在聚合过程中防止聚合物积垢的方法技术

一种防止带烯双键单体在聚合期间生成的聚合物结垢而沉积于聚合釜里的方法，该聚合反应在内壁已经先涂敷过涂敷液并干燥形成涂层的聚合釜中进行，涂敷液含有（Ａ）单宁和（Ｂ）水溶性聚合物。一种包含组份（Ａ）和组份（Ｂ）的防垢剂；一种内壁具有上述涂层的聚合釜。它可以有效地防止聚合物结垢而沉积于聚合釜的内壁等上面。（*该技术在2010年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种防止聚合物积垢的方法，一种使带有烯双键的单体在聚合期间防止生成的聚合物在聚合釜的内壁等等上面积垢的方法。众所周知，用单体在聚合釜中制备聚合物的过程中，聚合物以积垢的形式沉积在与单体接触的聚合釜的内壁和其他零部件上，例如搅拌桨。在内壁上聚合物的积垢产生诸多不利影响降低聚合物的产量和聚合釜的冷却能力;聚合物结垢可能会脱落并混入成品聚合物里，因而损害聚合物成品的质量;而去除这种聚合物积垢费力又费时。此外，由于聚合物积垢里含有未反应的单体，工作人员有暴露于未反应单体的危险使身体产生不适。迄今已知一些防止聚合物积垢的方法，即给内壁等等涂敷各种材料，而这些材料起着聚合物防垢剂的作用。例如，特殊极性化合物(日本专利公告(kokoku)30343/1970);染料或颜料(日本专利公告(kokoku)30835/1970和24953/1977);芳香胺化合物(日本予审专利公开(KOKAI)50887/1976);酚类化合物与芳香醛的反应产物(日本予审专利公开(KOKAI)54317/1980)。对于要聚合的单体是卤化乙烯，例如氯乙烯，或是含有大量卤化乙烯和少量其他可与之共聚的单本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种使带有烯双键的单体在聚合期间防止所生成的聚合物结垢而沉积于聚合釜内壁的方法，其特征在于，所说的聚合反应是在聚合釜中进行的，该聚合釜内壁已经先涂敷了含有下列组份的涂敷液，并随后干燥形成涂层。（Ａ）单宁（Ｂ）水溶性聚合物。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金子一郎，清水敏秀，上野，渡边雄，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]