具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法技术

本发明专利技术提供一种具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法。该清洗组件包括第一喷淋机构和第二喷淋机构，第一喷淋机构用于喷淋蚀刻液，第二喷淋机构设置于第一喷淋机构的上方，第二喷淋机构用于在第一喷淋机构停止喷淋蚀刻液时喷淋清洗液，以对第一喷淋机构进行清洗。基于此，本发明专利技术能够对蚀刻腔室内进行随时清洗，减少蚀刻液挥发产生的结晶体，降低由结晶体导致的危害。

【技术实现步骤摘要】
具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法
本专利技术涉及显示终端制造
，具体涉及一种具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法。
技术介绍
在LCD(LiquidCrystalDisplay,液晶显示器)的制程中，蚀刻工艺是非常重要的一环。蚀刻工艺是利用化学药品对基板表面的金属进行腐蚀，从而达到去除部分金属以形成预定图案的目的。当前，蚀刻工艺一般采用容易挥发的草酸溶液，在蚀刻设备闲置过久时挥发的草酸溶液容易在蚀刻腔室内结晶，所产生的结晶体不仅会划伤损伤待蚀刻元件，影响LCD的显示品质，而且可能会被操作人员吸入，对人体造成伤害。然而，当前仅能在蚀刻设备保养时清洗蚀刻腔室内的结晶体，这种定时清洗无法有效的减少结晶体以及降低由结晶体导致的危害。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供一种具有自动清洗功能的蚀刻腔室及其清洗组件、清洗方法，能够对蚀刻腔室内进行随时清洗，减少蚀刻液挥发产生的结晶体，降低由结晶体导致的危害。本专利技术一实施例的蚀刻腔室内的清洗组件，蚀刻腔室内设置有第一喷淋机构，用于喷淋蚀刻液，以对所述蚀刻腔室内的待蚀刻元件进行蚀刻，所述清洗组件包括第二喷淋机构，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蚀刻腔室内的清洗组件，其特征在于，所述蚀刻腔室内设置有第一喷淋机构，用于喷淋蚀刻液，以对所述蚀刻腔室内的待蚀刻元件进行蚀刻，所述清洗组件包括第二喷淋机构，所述第二喷淋机构设置于所述第一喷淋机构的上方，用于在所述第一喷淋机构停止喷淋蚀刻液时喷淋清洗液，以对所述第一喷淋机构进行清洗。

【技术特征摘要】
1.一种蚀刻腔室内的清洗组件，其特征在于，所述蚀刻腔室内设置有第一喷淋机构，用于喷淋蚀刻液，以对所述蚀刻腔室内的待蚀刻元件进行蚀刻，所述清洗组件包括第二喷淋机构，所述第二喷淋机构设置于所述第一喷淋机构的上方，用于在所述第一喷淋机构停止喷淋蚀刻液时喷淋清洗液，以对所述第一喷淋机构进行清洗。2.根据权利要求1所述的清洗组件，其特征在于，所述第二喷淋机构包括喷淋管以及设置于所述喷淋管上的多个喷淋嘴，所述喷淋管内部中空并用于通入清洗液，所述喷淋嘴用于喷淋清洗液。3.根据权利要求2所述的清洗组件，其特征在于，所述多个喷淋嘴呈螺旋状分布于所述喷淋管的表面。4.根据权利要求2或3所述的清洗组件，其特征在于，所述第二喷淋机构还包括与所述喷淋管连接的电机，所述电机用于驱动所述喷淋管绕轴旋转，从而带动所述喷淋嘴旋转。5.根据权利要求1所述的清洗组件，其特征在于，所述喷淋嘴喷淋清洗液的形状包括圆锥状。6.一种具有自动清洗功能的蚀...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡小龙，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44