用于抗蚀剂组合物的多元酚化合物制造技术

本发明专利技术涉及含有通式(1)或(2)所示的化合物的抗蚀剂组合物，使用其的抗蚀图案形成方法，用于其的多元酚化合物以及由其衍生而得到的醇化合物。(通式(1)以及(2)中，R

Multicomponent phenolic compounds for resist compositions

The present invention relates to an resist composition containing a compound in the general formula (1) or (2), an anti pattern formation method using the same, a polyhydric phenol compound used for it, and an alcohol compound obtained therefrom. (general (1) and (2) R

【技术实现步骤摘要】
用于抗蚀剂组合物的多元酚化合物本申请是申请日为2012年8月9日、申请号为2012800393404、专利技术名称为“抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法、用于其的多元酚化合物以及由其衍生而得到的醇化合物”的申请的分案申请。
本专利技术涉及抗蚀剂组合物以及使用其的抗蚀图案形成方法。此外，本专利技术还涉及能在前述抗蚀剂组合物等中使用的多元酚化合物以及由其衍生而得到的醇化合物。
技术介绍
迄今为止，一般的抗蚀材料为能够形成非晶薄膜的高分子系材料。例如对抗蚀薄膜照射紫外线、远紫外线、电子射线、远紫外线(EUV)、X射线等，从而形成45～100nm左右的线状图案，所述抗蚀薄膜是将聚甲基丙烯酸甲酯、具有酸解离性反应基团的聚羟基苯乙烯或聚甲基丙烯酸烷基酯等高分子抗蚀材料的溶液涂布在基板上来制作的。然而，高分子系抗蚀剂的分子量较大，为1万～10万左右，分子量分布也宽，因此在使用高分子系抗蚀剂的光刻中，在微细图案表面产生粗糙度，难以控制图案尺寸，成品率降低。因此，在以往的使用高分子系抗蚀材料的光刻中微细化是存在限度的。为了制作更微细的图案，提出了各种低分子量抗蚀材料。例如，提出了使用低分子量多核多元酚化合物作为主要成分的碱显影型的负型辐射敏感组合物(参照专利文献1以及专利文献2)，作为具有高耐热性的低分子量抗蚀材料的候补，还提出了使用低分子量环状多元酚化合物作为主要成分的碱显影型的负型辐射敏感组合物(参照专利文献3以及非专利文献1)。此外，已知作为抗蚀材料的基础化合物，低分子量以及在赋予高耐热性，改善抗蚀图案的分辨率、粗糙度的方面多元酚化合物是有用的(参照非专利文献2)。此外作为聚碳酸酯、聚芳酯等热塑性树脂的原料、环氧树脂等的热固化性树脂的原料、固化剂、改性剂等可以使用各种多元酚(参照专利文献4～5)。进而，作为树脂原料、树脂固化剂，已知有通过用多元酚等置换而使各种特性(光学特性、耐热性、耐水性、耐湿性、耐化学药品性、电特性、机械特性、尺寸稳定性等)提高的具有cardo结构的芴化合物(参照专利文献6～9)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-326838号公报专利文献2：日本特开2008-145539号公报专利文献3：日本特开2009-173623号公报专利文献4：日本特开2006-213634号公报专利文献5：日本特开2007-326847号公报专利文献6：日本特开2006-36648号公报专利文献7：日本特开2009-155256号公报专利文献8：日本特开2011-68624号公报专利文献9：日本特开2011-105887号公报非专利文献非专利文献1：T.Nakayama，M.Nomura，K.Haga，M.Ueda：Bull.Chem.Soc.Jpn.，71,2979(1998)非专利文献2：冈崎信次、其他22人“光致抗蚀剂材料开发的新进展”CMCPublishingCo.,Ltd.出版、2009年9月、p.211-259
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，前述专利文献1、2的组合物存在耐热性不充分、所得到的抗蚀图案的形状恶化的缺点，前述专利文献3、非专利文献1的组合物存在对半导体制造工艺中使用的安全溶剂的溶解性低，灵敏度低、以及所得到的抗蚀图案形状差等问题，期待低分子量抗蚀材料的改良。此外，前述专利文献4、5、非专利文献2对于溶解性没有记载，所记载的化合物的耐热性尚不充分，谋求耐热性、耐水性、耐化学药品性、电特性、机械特性等各特性的进一步提高。进而，前述专利文献6～9的醇化合物的耐热性等特性不充分，进而期望耐热性得到改善的醇化合物。本专利技术的目的在于，提供耐热性优异，对安全溶剂的溶解性高、高灵敏度并且能够赋予良好的抗蚀图案形状的抗蚀剂组合物、以及使用该抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。此外，本专利技术的另外的其他目的在于，提供耐热性优异、对安全溶剂的溶解性高的多元酚化合物。进而，本专利技术的其他目的在于，提供耐热性高的醇化合物。用于解决问题的方案本专利技术人等为了解决前述课题而进行了深入研究，结果发现，通过在抗蚀剂组合物中含有具有特定结构的化合物，从而耐热性优异、对安全溶剂的溶解性高、高灵敏度并且能够赋予良好的抗蚀图案形状，从而完成了本专利技术。即，本专利技术如下所述。1.一种抗蚀剂组合物，含有通式(1)或(2)所示的化合物。(通式(1)以及(2)中，R1分别独立地为单键或碳数1～30的2n价烃基，该烃基也可以具有环式烃基、双键、杂原子或者碳数6～30的芳香族基团，R2独立地为氢原子、卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的链烯基或羟基，在同一萘环中R2可以相同也可以不同，R2的至少1个为羟基，n为1～4的整数，式(1)以及式(2)的重复单元的结构式可以相同也可以不同，通式(1)中，m1分别独立地为1～7的整数，通式(2)中，X分别独立地为氧原子或硫原子，m2分别独立地为1～6的整数。)2.根据前述1项记载的抗蚀剂组合物，其中，前述通式(1)为通式(1-1)，前述通式(2)为通式(2-1)。(通式(1-1)以及(2-1)中，R1以及n与前述式(1)同样，R3分别独立地为氢原子、碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、或碳数2～10的链烯基，在同一萘环中R3可以相同也可以不同，式(1)以及式(2)的重复单元的结构式可以相同也可以不同，n为1～4的整数，通式(1-1)中，m3分别独立地为1～7的整数，m4分别独立地为0～6的整数，m3+m4为1～7的整数，通式(2-1)中，m5分别独立地为1～6的整数，m6分别独立地为0～5的整数，m5+m6为1～6的整数。)3.根据前述1项记载的抗蚀剂组合物，其中，前述通式(1)为通式(1-2)，前述通式(2)为通式(2-2)。(通式(1-2)以及(2-2)中，R1、R3、n、m4、m6等如前所述。)4.根据前述1～3项中任一项记载的抗蚀剂组合物，其中，还含有溶剂。5.根据前述1～4项中任一项记载的抗蚀剂组合物，其中，还含有产酸剂。6.根据前述1～5项中任一项记载的抗蚀剂组合物，其中，还含有酸交联剂。7.一种抗蚀图案形成方法，其特征在于，其包括以下工序：在基板上涂布前述1～6项中任一项记载的抗蚀剂组合物而形成抗蚀膜的工序；将所形成的抗蚀膜进行曝光的工序；和将曝光后的抗蚀膜显影的工序。此外，本专利技术人为了解决前述课题进行了深入研究，结果发现具有特定结构的新型多元酚化合物与包含其的组合物能够解决前述课题，从而完成了本专利技术。即，本专利技术如下所述。8.根据前述1以及4～6项中任一项记载的抗蚀剂组合物，其中，前述通式(1)所示的化合物为通式(3)所示的多元酚化合物，前述通式(2)所示的化合物为通式(4)所示的多元酚化合物。(通式(3)以及(4)中，X′分别独立地为氢原子或碳数1～18的一价取代基，R0分别独立地为碳数1～4的烷基或卤素原子，在同一萘环中R0可以相同也可以不同，p为0～5的整数。)9.一种多元酚化合物，其如前述通式(3)或通式(4)所示。10.根据前述8项记载的抗蚀剂组合物，其中，前述通式(3)所示的化合物为通式(30)所示的多元酚化合物，前述通式(4)所示的化合物为通式(40)所示的多元酚化合物。(通式(30)以及(40本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种化合物，其如通式(1)或(2)所示，

【技术特征摘要】
2011.08.12 JP 2011-176923;2011.09.15 JP 2011-201751.一种化合物，其如通式(1)或(2)所示，通式(1)以及(2)中，R1分别独立地为单键或碳数1～30的2n价烃基，所述烃基也可以具有环式烃基、双键、杂原子或者碳数6～30的芳香族基团，R2分别独立地为氢原子、卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的链烯基或羟基，在同一萘环中R2可...

【专利技术属性】
技术研发人员：越后雅敏，山川雅子，
申请(专利权)人：三菱瓦斯化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP