铜片单面退火用支架制造技术

本实用新型专利技术属于热处理辅助工具技术领域，具体涉及一种铜片单面退火用支架。其包括四周围合形成封闭结构的支撑框，所述支撑框的内侧设置有支撑沿，所述支撑沿的上端面构成铜片产品的支撑面；所述支撑框上位于所述支撑沿的下部设置有抽拉导向插槽，所述抽拉导向插槽内配合设有抽拉挡板。本实用新型专利技术能够确保铜片的一个表面得到充分完全的氧化，而另一面完全不发生氧化，避免产生铜片氧化的边缘效应。本实用新型专利技术能够很好的实现铜片单面均匀退火，并确保铜片不发生氧化的那一面不会被污染到；而且还可以同时进行两片铜片的单面氧化，操作使用方便。

【技术实现步骤摘要】
铜片单面退火用支架
本技术属于热处理辅助工具
，具体涉及一种铜片单面退火用支架，适用于直接覆铜基板生产过程中铜片的退火工序。
技术介绍
现有技术中铜片退火时，使用退火支架将铜片支撑起来，由于铜片上、下表面都暴露于氧化炉的气氛中，即使下表面没有氧气，通过上表面的氧气也会扩散到铜片的下表面，形成严重的边缘效应。如果在只要求进行单面退火的情况下，则更不能很好地实现铜片表面均匀的单面退火。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本技术的目的在于提供一种能够确保实现铜片单面退火，并且使得铜片退火更加均匀的退火支架。为实现上述技术目的，本技术采用以下的技术方案：铜片单面退火用支架，包括四周围合形成封闭结构的支撑框，所述支撑框的内侧设置有支撑沿，所述支撑沿的上端面构成铜片产品的支撑面；所述支撑框上位于所述支撑沿的下部设置有抽拉导向插槽，所述抽拉导向插槽内配合设有抽拉挡板。作为优选，所述支撑框采用不锈钢材质，耐高温性好，不易老化变形，同时在退火过程中不会污染到铜片，即不与铜片产生反应。作为优选，所述抽拉挡板采用陶瓷板。作为优选，所述支撑框的底部四角处分别设置有支撑脚。由于采用上述技术方案，本技术具有至少以下有益效果：(1)能够保证铜片在氧化过程中，不会塌陷变形；(2)能够确保铜片的一个表面得到充分完全的氧化，通过抽拉挡板可以避免铜片的另一表面同时暴露于氧化炉的气氛中，确保另一面完全不发生氧化，避免产生边缘效应，能够很好的实现铜片表面均匀的单面退火；(3)能够确保铜片不发生氧化的那一面不会被污染到，保持洁净无脏污；(4)将抽拉挡板抽出后可置换为铜片产品，由此可以同时进行两片铜片的单面氧化，整体结构设计简单巧妙，操作使用方便。附图说明以下附图仅旨在于对本技术做示意性说明和解释，并不限定本技术的范围。其中：图1是本技术实施例的结构示意图；图2是将抽拉挡板置换成铜片产品时的截面结构示意图。图中：1-支撑框；2-支撑沿；3-抽拉导向插槽；4-抽拉挡板；5-铜片产品；6-支撑脚。具体实施方式下面结合附图和实施例，进一步阐述本技术。在下面的详细描述中，只通过说明的方式描述了本技术的某些示范性实施例。毋庸置疑，本领域的普通技术人员可以认识到，在不偏离本技术的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，附图和描述在本质上是说明性的，而不是用于限制权利要求的保护范围。如图1和图2所示，铜片单面退火用支架，包括四周围合形成封闭结构的支撑框1，所述支撑框1的内侧设置有支撑沿2，所述支撑沿2的上端面构成铜片产品5的支撑面；所述支撑框1上位于所述支撑沿2的下部设置有抽拉导向插槽3，所述抽拉导向插槽3内配合设有抽拉挡板4，所述抽拉挡板4最好采用陶瓷板，抽拉挡板4与铜片产品5之间有一定尺寸的间隔，以确保铜片下表面不易被污染，同时确保铜片不会与抽拉挡板粘连；所述支撑框1的底部四角处分别设置有支撑脚6，以便于支撑在网带上。其中，支撑框1最好采用不锈钢材质，具体制作时，先通过剪板机剪出相应宽度的不锈钢条，然后再通过折弯机对不锈钢条进行折弯，同时借助于切割机对不锈钢按照制作要求，对其进行切割；切割完成之后进行打磨去毛刺，最后使用氩弧焊对开口端进行焊接，形成最终的支撑框。另外，抽拉挡板4设计为活动的，有两方面作用：第一，由于铜片在氧化过程中，要保持下表面的洁净，抽拉挡板即使经过多次使用后，陶瓷表面出现脏污，可以将其抽出，进行更换或者清洁；第二，如果想要在同一支架中，同时实现两片铜片的单面氧化，可以将抽拉挡板更换成相应的铜片，通过上下表面同时通入氧气，可以实现两块铜片同时只进行单面表面退火，如图2所示。参考图1，需要对一块铜片产品单面氧化处理时，氧化炉设备上表面通入氧气，将抽拉挡板4推入支撑框1内封闭下部区域，将铜片产品5放置在支撑沿2构成的支撑面上，同时将组合好的产品，放置在网带上，进入氧化炉内进行氧化，得到的氧化铜片，上表面得到完全氧化，而铜片产品的下表面不发生氧化，从而实现单面氧化的目的。参考图2，要实现两块铜片产品同时单面氧化，可将氧化炉设备同时上、下进行通氧，上、下氧气对流，将抽拉挡板4置换成铜片产品，与铜片产品5相同，这样的情况，就使得两片铜片可以同时进行单面氧化，在支架上方的铜片上表面得到完全的氧化，在支架下方的铜片下表面得到完全的氧化，而两个铜片相对的面不发生氧化。以上所述仅为本技术示意性的具体实施方式，并非用以限定本技术的范围。任何本领域内的技术人员，在不脱离本技术的构思和原则的前提下所作出的等同变化与修改，均应属于本技术保护的范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
铜片单面退火用支架，其特征在于：包括四周围合形成封闭结构的支撑框(1)，所述支撑框(1)的内侧设置有支撑沿(2)，所述支撑沿(2)的上端面构成铜片产品的支撑面；所述支撑框(1)上位于所述支撑沿(2)的下部设置有抽拉导向插槽(3)，所述抽拉导向插槽(3)内配合设有抽拉挡板(4)。

【技术特征摘要】
1.铜片单面退火用支架，其特征在于：包括四周围合形成封闭结构的支撑框(1)，所述支撑框(1)的内侧设置有支撑沿(2)，所述支撑沿(2)的上端面构成铜片产品的支撑面；所述支撑框(1)上位于所述支撑沿(2)的下部设置有抽拉导向插槽(3)，所述抽拉导向插槽(3)内配合设有抽拉挡板(4)。...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯家云，岑福星，林晓光，赵建光，
申请(专利权)人：南京中江新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32