器件变得越来越重要,并且由于成本的原因和因为它们的性能正在许多商品中使用。在此的实例包括影印机中的基于有机的电荷传输材料(例如基于三芳基胺的空穴传输体)、在读出和显示装置中的有机或聚合发光二极管(OLED或PLED)或影印机中的有机光感受器。有机太阳能电池(O-SC)、有机场效应晶体管(O-FET)、有机薄膜晶体管(O-TFT)、有机集成电路(O-IC)、有机光放大器和有机激光二极管(O-激光器)处在先进的发展阶段并且可具有重大的未来意义。这些电子器件中的许多,不管各自的最终用途,都具有以下的通用性层结构,所述层结构可针对特定应用进行调节:(1)基底,(2)电极,经常是金属的或无机的,但也由有机或聚合聚合导电材料构成,(3)一个或多个电荷注入层或一个或多个中间层,例如补偿所述电极中的不平度(“平面化层”),经常由导电掺杂聚合物构成,(4)有机半导体,(5)可能的其它电荷传输、电荷注入或电荷阻挡层,(6)反电极,如(2)中指定的材料,(7本文档来自技高网...

【技术保护点】
包含式(I)结构的化合物

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.11.21 EP 14003925.61.包含式(I)结构的化合物其中所使用的符号如下:X在每次出现时是相同或不同的并且是N或CR1,优选CR1,条件是在一个环中不超过两个X基团是N;Z是键、C(R1)2、O或S;L1是键,具有6至60个碳原子的芳族环系或具有3至60个碳原子的杂芳族环系,所述环系中的每个可被一个或多个R1基团取代;Ar1、Ar2、Ar3是具有6至40个碳原子的芳基基团或具有3至40个碳原子的杂芳基基团,所述基团中的每个可被一个或多个R1基团取代;R1在每次出现时是相同或不同的并且是H,D,F,Cl,Br,I,B(OR2)2,CHO,C(=O)R2,CR2=C(R2)2,CN,C(=O)OR2,C(=O)N(R2)2,Si(R2)3,N(R2)2,NO2,P(=O)(R2)2,OSO2R2,OR2,S(=O)R2,S(=O)2R2,具有1至40个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团或者具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可被一个或多个R2基团取代,其中一个或多个不相邻的CH2基团可被-R2C=CR2-、-C≡C-、Si(R2)2、C=O、C=S、C=NR2、-C(=O)O-、-C(=O)NR2-、NR2、P(=O)(R2)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中一个或多个氢原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或者具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R2基团取代的芳族或杂芳族环系,或者具有5至40个芳族环原子并可被一个或多个R2基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,或这些体系的组合;同时,两个或更多个相邻的R1取代基还可以一起形成单环或多环的脂族或芳族环系;R2在每次出现时是相同或不同的并且是H,D,F,Cl,Br,I,B(OR3)2,CHO,C(=O)R3,CR3=C(R3)2,CN,C(=O)OR3,C(=O)N(R3)2,Si(R3)3,N(R3)2,NO2,P(=O)(R3)2,OSO2R3,OR3,S(=O)R3,S(=O)2R3,具有1至40个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团或者具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可被一个或多个R3基团取代,其中一个或多个不相邻的CH2基团可被-R3C=CR3-、-C≡C-、Si(R3)2、C=O、C=S、C=NR3、-C(=O)O-、-C(=O)NR3-、NR3、P(=O)(R3)、-O-、-S-、SO或SO2代替,并且其中一个或多个氢原子可被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,或者具有5至40个芳族环原子并且在每种情况下可被一个或多个R3基团取代的芳族或杂芳族环系,或者具有5至40个芳族环原子并可被一个或多个R3基团取代的芳氧基或杂芳氧基基团,或这些体系的组合;同时,两个或更多个相邻的R2取代基还可以一起形成单环或多环的脂族或芳族环系;R3在每次出现时是相同或不同的并且是H,D,F,或者具有1至20个碳原子的脂族、芳族和/或杂芳族烃基基团,其中氢原子也可以被F代替;同时,两个或更多个相邻的R3取代基还可以一起形成单环或多环的脂族或芳族环系;条件是Ar2和/或Ar3基团的至少一个是式(IIa)或(IIb)的基团其中X在每次出现时是相同或不同的并且是N或CR1,优选CR1,条件是在一个环中不超过两个X基团是N;L2是键,具有6至60个碳原子的芳族环系或具有3至60个碳原子的杂芳族环系,所述环系中的每个可被一个或多个R1基团取代;R1如上所限定的并且虚线表示键合位点,从而使L2与L1结合到同一氮原子上。2.根据权利要求1所述的化合物,其特征在于形成式(Ia)的结构其中h在每次出现时独立地是0、1、2、3或4,优选0、1或2,更优选0或1;Ar4是具有6至40个碳原子的芳基基团或具有3至40个碳原子的杂芳基基团,所述基团中的每个可被一个或多个R1基团取代,并且符号Ar1、Ar2、Ar3、L1和Z如权利要求1中所限定的。3.根据权利要求1或2所述的化合物,其特征在于所述Z基团是键,从而形成式(Ib)或(Ic)的结构其中的符号如权利要求1或2中所限定的。4.根据权利要求1至3的一项或多项所述的化合物,其特征在于与式(IIa)或(IIb)的芴结构中9位处碳原子键合的两个R1基团各自是具有5至30个芳族环原子并可被一个或多个R1基团取代的芳族或杂芳族环系,其中所述两个环系互相连接。5.根据权利要求4所述的化合物,其特征在于所述Ar2和/或Ar3基团的至少一个包含式(IIc)或(IId)的基团其中的符号如权利要求1中所限定的。6.根据权利要求1至3的一项或多项所述的化合物,其特征在于与式(IIa)或(IIb)的芴结构中9位处碳原子键合的两个R1基团各自是具有5至30个芳族环原子并可被一个或多个R1基团取代的芳族或杂芳族环系,其中所述两个环系不互相连接,或具有1至40个碳原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团或者具有3至40个碳原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷氧基基团,所述基团中的每个可被一个或多个R2基团取代,其中一个或多个不相邻的CH2基团可被-R2C=CR2-、-C≡C-、Si(R2)2、C=O、C=S、C=NR2、-C(=O...

【专利技术属性】
技术研发人员:安雅·雅提斯奇埃米尔·侯赛因·帕勒姆托马斯·埃伯利托比亚斯·格罗斯曼乔纳斯·瓦伦丁·克罗巴
申请(专利权)人:默克专利有限公司
类型:发明
国别省市:德国,DE

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