一种透明显示器及其制造工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种透明显示器及其制造工艺，包括以下步骤：原材ITO玻璃预处理、涂光刻胶并烘干、曝光、显影坚膜处理、刻蚀和去膜、取向涂布、空盒制作和成品处理。本发明专利技术采用的透明显示器制作工艺在生产时，步骤简易，操作简单，工作效率高，生产出的透明显示器的图像清晰，显示器为全透明的玻璃体，视觉效果极好，且产品的品质质量好。

Transparent display and manufacturing process thereof

The invention discloses a transparent display and its manufacturing process, which comprises the following steps: raw material pretreatment, ITO glass coated with the photoresist and drying, exposure and development of thick film processing, etching and film, coating, orientation to the empty box production and processing of finished products. The invention adopts transparent display manufacturing process in production, simple steps, simple operation, high work efficiency, the image produced by the transparent display display is clear, transparent vitreous body, excellent visual effect, and the quality of the products of good quality.

【技术实现步骤摘要】
一种透明显示器及其制造工艺
本专利技术涉及透明显示器生产
，尤其涉及一种透明显示器及其制造工艺。
技术介绍
目前，ITO导电膜玻璃简称为ITO玻璃，ITO玻璃是制作显示器的主要原材，现有的显示器的制作方法多种多样，但大多数的方法工艺操作复杂，步骤繁琐，生产的效率较低。另外，传统方法无法制成的透明显示器，产品本身需要在偏振光下进行显示，工作时为一个隔挡光线的遮光本体，这样不管是在显示器的显示效果和使用效果来说都存在一定的局限。
技术实现思路
本专利技术为了解决现有技术的上述不足，提出了一种透明显示器及其制造工艺。为了解决上述技术问题，本专利技术采用以下技术方案：一种透明显示器及其制造工艺，包括以下步骤：1)原材ITO玻璃预处理：选取ITO玻璃原材并将原材表面的杂质和油污洗净并干燥；2)涂光刻胶并烘干：ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，并ITO玻璃进行烘干，直至光刻胶中的溶剂挥发；3)曝光：用紫外光通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，并在涂有光刻胶的ITO玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光；4)显影坚膜处理：用显影液处理ITO玻璃表面，将经过光照分解本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透明显示器制造工艺，其特征在于，包括以下步骤：1）原材ITO 玻璃预处理：选取ITO 玻璃原材并将原材表面的杂质和油污洗净并干燥；2）涂光刻胶并烘干：ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，并ITO玻璃进行烘干，直至光刻胶中的溶剂挥发；3）曝光：用紫外光通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，并在涂有光刻胶的ITO玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光；4）显影坚膜处理：用显影液处理ITO玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV 光照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后ITO玻璃进行高温烘烤坚膜处理；5）刻蚀和去膜：用适当的酸...

【技术特征摘要】
1.一种透明显示器制造工艺，其特征在于，包括以下步骤：1）原材ITO玻璃预处理：选取ITO玻璃原材并将原材表面的杂质和油污洗净并干燥；2）涂光刻胶并烘干：ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，并ITO玻璃进行烘干，直至光刻胶中的溶剂挥发；3）曝光：用紫外光通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，并在涂有光刻胶的ITO玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光；4）显影坚膜处理：用显影液处理ITO玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受UV光照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后ITO玻璃进行高温烘烤坚膜处理；5）刻蚀和去膜：用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的ITO膜蚀掉，得到所需ITO电极图形，将ITO玻璃上余下的光刻胶剥离掉，从而使ITO玻璃上形成与光刻掩模版完全一致的ITO图形；6）取向涂布：首先在完成图形刻蚀的ITO玻璃上的适当位置涂一层均匀的取向层，同时对取向层做固化处理，然后使用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面，以使液晶分子将来能够沿着取向层的摩擦方向排列，最后清洗完成取向处理的ITO玻璃上的表面杂物；7）空盒制作：取两块完成取向...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘琨，
申请(专利权)人：上海金硙电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31