The invention provides a low temperature pump. The object of the invention is to improve the exhaust performance of a non condensing gas of a cryogenic pump. Low temperature pump of the invention has low temperature (10): second (20), the board unit and a refrigerating machine (16) of the second cooling stage (24) thermal connection; radiation shield (30), which has a shield main opening (34), the shield side opening (44) and at the bottom of the shield the opening (42); and the low temperature pump housing (70), which is oriented to shield the opening at the bottom of the bottom of the shell (42) (74). The opening (42) of the bottom of the shield is larger than the distance from the second low plate unit (20) to the bottom (74) of the shell.
【技术实现步骤摘要】
低温泵本申请主张基于2016年1月8日申请的日本专利申请第2016-002490号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。
本专利技术涉及一种低温泵。
技术介绍
低温泵是通过冷凝或吸附将气体分子捕捉于冷却至超低温的低温板从而进行排气的真空泵。低温泵通常是为了实现半导体电路制造工艺等中要求的清洁的真空环境而进行利用。在低温泵的一种应用(例如如离子注入工序)中,有时存在应排气的气体的大部分为非冷凝性气体(例如氢等)的情况。非冷凝性气体只有使其吸附于冷却至超低温的吸附区域才开始排气。专利文献1:日本特开2012-237262号公报本专利技术的一种实施方式的示例性目的之一在于提高低温泵的非冷凝性气体的排气性能。
技术实现思路
根据本专利技术的一种实施方式,低温泵具备:制冷机,其具有冷却至第1冷却温度的第1冷却台、冷却至比所述第1冷却温度更低的第2冷却温度的第2冷却台及结构上将所述第2冷却台支承于所述第1冷却台的制冷机结构部;低温板单元,其与所述第2冷却台热连接;放射屏蔽件,其具有屏蔽件主开口、屏蔽件侧部开口及屏蔽件底部开口,所述放射屏蔽件包围所述第2冷却台及所 ...
【技术保护点】
一种低温泵,其特征在于,具备:制冷机,其具有冷却至第1冷却温度的第1冷却台、冷却至比所述第1冷却温度更低的第2冷却温度的第2冷却台及结构上将所述第2冷却台支承于所述第1冷却台的制冷机结构部;低温板单元,其与所述第2冷却台热连接;放射屏蔽件,其具有屏蔽件主开口、屏蔽件侧部开口及屏蔽件底部开口,所述放射屏蔽件包围所述第2冷却台及所述低温板单元,在所述制冷机结构部贯穿于所述屏蔽件侧部开口的状态下,所述放射屏蔽件热连接于所述第1冷却台;及低温泵壳体,其具有面向所述屏蔽件底部开口的壳体底部,所述低温泵壳体包围所述放射屏蔽件,所述屏蔽件底部开口的尺寸大于从所述低温板单元到所述壳体底部为止的距离。
【技术特征摘要】
2016.01.08 JP 2016-0024901.一种低温泵,其特征在于,具备:制冷机,其具有冷却至第1冷却温度的第1冷却台、冷却至比所述第1冷却温度更低的第2冷却温度的第2冷却台及结构上将所述第2冷却台支承于所述第1冷却台的制冷机结构部;低温板单元,其与所述第2冷却台热连接;放射屏蔽件,其具有屏蔽件主开口、屏蔽件侧部开口及屏蔽件底部开口,所述放射屏蔽件包围所述第2冷却台及所述低温板单元,在所述制冷机结构部贯穿于所述屏蔽件侧部开口的状态下,所述放射屏蔽件热连接于所述第1冷却台;及低温泵壳体,其具有面向所述屏蔽件底部开口的壳体底部,所述低温泵壳体包围所述放射屏蔽件,所述屏蔽件底部开口的尺寸大于从所述低温板单元到所述壳体底部为止的距离。2.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:高桥走,
申请(专利权)人:住友重机械工业株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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