一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置制造方法及图纸

技术编号:15722442 阅读:73 留言:0更新日期:2017-06-29 04:56
本发明专利技术公开了一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置,包括照明机构、摩擦副、横向光学观测机构和轴向光学观测机构,所述照明机构为流体标记提供光源,摩擦副包括定制滑块,流体标记通过定制滑块的反射,形成标记的虚像,横向光学观测机构测量并记录垂直于流体标记厚度方向的光学图像,轴向光学观测机构测量并记录流体标记形成的虚像的光学图像,通过对比摩擦副相对于流体标记静止和运动时的图像差异,以实现流体在限制间隙中的三维流速测量与分析。本发明专利技术设备简单,易操作。

【技术实现步骤摘要】
一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置
本专利技术涉及摩擦副流体薄膜测量领域,具体涉及一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置。
技术介绍
流体薄膜广泛存在于微流体器件、轴承和生物体的润滑中。流体动力润滑和弹性流体动力润滑轴向流速分布复杂,除了由两表面相对滑动速度引起的纯剪切流动,还可能存在由压力梯度引起的压力流动。流体薄膜轴向流速分布受润滑油的结构特性和界面润湿性等多种因素影响,轴向流速分布形状非常复杂。其分布状态影响摩擦副的承载力和摩擦力。同时由于膜厚在微米量级,微间隙轴向成像观测困难,目前对流体膜厚的轴向流速分布研究主要是理论计算,缺乏有效直接的观测手段。
技术实现思路
本专利技术为了解决上述问题,提出了一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置,本专利技术通过设置横向光学观测机构对垂直于流体标记厚度方向的光学信息进行记录,轴向光学观测机构获取由定制滑块所成虚像,对平行于流体标记厚度平面信息进行成像测量,具有结构简单,易设计加工,可测量微间隙内复杂流体的三维流速分布。为了实现上述目的,本专利技术采用如下技术方案:一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装本文档来自技高网...
一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置

【技术保护点】
一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置,其特征是:包括照明机构、摩擦副、横向光学观测机构和轴向光学观测机构,所述照明机构为流体标记提供光源,所述摩擦副包括定制滑块,所述流体标记通过定制滑块的反射,形成标记的虚像,所述横向光学观测机构测量并记录垂直于流体标记厚度方向的光学图像,所述轴向光学观测机构测量并记录流体标记形成的虚像的光学图像,通过对比摩擦副相对静止和运动时的流体标记图像的差异,以实现流体在限制间隙中的三维流速测量与分析。

【技术特征摘要】
1.一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置,其特征是:包括照明机构、摩擦副、横向光学观测机构和轴向光学观测机构,所述照明机构为流体标记提供光源,所述摩擦副包括定制滑块,所述流体标记通过定制滑块的反射,形成标记的虚像,所述横向光学观测机构测量并记录垂直于流体标记厚度方向的光学图像,所述轴向光学观测机构测量并记录流体标记形成的虚像的光学图像,通过对比摩擦副相对静止和运动时的流体标记图像的差异,以实现流体在限制间隙中的三维流速测量与分析。2.如权利要求1所述的一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置,其特征是:所述摩擦副包括定制滑块和基底,所述流体标记被限制在基底和定制滑块之间,照明机构的光源穿过基底将流体标记照明,流体标记区域的发光强度不同于非标记区域。3.如权利要求2所述的一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置,其特征是:所述定制滑块和基底的位置能够发生相对变动,且该变动限定于水平方向上。4.如权利要求1或2或3所述的一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴向流速成像测量装置,其特征是:所述定制滑块,为斜楔块状结构,具有上下两个平行水平面,一侧为斜面,流体标记的图像经过该斜面反射,形成虚像。5.如权利要求1或2或3所述的一种定制滑块的摩擦副流体薄膜轴...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩素立郭峰邵晶栗心明杨萍许祯
申请(专利权)人:青岛理工大学
类型:发明
国别省市:山东,37

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