以波纹管卡紧翘曲的晶片制造技术

本发明专利技术揭示一种真空卡盘，其具有拉动晶片表面朝向卡紧表面的至少一个吸力组合件。所述吸力组合件可与翘曲的晶片一起使用。吸力使吸力组合件的垫与所述晶片表面接合且使所述吸力组合件的波纹管缩回。当所述波纹管缩回且使所述晶片表面更靠近于所述卡紧表面时，由所述真空卡盘提供的所述吸力可将所述晶片拉平。

The wafer warpage of compact corrugated pipe

The present invention discloses a vacuum chuck having at least one suction assembly that pulls the wafer surface toward the clamping surface. The suction assembly can be used with warped wafers. The suction engages the pad of the suction assembly with the wafer surface and retracts the bellows of the suction assembly. When the bellows retracts and the wafer surface is closer to the clamping surface, the suction provided by the vacuum chuck can flatten the wafer.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】以波纹管卡紧翘曲的晶片相关申请案的交叉参考本申请案主张2014年12月6日申请的第62/088,546号美国临时专利申请案的优先权，所述专利申请案的全文以引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及晶片处理，且更特定地说，本专利技术涉及卡紧翘曲的晶片。
技术介绍
真空卡盘通常用于固定晶片。举例来说，真空卡盘可用于在检测期间或在晶片制造的其它时期期间固定半导体晶片。真空卡盘通常具有接触晶片的卡紧表面。一或多个真空凹槽延伸穿过此卡紧表面。当通过一或若干真空凹槽而抽空空气或另一气体时，吸力使晶片保持于真空卡盘上。卡紧表面与对置晶片表面之间的压力差使晶片在处理期间固定于适当位置中或可使晶片紧贴真空卡盘。并非全部晶片都是完全平面的。晶片会变翘曲。这使晶片的表面弯曲或以其它方式不规则(即，非平面的)。举例来说，翘曲晶片的表面上的点会偏离相对于表面的圆周的参考平面。此翘曲可为晶片处理的结果或对晶片的应力或应变的结果。举例来说，晶片上的层或膜可引起导致翘曲的应力或应变。使翘曲晶片充分固定到真空卡盘可较困难。晶片表面的平整度影响真空卡盘可固定晶片的良好程度。当真空卡盘与晶片表面之间的距离增大时，所述真空卡盘固定或平整晶片的效力下降。因此，如果晶片表面的部分归因于翘曲而进一步远离真空卡盘，那么无法使用真空卡盘来固定或平整晶片表面的此部分。未固定晶片或未经适当平整的晶片可影响晶片制造。在使用计量系统的半导体应用中，一些晶片被翘曲到使得这些翘曲晶片无法由检测系统正常处理或处置的程度。此类晶片会由于上游制造工艺(例如金属沉积)(其改变平面平整度且引起这些晶片呈碗形、圆顶形或不对称的(经扭转))而翘曲。计量工具(例如亮场工具)通常需要基本上平整的晶片。通常使用卡盘来夹紧晶片以平整所述晶片来用于计量或处理。翘曲的晶片通常无法被夹紧于真空卡盘上以充分平整所述晶片来用于计量系统中的检测。因此，通过计量系统的大量产量损失可由晶片的翘曲引起。真空卡盘通常可固定具有高达0.1毫米的翘曲的晶片。尽管有0.1毫米的翘曲，但可紧贴卡紧表面拉平晶片且仅使用真空卡盘的吸力来使充分保持晶片。将具有从0.4毫米到0.8毫米的翘曲的翘曲晶片卡紧于真空卡盘上在一些实例中是可行的，但这会受限于特定翘曲定向或具有特定背面光洁度的晶片。然而，一些晶片具有大于0.8毫米的翘曲。举例来说，一些晶片具有高达约5毫米或约6毫米的翘曲。翘曲到此程度的晶片无法被充分固定到现有真空卡盘。因此，需要一种新设备及方法来卡紧翘曲晶片。
技术实现思路
在第一实施例中，提供一种吸力组合件。所述吸力组合件具有基座、波纹管、垫及真空口。所述波纹管(其可由不锈钢制造)具有第一端及与所述第一端相对的第二端。所述波纹管的所述第二端安置于所述基座上。所述垫(其可由聚酰亚胺制造)具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面。所述垫的所述第二表面安置于所述波纹管的所述第一端上。所述第一表面界定所述垫中的凹口且所述垫包含所述第一表面与所述第二表面之间的至少一个通道，所述至少一个通道由通道壁界定。所述真空口与第一容积及第二容积流体连通。所述第一容积由所述基座、所述波纹管及所述垫界定。所述第二容积由所述凹口部分地界定。浮动部分可安置于所述波纹管与所述垫之间。所述浮动部分包含穿过所述浮动部分的浮动部分主体的浮动部分通道，其由浮动部分通道壁界定。所述浮动部分通道与所述垫的所述通道流体连通。所述第一容积由所述浮动部分进一步界定。止动螺丝可安置于所述基座中。所述止动螺丝是可调整的且经配置以在所述波纹管缩回时对所述垫提供止动。弹簧可安置于所述基座与所述垫之间。所述波纹管的横截面积可大于所述垫的横截面积。所述波纹管的所述横截面积与所述垫的所述横截面积的比率可为从1.1:1到1.5:1。在第二实施例中，提供一种真空卡盘。所述真空卡盘具有界定卡紧表面的主体，其中吸力组合件开口由所述卡紧表面界定。所述真空卡盘还具有安置于所述吸力组合件开口中的吸力组合件。所述吸力组合件具有基座、波纹管、垫及真空口。所述波纹管(其可由不锈钢制造)具有第一端及与所述第一端相对的第二端。所述波纹管的所述第二端安置于所述基座上。所述垫(其可由聚酰亚胺制造)具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面。所述垫的所述第二表面安置于所述波纹管的所述第一端上。所述第一表面界定所述垫中的凹口且所述垫包含所述第一表面与所述第二表面之间的至少一个通道，所述至少一个通道由通道壁界定。所述真空口与第一容积及第二容积流体连通。所述第一容积由所述基座、所述波纹管及所述垫界定。所述第二容积由所述凹口部分地界定。所述垫的所述第一表面在第一位置中与所述卡紧表面相距一距离且所述垫的所述第一表面在第二位置中比在所述第一位置中更接近于所述卡紧表面。所述垫的所述第一表面在所述第二位置中可与所述卡紧表面齐平。所述真空卡盘可包含多个吸力组合件开口及安置于所述吸力组合件开口中的多个吸力组合件。浮动部分可安置于所述波纹管与所述垫之间。所述浮动部分包含穿过所述浮动部分的浮动部分主体的浮动部分通道，其由浮动部分通道壁界定。所述浮动部分通道与所述垫的所述通道流体连通。所述第一容积由所述浮动部分进一步界定。止动螺丝可安置于所述基座中。所述止动螺丝是可调整的且经配置以在所述波纹管缩回到所述第二位置时对所述垫提供止动。弹簧可安置于所述基座与所述垫之间。所述波纹管的一横截面积可大于所述垫的横截面积。所述波纹管的所述横截面积与所述垫的所述横截面积的比率可为从1.1:1到1.5:1。在第三实施例中，提供一种卡紧的方法。将晶片的晶片表面定位于真空卡盘的卡紧表面上。所述晶片表面并非完全接触所述卡紧表面。所述真空卡盘包括吸力组合件，其包含波纹管及垫。所述波纹管内的容积及连接到所述波纹管的所述垫的凹口中的压力经降低使得所述垫接合所述晶片表面且所述波纹管缩回，由此不致使所述晶片表面呈非平面的。所述真空卡盘可包含多个吸力组合件。因此，可降低多个容积及凹口中的压力，使得多个垫接合所述晶片表面且多个波纹管缩回。附图说明为了更完全理解本专利技术的本质及目的，应参考结合附图的以下详细描述，其中：图1是根据本专利技术的吸力组合件的第一实施例的横截面图；图2是根据本专利技术的吸力组合件的第二实施例的横截面图；图3是包含吸力组合件的真空卡盘的俯视透视图；图4是对应于图3的真空卡盘的真空卡盘的部分的仰视透视图；图5是根据本专利技术的方法的流程图；图6是处于第一位置中的真空卡盘中的吸力组合件的横截面图；图7是处于第一位置中的具有多个吸力组合件的真空卡盘的横截面图；图8是处于第二位置中的真空卡盘中的吸力组合件的横截面图；及图9是处于第二位置中的具有多个吸力组合件的真空卡盘的横截面图。具体实施方式虽然将依据某些实施例而描述所主张的目标物，但其它实施例(其包含未提供本文中所阐述的全部益处及特征的实施例)也在本专利技术的范围内。可在不背离本专利技术的范围的情况下作出各种结构、逻辑、过程步骤及电子改变。本专利技术提供一种卡紧晶片的系统及方法。将可被翘曲的晶片放置于真空卡盘的卡紧表面上。所述卡紧表面可为基本上呈平面的。所述真空卡盘具有可接触或以其它方式接合晶片表面的至少一个吸力组合件。所述吸力组合件包含基座、安置于所述基座上的柔性波纹管及安置于所述柔性波纹管上的垫。在实施例中，每个吸力组合本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吸力组合件，其包括：基座；波纹管，其具有第一端及与所述第一端相对的第二端，其中所述波纹管的所述第二端安置于所述基座上；垫，其具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，其中所述垫的所述第二表面安置于所述波纹管的所述第一端上，其中所述第一表面界定所述垫中的凹口，且所述垫进一步包括所述第一表面与所述第二表面之间的至少一个通道，所述通道由通道壁界定；及真空口，其与第一容积及第二容积流体连通，其中所述第一容积由所述基座、所述波纹管及所述垫界定，且其中所述第二容积由所述凹口部分地界定。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.06 US 62/088,546;2015.04.10 US 14/683,5551.一种吸力组合件，其包括：基座；波纹管，其具有第一端及与所述第一端相对的第二端，其中所述波纹管的所述第二端安置于所述基座上；垫，其具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，其中所述垫的所述第二表面安置于所述波纹管的所述第一端上，其中所述第一表面界定所述垫中的凹口，且所述垫进一步包括所述第一表面与所述第二表面之间的至少一个通道，所述通道由通道壁界定；及真空口，其与第一容积及第二容积流体连通，其中所述第一容积由所述基座、所述波纹管及所述垫界定，且其中所述第二容积由所述凹口部分地界定。2.根据权利要求1所述的吸力组合件，其进一步包括安置于所述波纹管与所述垫之间的浮动部分，其中所述浮动部分包含穿过所述浮动部分的浮动部分主体的浮动部分通道，所述浮动部分通道由浮动部分通道壁界定，其中所述浮动部分通道与所述垫的所述通道流体连通，且其中所述第一容积由所述浮动部分进一步界定。3.根据权利要求1所述的吸力组合件，其中所述垫由聚酰亚胺制造。4.根据权利要求1所述的吸力组合件，其中所述波纹管由不锈钢制造。5.根据权利要求1所述的吸力组合件，其进一步包括安置于所述基座中的止动螺丝，其中所述止动螺丝是可调整的且其中所述止动螺丝经配置以在所述波纹管缩回时对所述垫提供止动。6.根据权利要求1所述的吸力组合件，其进一步包括所述波纹管内的弹簧，所述弹簧安置于所述基座与所述垫之间。7.根据权利要求1所述的吸力组合件，其中所述波纹管的横截面积大于所述垫的横截面积。8.根据权利要求7所述的吸力组合件，其中所述波纹管的所述横截面积与所述垫的所述横截面积的比率是从1.1:1到1.5:1。9.一种真空卡盘，其包括：主体，其界定卡紧表面且具有由所述卡紧表面界定的吸力组合件开口；吸力组合件，其安置于所述吸力组合件开口中，其中所述吸力组合件包括：基座；波纹管，其具有第一端及与所述第一端相对的第二端，其中所述波纹管的所述第二端安置于所述基座上；垫，其具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，其中所述垫的所述第二表面安置于所述波纹管的所述第一端上，其中所述第一表面界定所述垫中的凹口，且所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄鲁平，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US