一种彩色色阻的制作方法技术

本发明专利技术公开了一种彩色色阻的制作方法，包括：在衬底上形成具有第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域的黑色矩阵层；依次移动光罩使对位标记分别与各标记对齐；分别用光罩在黑色矩阵层上形成第一色阻和第一色块、第二色阻和第二色块、以及第三色阻和第三色块，并根据各色块和相应镂空区域的位置关系来核对各色阻位置；第一标记/第一镂空区域和第二标记/第二镂空区域之间在竖直方向上间隔第一距离，第一标记/第一镂空区域和第三标记/第三镂空区域之间在竖直方向上间隔第二距离；第一距离和第二距离被配置成使第一色块、第二色块和第三色块互不交叠。采用本方案可在不改变色块大小的前提下使各色块互不交叠。

Method for making color color resistance

The invention discloses a method for manufacturing a color, the color resistance includes forming a black matrix layer having a first mark, second markers and third markers, and second first hollow area of hollow area and third hollow area on the substrate; the mask alignment marks are moved sequentially with each marker alignment; respectively with the black matrix layer mask on the formation of the first resistance and the first color color swatch, second color and second color, and the resistance of color and third color resistance, and resistance to check all kinds of position according to the position of each block and the corresponding hollow area; the first mark / first hollow area and second / second markers between the hollow area in the vertical direction between the first distance. The first mark / first hollow area and third / third markers between the hollow area in the vertical direction at second distance; the first and second distances are configured The first color block, the second color block and the third color block are mutually overlapped. By adopting the scheme, each color block can not be overlapped without changing the size of the color blocks.

【技术实现步骤摘要】
一种彩色色阻的制作方法
本专利技术涉及彩膜基板的制造
，尤其涉及一种彩色色阻的制作方法。
技术介绍
目前，在制作彩色色阻时，可通过采用同一光罩制备彩色色阻及相应的检测用色块，来降低光罩数量和制作成本。在开始制作彩色色阻时，需要利用黑色矩阵光罩在衬底基板上形成对位标记。图1为现有技术中对位标记的示意图。如图1所示，对位标记(AlignmentMark)包括对位标记101和对位标记102。其中，玻璃基板上的黑色矩阵(BMonGlass)具有对位标记101。而对位标记102则设置在RGB光罩(RGBMask)上。对位标记101具体包括三个黑色矩阵对位标记。其中，第一个黑色矩阵对位标记与第二个黑色矩阵对位标记相隔一个子像素的宽度H。第一个黑色矩阵对位标记与第三个黑色矩阵对位标记相隔两个子像素的宽度2*H。移动RGB光罩。当RGB光罩上的对位标记102依次与各个黑色矩阵对位标记101对准时，在相应的位置形成对应各个黑色矩阵对位标记101的色块和色阻。图2为现有技术中的对准监测标记的第一种示意图。如图2所示，对准检测标记包括R色块201、G色块202和B色块203。R色块201与G色块202相隔H，R色块201与B色块203相隔2*H。图3为现有技术中的对准监测标记的第二种示意图。如图3所示，当在高PPI模式(即高像素密度模式，在此模式下像素尺寸小)下H小于色块的宽度C时，R色块201与G色块202会产生交叠，从而导致无法测量彩色色阻的位置误差的问题。图4为现有技术中的对准监测标记的第三种示意图。为了使色块不产生交叠，如图4所示，可以将各色块做小。但是尺寸较小的色块会存在易被剥离的风险。现有技术中彩色色阻的制作方法的缺陷在于：当在高PPI模式下子像素的宽度小于色块的宽度时，色块之间会产生交叠，从而导致无法测量彩色色阻的位置误差的问题，而将色块做小又会存在尺寸较小的色块易被剥离的风险。
技术实现思路
为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种彩色色阻的制作方法，包括：在衬底基板上形成具有第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域的黑色矩阵层；移动光罩，使所述光罩上的对位标记与所述第一标记对齐；利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第一色阻和第一色块，并根据所述第一色块和所述第一镂空区域的位置关系来核对所述第一色阻的位置；移动所述光罩，使所述对位标记与所述第二标记对齐；利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第二色阻和第二色块，并根据所述第二色块和所述第二镂空区域的位置关系来核对所述第二色阻的位置；移动所述光罩，使所述对位标记与所述第三标记对齐；利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第三色阻和第三色块，并根据所述第三色块和所述第三镂空区域的位置关系来核对所述第三色阻的位置；其中，所述第一标记/第一镂空区域和所述第二标记/第二镂空区域之间在竖直方向上间隔第一距离，所述第一标记/第一镂空区域和所述第三标记/第三镂空区域之间在竖直方向上间隔第二距离；所述第一距离和第二距离被配置成使所述第一色块、第二色块和第三色块互不交叠。在一个实施例中，所述第一距离H1满足：H1＝n1*V；其中，n1为满足n1≥1或n1≦-1的整数，V为子像素的长度；所述第二距离H2满足：H2＝n2*V；其中，n2为不同于n1并且满足n2≥1或n2≦-1的整数。在一个实施例中，所述第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域利用同一光罩同步形成。在一个实施例中，所述第一色阻、第二色阻和第三色阻各不相同，并且分别为红色色阻、绿色色阻和蓝色色阻中的一种。在一个实施例中，所述第一色块、第二色块和第三色块位于子像素与子像素之间的位置。在一个实施例中，所述第一标记、第二标记和第三标记位于非显示区。在一个实施例中，还包括：在形成所述黑色矩阵层时，还使所述黑色矩阵层具有第四标记和第四镂空区域；移动所述光罩，使所述光罩上的对位标记与所述第四标记对齐；利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第四色阻和第四色块，并根据所述第四色块和所述第四镂空区域的位置关系来核对所述第四色阻的位置；其中，所述第一标记/第一镂空区域和所述第四标记/第四镂空区域之间在竖直方向上间隔第三距离；所述第一距离、第二距离和第三距离被配置成使所述第一色块、第二色块、第三色块和第四色块互不交叠。在一个实施例中，所述第一距离H1满足：H1＝n1*V；其中，n1为满足n1≥1或n1≦-1的整数，V为子像素的长度；所述第二距离H2满足：H2＝n2*V；其中，n2为不同于n1并且满足n2≥1或n2≦-1的整数；所述第三距离H3满足：H3＝n3*V；其中，n3为不同于n1和n2并且满足n3≥1或n3≦-1的整数。在一个实施例中，所述第一色阻、第二色阻、第三色阻和第四色阻各不相同，并且分别为红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻和白色色阻中的一种。在一个实施例中，所述第一色块、第二色块、第三色块和第四色块位于子像素与子像素之间的位置。与现有技术相比，上述方案中的一个或多个实施例可以具有如下优点或有益效果：应用本专利技术实施例提供的彩色色阻的制作方法，依次移动光罩使对位标记分别与第一标记、第二标记和第三标记对齐，并利用该光罩在黑色矩阵层上形成对应第一标记的第一色阻和第一色块，对应第二标记的第二色阻和第二色块、以及对应第三标记第三色阻和第三色块。第一标记和第二标记之间在竖直方向上间隔第一距离，第一标记和第三标记之间在竖直方向上间隔第二距离。当第一距离和第二距离被配置成使第一色块、第二色块和第三色块互不交叠时，能够在不改变色块大小的前提下使得各色块互不交叠。本专利技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本专利技术而了解。本专利技术的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。附图说明附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本专利技术的实施例共同用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1示出了现有技术中的对位标记的示意图；图2示出了现有技术中的对准监测标记的第一种示意图；图3示出了现有技术中的对准监测标记的第二种示意图；图4示出了现有技术中的对准监测标记的第三种示意图；图5示出了根据本专利技术第一实施例的彩色色阻的制作方法的流程示意图；图6示出了根据本专利技术第一实施例的对位标记的示意图；图7示出了根据本专利技术第一实施例的对准监测标记的示意图；图8示出了根据本专利技术第一实施例形成的色阻的示意图；图9示出了根据本专利技术第二实施例的彩色色阻的制作方法的流程示意图；图10示出了根据本专利技术第二实施例的对位标记的示意图；图11示出了根据本专利技术第二实施例的对准监测标记的示意图；图12示出了根据本专利技术第二实施例形成的色阻的示意图；图13示出了根据本专利技术第三实施例的对位标记的示意图；图14示出了根据本专利技术第三实施例的对准监测标记的示意图；图15示出了根据本专利技术第三实施例形成的色阻的示意图。具体实施方式以下将结合附图及实施例来详细说明本专利技术的实施方式，借此对本专利技术如何应用技术手段来解决技术问题，并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是，只要不构成冲突，本专利技术中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种彩色色阻的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成具有第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域的黑色矩阵层；移动光罩，使所述光罩上的对位标记与所述第一标记对齐；利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第一色阻和第一色块，并根据所述第一色块和所述第一镂空区域的位置关系来核对所述第一色阻的位置；移动所述光罩，使所述对位标记与所述第二标记对齐；利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第二色阻和第二色块，并根据所述第二色块和所述第二镂空区域的位置关系来核对所述第二色阻的位置；移动所述光罩，使所述对位标记与所述第三标记对齐；利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第三色阻和第三色块，并根据所述第三色块和所述第三镂空区域的位置关系来核对所述第三色阻的位置；其中，所述第一标记/第一镂空区域和所述第二标记/第二镂空区域之间在竖直方向上间隔第一距离，所述第一标记/第一镂空区域和所述第三标记/第三镂空区域之间在竖直方向上间隔第二距离；所述第一距离和第二距离被配置成使所述第一色块、第二色块和第三色块互不交叠。

【技术特征摘要】
1.一种彩色色阻的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成具有第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域的黑色矩阵层；移动光罩，使所述光罩上的对位标记与所述第一标记对齐；利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第一色阻和第一色块，并根据所述第一色块和所述第一镂空区域的位置关系来核对所述第一色阻的位置；移动所述光罩，使所述对位标记与所述第二标记对齐；利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第二色阻和第二色块，并根据所述第二色块和所述第二镂空区域的位置关系来核对所述第二色阻的位置；移动所述光罩，使所述对位标记与所述第三标记对齐；利用所述光罩在所述黑色矩阵层上形成第三色阻和第三色块，并根据所述第三色块和所述第三镂空区域的位置关系来核对所述第三色阻的位置；其中，所述第一标记/第一镂空区域和所述第二标记/第二镂空区域之间在竖直方向上间隔第一距离，所述第一标记/第一镂空区域和所述第三标记/第三镂空区域之间在竖直方向上间隔第二距离；所述第一距离和第二距离被配置成使所述第一色块、第二色块和第三色块互不交叠。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一距离H1满足：H1＝n1*V；其中，n1为满足n1≥1或n1≦-1的整数，V为子像素的长度；所述第二距离H2满足：H2＝n2*V；其中，n2为不同于n1并且满足n2≥1或n2≦-1的整数。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述第一标记、第二标记、第三标记、第一镂空区域、第二镂空区域和第三镂空区域利用同一光罩同步形成。4.根据权利要求1至3任一所述的方法，其特征在于，所述第一色阻、...

【专利技术属性】
技术研发人员：甘启明，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44